Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability
Formation of the flow of the background plasma electrons moving to the electron beam injector at the initial stage of the beam-plasma instability development in the region of maximum HF electric field intensity is demonstrated via 1D computer simulation. Effect is caused by the plasma density profil...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2012 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2012
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109223 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability / D.M. Tanygina, I.O. Anisimov, S.M. Levitsky // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 149-151. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-109223 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Tanygina, D.M. Anisimov, I.O. Levitsky, S.M. 2016-11-21T20:23:28Z 2016-11-21T20:23:28Z 2012 Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability / D.M. Tanygina, I.O. Anisimov, S.M. Levitsky // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 149-151. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.35.Mj, 52.35.Mw, 52.65.Rr https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109223 Formation of the flow of the background plasma electrons moving to the electron beam injector at the initial stage of the beam-plasma instability development in the region of maximum HF electric field intensity is demonstrated via 1D computer simulation. Effect is caused by the plasma density profile deformation due to the pressure of the inhomogeneous HF electric field. С помощью компьютерного моделирования показано, что на начальной стадии развития плазменно- пучковой неустойчивости в области, где достигается максимум интенсивности высокочастотного электрического поля, формируется поток электронов фоновой плазмы, направленный навстречу электронному пучку. Возникновение этого потока связано с начальным этапом деформации профиля концентрации плазмы под воздействием давления неоднородного ВЧ-электрического поля. Шляхом комп'ютерного моделювання показано, що на початковій стадії розвитку плазмово-пучкової нестійкості в області, де досягається максимум інтенсивності високочастотного електричного поля, формується потік електронів фонової плазми, спрямований назустріч електронному пучку. Виникнення цього потоку пов’язане із початковим етапом деформації профілю концентрації плазми під дією тиску неоднорідного ВЧ-електричного поля. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Плазменная электроника Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability Формирование потоков электронов и ионов в фоновой плазме на начальной стадии развития пучково-плазменной неустойчивости Формування потоків електронів та іонів у фоновій плазмі на початковій стадії розвитку пучково-плазмової нестійкості Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability |
| spellingShingle |
Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability Tanygina, D.M. Anisimov, I.O. Levitsky, S.M. Плазменная электроника |
| title_short |
Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability |
| title_full |
Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability |
| title_fullStr |
Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability |
| title_full_unstemmed |
Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability |
| title_sort |
formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability |
| author |
Tanygina, D.M. Anisimov, I.O. Levitsky, S.M. |
| author_facet |
Tanygina, D.M. Anisimov, I.O. Levitsky, S.M. |
| topic |
Плазменная электроника |
| topic_facet |
Плазменная электроника |
| publishDate |
2012 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Формирование потоков электронов и ионов в фоновой плазме на начальной стадии развития пучково-плазменной неустойчивости Формування потоків електронів та іонів у фоновій плазмі на початковій стадії розвитку пучково-плазмової нестійкості |
| description |
Formation of the flow of the background plasma electrons moving to the electron beam injector at the initial stage of the beam-plasma instability development in the region of maximum HF electric field intensity is demonstrated via 1D computer simulation. Effect is caused by the plasma density profile deformation due to the pressure of the inhomogeneous HF electric field.
С помощью компьютерного моделирования показано, что на начальной стадии развития плазменно- пучковой неустойчивости в области, где достигается максимум интенсивности высокочастотного электрического поля, формируется поток электронов фоновой плазмы, направленный навстречу электронному пучку. Возникновение этого потока связано с начальным этапом деформации профиля концентрации плазмы под воздействием давления неоднородного ВЧ-электрического поля.
Шляхом комп'ютерного моделювання показано, що на початковій стадії розвитку плазмово-пучкової нестійкості в області, де досягається максимум інтенсивності високочастотного електричного поля, формується потік електронів фонової плазми, спрямований назустріч електронному пучку. Виникнення цього потоку пов’язане із початковим етапом деформації профілю концентрації плазми під дією тиску неоднорідного ВЧ-електричного поля.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109223 |
| citation_txt |
Formation of electrons’ and ions’ flows in the background plasma at the initial stage of the beam-plasma instability / D.M. Tanygina, I.O. Anisimov, S.M. Levitsky // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 149-151. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT tanyginadm formationofelectronsandionsflowsinthebackgroundplasmaattheinitialstageofthebeamplasmainstability AT anisimovio formationofelectronsandionsflowsinthebackgroundplasmaattheinitialstageofthebeamplasmainstability AT levitskysm formationofelectronsandionsflowsinthebackgroundplasmaattheinitialstageofthebeamplasmainstability AT tanyginadm formirovaniepotokovélektronoviionovvfonovoiplazmenanačalʹnoistadiirazvitiâpučkovoplazmennoineustoičivosti AT anisimovio formirovaniepotokovélektronoviionovvfonovoiplazmenanačalʹnoistadiirazvitiâpučkovoplazmennoineustoičivosti AT levitskysm formirovaniepotokovélektronoviionovvfonovoiplazmenanačalʹnoistadiirazvitiâpučkovoplazmennoineustoičivosti AT tanyginadm formuvannâpotokívelektronívtaíonívufonovíiplazmínapočatkovíistadíírozvitkupučkovoplazmovoínestíikostí AT anisimovio formuvannâpotokívelektronívtaíonívufonovíiplazmínapočatkovíistadíírozvitkupučkovoplazmovoínestíikostí AT levitskysm formuvannâpotokívelektronívtaíonívufonovíiplazmínapočatkovíistadíírozvitkupučkovoplazmovoínestíikostí |
| first_indexed |
2025-12-07T20:22:59Z |
| last_indexed |
2025-12-07T20:22:59Z |
| _version_ |
1850882370090041344 |