Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches

Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches

Wakefield plasma lens, which focuses all relativistic electron bunches of the sequence identically and uniformly, are investigated analytically and by numerical simulation. The necessary conditions of such lens operation are the followings: length of the bunches is ξb=q(λ/2), q=1, 2, …(λ is the plas...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2013
Автори: Maslov, V.I., Onishchenko, I.N., Yarovaya, I.P.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
Теми:
Плазменная электроника
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109273
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches / V.I. Maslov, I.N. Onishchenko, I.P. Yarovaya // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 1. — С. 134-136. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-109273
record_format dspace
spelling Maslov, V.I.
Onishchenko, I.N.
Yarovaya, I.P.
2016-11-22T11:06:05Z
2016-11-22T11:06:05Z
2013
2013
Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches / V.I. Maslov, I.N. Onishchenko, I.P. Yarovaya // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 1. — С. 134-136. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 29.17.+w; 41.75.Lx;
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109273
Wakefield plasma lens, which focuses all relativistic electron bunches of the sequence identically and uniformly, are investigated analytically and by numerical simulation. The necessary conditions of such lens operation are the followings: length of the bunches is ξb=q(λ/2), q=1, 2, …(λ is the plasma wavelength), the distance between bunches is Δξ=pλ, p=1, 2, … All bunches have the same charge and the 1-st bunch has a half of this charge. It is shown that with the exception of 1-st bunch all other bunches are occurred in zero longitudinal wakefield and in uniform along bunch length focusing radial wakefield. In the case of inhomogeneous longitudinal distribution of electron bunch density the middle of bunches are focused slower in comparison with their edges.
Аналитически и численным моделированием исследуется кильватерная плазменная линза, в которой все релятивистские электронные сгустки последовательности фокусируются одинаково и однородно. При этом необходимо, чтобы сгустки имели длины, равные ξb=q(λ/2), q=1, 2, …, скважность между сгустками была равна Δξ=pλ, p=1, 2,…, заряд 1-го сгустка был в два раза меньше зарядов всех остальных сгустков. Показано, что только 1-й сгусток находится в конечном продольном электрическом кильватерном поле Ez≠0. Другие сгустки находятся в Ez=0. Радиальная кильватерная сила Fr в областях расположения сгустков постоянна вдоль сгустков. В случае неоднородного продольного распределения плотности электронных сгустков их середины фокусируются медленнее, чем фронты.
Аналітично і чисельним моделюванням досліджується кільватерна плазмова лінза, в якій усі релятивістські електронні згустки послідовності фокусуються однаково і однорідно. При цьому необхідно, щоб згустки мали довжини, рівні ξb=q(λ/2), q=1, 2, ..., шпаруватість між згустками була рівною Δξ=pλ, p=1, 2,…, заряд 1-го згустка був в два рази менше зарядів усіх інших згустків. Показано, що тільки 1-й згусток знаходиться в кінцевому поздовжньому кільватерному електричному полі Ez≠0. Інші згустки знаходяться в Ez=0. Радіальна кільватерна сила Fr в областях розташування згустків постійна уздовж згустків. У разі неоднорідного поздовжнього розподілу щільності електронних згустків їх середини фокусуються повільніше, ніж фронти.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Плазменная электроника
Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches
Возбуждение кильватерного поля в плазме, обладающего однородной фокусировкой электронных сгустков
Збудження кільватерного поля в плазмі, яке однорідно фокусує електронні згустки
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches
spellingShingle Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches
Maslov, V.I.
Onishchenko, I.N.
Yarovaya, I.P.
Плазменная электроника
title_short Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches
