ICRF plasmas for fusion reactor applications
The ICRF plasma production technique is considered as a promising alternative tool for the following applications in the present and next generation superconducting fusion devices: (i) Wall conditioning in the presence of permanent high magnetic field; (ii) Assistance for the tokamak start-up at low...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2007 |
| Main Authors: | , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110347 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | ICRF plasmas for fusion reactor applications / A. Lyssoivan, R. Koch, D. Van Eester, M. Van Schoor, G. Van Wassenhove, M. Vervier, R. Weynants, J. Buermans, T. Matthys, H.G. Esser, O. Marchuk, O. Neubauer, V. Philipps, G. Sergienko, V. Bobkov, H.-U. Fahrbach, D.A. Hartmann, A. Herrmann, J.-M. Noterdaeme, V. Rohde, B. Beaumont, E. Gauthier, G.P. Glazunov, A.V. Lozin, V.E. Moiseenko, N.I. Nazarov, O.M. Shvets, K.N. Stepanov, E.D. Volkov, I.L. Beigman, L.A. Vainshtein // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 30-34. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110347 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Lyssoivan, A. Koch, R. Van Eester, D. Van Schoor, M. Van Wassenhove, G. Vervier, M. Weynants, R. Buermans, J. Matthys, T. Esser, H.G. Marchuk, O. Neubauer, O. Philipps, V. Sergienko, G. Bobkov, V. Fahrbach, H.-U. Hartmann, D.A. Herrmann, A. Noterdaeme, J.-M. Rohde, V. Beaumont, B. Gauthier, E. Glazunov, G.P. Lozin, A.V. Moiseenko, V.E. Nazarov, N.I. Shvets, O.M. Stepanov, K.N. Volkov, E.D. Beigman, I.L. Vainshtein, L.A. 2017-01-03T16:33:01Z 2017-01-03T16:33:01Z 2007 ICRF plasmas for fusion reactor applications / A. Lyssoivan, R. Koch, D. Van Eester, M. Van Schoor, G. Van Wassenhove, M. Vervier, R. Weynants, J. Buermans, T. Matthys, H.G. Esser, O. Marchuk, O. Neubauer, V. Philipps, G. Sergienko, V. Bobkov, H.-U. Fahrbach, D.A. Hartmann, A. Herrmann, J.-M. Noterdaeme, V. Rohde, B. Beaumont, E. Gauthier, G.P. Glazunov, A.V. Lozin, V.E. Moiseenko, N.I. Nazarov, O.M. Shvets, K.N. Stepanov, E.D. Volkov, I.L. Beigman, L.A. Vainshtein // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 30-34. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.25.Jm, 52.35.Hr, 52.40.Fd, 52.40.Hf, 52.50.Qt https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110347 The ICRF plasma production technique is considered as a promising alternative tool for the following applications in the present and next generation superconducting fusion devices: (i) Wall conditioning in the presence of permanent high magnetic field; (ii) Assistance for the tokamak start-up at low inductive electric field (E₀ ~ 0.3 V/m in ITER); (iii) Target dense plasma production (ne ≥ 10¹⁹ m⁻³) in stellarators. The paper presents a review of the ICRF plasma production technique and its applications in the present-day tokamaks and stellarators. The perspective of the alternative technique applications in ITER is analyzed in the frame of 0-D plasma modeling. ВЧ-метод утворення плазми (ICRF) розглядається як перспективний альтернативний інструмент для таких застосувань у сучасних й майбутніх надпровідних термоядерних установках: (i) ВЧ-чистка стінок в присутності постійного сильного магнітного поля; (ii) Aсистування старту токамака у режимі слабого вихрового електричного поля (E₀~ 0.3 В/м в ITERі); (iii) Створення густої вихідної плазми (ne ≥ 10¹⁹ м⁻³) в стелараторах. Зроблено огляд ВЧ-метода створення плазми та його застосування у сучасних токамаках й стелараторах. В рамках моделювання 0-D плазмовим кодом проведено аналіз перспективності використання даного метода в