ICRF plasmas for fusion reactor applications

The ICRF plasma production technique is considered as a promising alternative tool for the following applications in the present and next generation superconducting fusion devices: (i) Wall conditioning in the presence of permanent high magnetic field; (ii) Assistance for the tokamak start-up at low...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2007
Автори: Lyssoivan, A., Koch, R., Van Eester, D., Van Schoor, M., Van Wassenhove, G., Vervier, M., Weynants, R., Buermans, J., Matthys, T., Esser, H.G., Marchuk, O., Neubauer, O., Philipps, V., Sergienko, G., Bobkov, V., Fahrbach, H.-U., Hartmann, D.A., Herrmann, A., Noterdaeme, J.-M., Rohde, V., Beaumont, B., Gauthier, E., Glazunov, G.P., Lozin, A.V., Moiseenko, V.E., Nazarov, N.I., Shvets, O.M., Stepanov, K.N., Volkov, E.D., Beigman, I.L., Vainshtein, L.A.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2007
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110347
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:ICRF plasmas for fusion reactor applications / A. Lyssoivan, R. Koch, D. Van Eester, M. Van Schoor, G. Van Wassenhove, M. Vervier, R. Weynants, J. Buermans, T. Matthys, H.G. Esser, O. Marchuk, O. Neubauer, V. Philipps, G. Sergienko, V. Bobkov, H.-U. Fahrbach, D.A. Hartmann, A. Herrmann, J.-M. Noterdaeme, V. Rohde, B. Beaumont, E. Gauthier, G.P. Glazunov, A.V. Lozin, V.E. Moiseenko, N.I. Nazarov, O.M. Shvets, K.N. Stepanov, E.D. Volkov, I.L. Beigman, L.A. Vainshtein // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 30-34. — Бібліогр.: 27 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:The ICRF plasma production technique is considered as a promising alternative tool for the following applications in the present and next generation superconducting fusion devices: (i) Wall conditioning in the presence of permanent high magnetic field; (ii) Assistance for the tokamak start-up at low inductive electric field (E₀ ~ 0.3 V/m in ITER); (iii) Target dense plasma production (ne ≥ 10¹⁹ m⁻³) in stellarators. The paper presents a review of the ICRF plasma production technique and its applications in the present-day tokamaks and stellarators. The perspective of the alternative technique applications in ITER is analyzed in the frame of 0-D plasma modeling. ВЧ-метод утворення плазми (ICRF) розглядається як перспективний альтернативний інструмент для таких застосувань у сучасних й майбутніх надпровідних термоядерних установках: (i) ВЧ-чистка стінок в присутності постійного сильного магнітного поля; (ii) Aсистування старту токамака у режимі слабого вихрового електричного поля (E₀~ 0.3 В/м в ITERі); (iii) Створення густої вихідної плазми (ne ≥ 10¹⁹ м⁻³) в стелараторах. Зроблено огляд ВЧ-метода створення плазми та його застосування у сучасних токамаках й стелараторах. В рамках моделювання 0-D плазмовим кодом проведено аналіз перспективності використання даного метода в ITERі. ВЧ-метод создания плазмы (ICRF) рассматривается как перспективный альтернативный инструмент для следующих применений в современных и будущих сверхпроводящих термоядерных установках: (i) ВЧ-чистка стенок в присутствии постоянного сильного магнитного поля; (ii) Aссистирование старту токамака в режиме слабого вихревого электрического поля (E₀ ~ 0.3 В/м в ITERе); (iii) Создание плотной исходной плазмы (ne ≥ 10¹⁹ м⁻³) в стеллараторах. Сделан обзор ВЧ-метода создания плазмы и его применений в современных токамаках и стеллараторах. В рамках моделирования 0-D плазменным кодом проведен анализ перспективности использования данного метода в ITERе.
ISSN:1562-6016