title_full Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches
title_fullStr Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches
title_full_unstemmed Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches
title_sort plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches
author Maslov, V.I.
Onishchenko, I.N.
Yarovaya, I.P.
author_facet Maslov, V.I.
Onishchenko, I.N.
Yarovaya, I.P.
topic Плазменная электроника
topic_facet Плазменная электроника
publishDate 2013
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Возбуждение кильватерного поля в плазме, обладающего однородной фокусировкой электронных сгустков
Збудження кільватерного поля в плазмі, яке однорідно фокусує електронні згустки
description Wakefield plasma lens, which focuses all relativistic electron bunches of the sequence identically and uniformly, are investigated analytically and by numerical simulation. The necessary conditions of such lens operation are the followings: length of the bunches is ξb=q(λ/2), q=1, 2, …(λ is the plasma wavelength), the distance between bunches is Δξ=pλ, p=1, 2, … All bunches have the same charge and the 1-st bunch has a half of this charge. It is shown that with the exception of 1-st bunch all other bunches are occurred in zero longitudinal wakefield and in uniform along bunch length focusing radial wakefield. In the case of inhomogeneous longitudinal distribution of electron bunch density the middle of bunches are focused slower in comparison with their edges. Аналитически и численным моделированием исследуется кильватерная плазменная линза, в которой все релятивистские электронные сгустки последовательности фокусируются одинаково и однородно. При этом необходимо, чтобы сгустки имели длины, равные ξb=q(λ/2), q=1, 2, …, скважность между сгустками была равна Δξ=pλ, p=1, 2,…, заряд 1-го сгустка был в два раза меньше зарядов всех остальных сгустков. Показано, что только 1-й сгусток находится в конечном продольном электрическом кильватерном поле Ez≠0. Другие сгустки находятся в Ez=0. Радиальная кильватерная сила Fr в областях расположения сгустков постоянна вдоль сгустков. В случае неоднородного продольного распределения плотности электронных сгустков их середины фокусируются медленнее, чем фронты. Аналітично і чисельним моделюванням досліджується кільватерна плазмова лінза, в якій усі релятивістські електронні згустки послідовності фокусуються однаково і однорідно. При цьому необхідно, щоб згустки мали довжини, рівні ξb=q(λ/2), q=1, 2, ..., шпаруватість між згустками була рівною Δξ=pλ, p=1, 2,…, заряд 1-го згустка був в два рази менше зарядів усіх інших згустків. Показано, що тільки 1-й згусток знаходиться в кінцевому поздовжньому кільватерному електричному полі Ez≠0. Інші згустки знаходяться в Ez=0. Радіальна кільватерна сила Fr в областях розташування згустків постійна уздовж згустків. У разі неоднорідного поздовжнього розподілу щільності електронних згустків їх середини фокусуються повільніше, ніж фронти.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109273
citation_txt Plasma wakefield excitation providing homogeneous focusing of electron bunches / V.I. Maslov, I.N. Onishchenko, I.P. Yarovaya // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 1. — С. 134-136. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT maslovvi plasmawakefieldexcitationprovidinghomogeneousfocusingofelectronbunches
AT onishchenkoin plasmawakefieldexcitationprovidinghomogeneousfocusingofelectronbunches
AT yarovayaip plasmawakefieldexcitationprovidinghomogeneousfocusingofelectronbunches
AT maslovvi vozbuždeniekilʹvaternogopolâvplazmeobladaûŝegoodnorodnoifokusirovkoiélektronnyhsgustkov
AT onishchenkoin vozbuždeniekilʹvaternogopolâvplazmeobladaûŝegoodnorodnoifokusirovkoiélektronnyhsgustkov
AT yarovayaip vozbuždeniekilʹvaternogopolâvplazmeobladaûŝegoodnorodnoifokusirovkoiélektronnyhsgustkov
AT maslovvi zbudžennâkílʹvaternogopolâvplazmíâkeodnorídnofokusuêelektronnízgustki
AT onishchenkoin zbudžennâkílʹvaternogopolâvplazmíâkeodnorídnofokusuêelektronnízgustki
AT yarovayaip zbudžennâkílʹvaternogopolâvplazmíâkeodnorídnofokusuêelektronnízgustki
first_indexed 2025-12-07T16:52:29Z
last_indexed 2025-12-07T16:52:29Z
_version_ 1850869126762856448

Схожі ресурси