ITERі. ВЧ-метод создания плазмы (ICRF) рассматривается как перспективный альтернативный инструмент для следующих применений в современных и будущих сверхпроводящих термоядерных установках: (i) ВЧ-чистка стенок в присутствии постоянного сильного магнитного поля; (ii) Aссистирование старту токамака в режиме слабого вихревого электрического поля (E₀ ~ 0.3 В/м в ITERе); (iii) Создание плотной исходной плазмы (ne ≥ 10¹⁹ м⁻³) в стеллараторах. Сделан обзор ВЧ-метода создания плазмы и его применений в современных токамаках и стеллараторах. В рамках моделирования 0-D плазменным кодом проведен анализ перспективности использования данного метода в ITERе. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники ITER and fusion reactor aspects ICRF plasmas for fusion reactor applications Застосування ВЧ-плазми у термоядерному реакторі Применение ВЧ-плазмы в термоядерном реакторе Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
ICRF plasmas for fusion reactor applications |
| spellingShingle |
ICRF plasmas for fusion reactor applications Lyssoivan, A. Koch, R. Van Eester, D. Van Schoor, M. Van Wassenhove, G. Vervier, M. Weynants, R. Buermans, J. Matthys, T. Esser, H.G. Marchuk, O. Neubauer, O. Philipps, V. Sergienko, G. Bobkov, V. Fahrbach, H.-U. Hartmann, D.A. Herrmann, A. Noterdaeme, J.-M. Rohde, V. Beaumont, B. Gauthier, E. Glazunov, G.P. Lozin, A.V. Moiseenko, V.E. Nazarov, N.I. Shvets, O.M. Stepanov, K.N. Volkov, E.D. Beigman, I.L. Vainshtein, L.A. ITER and fusion reactor aspects |
| title_short |
ICRF plasmas for fusion reactor applications |
| title_full |
ICRF plasmas for fusion reactor applications |
| title_fullStr |
ICRF plasmas for fusion reactor applications |
| title_full_unstemmed |
ICRF plasmas for fusion reactor applications |
| title_sort |
icrf plasmas for fusion reactor applications |
| author |
Lyssoivan, A. Koch, R. Van Eester, D. Van Schoor, M. Van Wassenhove, G. Vervier, M. Weynants, R. Buermans, J. Matthys, T. Esser, H.G. Marchuk, O. Neubauer, O. Philipps, V. Sergienko, G. Bobkov, V. Fahrbach, H.-U. Hartmann, D.A. Herrmann, A. Noterdaeme, J.-M. Rohde, V. Beaumont, B. Gauthier, E. Glazunov, G.P. Lozin, A.V. Moiseenko, V.E. Nazarov, N.I. Shvets, O.M. Stepanov, K.N. Volkov, E.D. Beigman, I.L. Vainshtein, L.A. |
| author_facet |
Lyssoivan, A. Koch, R. Van Eester, D. Van Schoor, M. Van Wassenhove, G. Vervier, M. Weynants, R. Buermans, J. Matthys, T. Esser, H.G. Marchuk, O. Neubauer, O. Philipps, V. Sergienko, G. Bobkov, V. Fahrbach, H.-U. Hartmann, D.A. Herrmann, A. Noterdaeme, J.-M. Rohde, V. Beaumont, B. Gauthier, E. Glazunov, G.P. Lozin, A.V. Moiseenko, V.E. Nazarov, N.I. Shvets, O.M. Stepanov, K.N. Volkov, E.D. Beigman, I.L. Vainshtein, L.A. |
| topic |
ITER and fusion reactor aspects |
| topic_facet |
ITER and fusion reactor aspects |
| publishDate |
2007 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Застосування ВЧ-плазми у термоядерному реакторі Применение ВЧ-плазмы в термоядерном реакторе |
| description |
The ICRF plasma production technique is considered as a promising alternative tool for the following applications in the present and next generation superconducting fusion devices: (i) Wall conditioning in the presence of permanent high magnetic field; (ii) Assistance for the tokamak start-up at low inductive electric field (E₀ ~ 0.3 V/m in ITER); (iii) Target dense plasma production (ne ≥ 10¹⁹ m⁻³) in stellarators. The paper presents a review of the ICRF plasma production technique and its applications in the present-day tokamaks and stellarators. The perspective of the alternative technique applications in ITER is analyzed in the frame of 0-D plasma modeling.
