Treatment of polyimide films by an atmospheric pressure plasma of capacitive RF discharge for liquid crystal alignment

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2013
• ISSN: 1562-6016
• Main Authors: Bazhenov, V.Yu., Chaplinskiy, R.Yu., Kravchuk, R.M., Kuzmichev, A.I., Piun, V.M., Tsiolko, V.V., Yaroshchuk, O.V.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
• Subjects: Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109283
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Treatment of polyimide films by an atmospheric pressure plasma of capacitive RF discharge for liquid crystal alignment / V.Yu. Bazhenov, R.Yu. Chaplinskiy, R.M. Kravchuk, A.I. Kuzmichev, V.M. Piun, V.V. Tsiolko, O.V. Yaroshchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 1. — С. 177-179. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Uniform planar alignment of liquid crystals is obtained by polyimide films obliquely treated by a stream of argon plasma from capacitive RF discharge at atmospheric pressure. Two liquid crystal alignment modes are discovered differing by their longitudinal or transverse orientation with respect to treatment direction. Optimum parameters of the treatment for obtaining these orientation modes are determined. Получена однородная планарная ориентация жидких кристаллов полиимидными слоями, наклонно обработанными потоком Ar-плазмы емкостного ВЧ-разряда атмосферного давления. Найдено два типа ориентации жидких кристаллов – вдоль и перпендикулярно направлению обработки. Установлены оптимальные параметры обработки для получения этих ориентационных мод. Одержана однорідна планарна орієнтація рідких кристалів поліімідними шарами, похило обробленими потоком Ar-плазми ємнісного ВЧ-розряду атмосферного тиску. Знайдено два типи орієнтації рідких кристалів – уздовж та перпендикулярно напрямку обробки. Встановлено оптимальні параметри обробки для одержання цих орієнтаційних мод.