ВЧ-метод утворення плазми (ICRF) розглядається як перспективний альтернативний інструмент для таких застосувань у сучасних й майбутніх надпровідних термоядерних установках: (i) ВЧ-чистка стінок в присутності постійного сильного магнітного поля; (ii) Aсистування старту токамака у режимі слабого вихрового електричного поля (E₀~ 0.3 В/м в ITERі); (iii) Створення густої вихідної плазми (ne ≥ 10¹⁹ м⁻³) в стелараторах. Зроблено огляд ВЧ-метода створення плазми та його застосування у сучасних токамаках й стелараторах. В рамках моделювання 0-D плазмовим кодом проведено аналіз перспективності використання даного метода в ITERі.
ВЧ-метод создания плазмы (ICRF) рассматривается как перспективный альтернативный инструмент для следующих применений в современных и будущих сверхпроводящих термоядерных установках: (i) ВЧ-чистка стенок в присутствии постоянного сильного магнитного поля; (ii) Aссистирование старту токамака в режиме слабого вихревого электрического поля (E₀ ~ 0.3 В/м в ITERе); (iii) Создание плотной исходной плазмы (ne ≥ 10¹⁹ м⁻³) в стеллараторах. Сделан обзор ВЧ-метода создания плазмы и его применений в современных токамаках и стеллараторах. В рамках моделирования 0-D плазменным кодом проведен анализ перспективности использования данного метода в ITERе.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110347 |
| citation_txt |
ICRF plasmas for fusion reactor applications / A. Lyssoivan, R. Koch, D. Van Eester, M. Van Schoor, G. Van Wassenhove, M. Vervier, R. Weynants, J. Buermans, T. Matthys, H.G. Esser, O. Marchuk, O. Neubauer, V. Philipps, G. Sergienko, V. Bobkov, H.-U. Fahrbach, D.A. Hartmann, A. Herrmann, J.-M. Noterdaeme, V. Rohde, B. Beaumont, E. Gauthier, G.P. Glazunov, A.V. Lozin, V.E. Moiseenko, N.I. Nazarov, O.M. Shvets, K.N. Stepanov, E.D. Volkov, I.L. Beigman, L.A. Vainshtein // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 30-34. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT lyssoivana icrfplasmasforfusionreactorapplications AT kochr icrfplasmasforfusionreactorapplications AT vaneesterd icrfplasmasforfusionreactorapplications AT vanschoorm icrfplasmasforfusionreactorapplications AT vanwassenhoveg icrfplasmasforfusionreactorapplications AT vervierm icrfplasmasforfusionreactorapplications AT weynantsr icrfplasmasforfusionreactorapplications AT buermansj icrfplasmasforfusionreactorapplications AT matthyst icrfplasmasforfusionreactorapplications AT esserhg icrfplasmasforfusionreactorapplications AT marchuko icrfplasmasforfusionreactorapplications AT neubauero icrfplasmasforfusionreactorapplications AT philippsv icrfplasmasforfusionreactorapplications AT sergienkog icrfplasmasforfusionreactorapplications AT bobkovv icrfplasmasforfusionreactorapplications AT fahrbachhu icrfplasmasforfusionreactorapplications AT hartmannda icrfplasmasforfusionreactorapplications AT herrmanna icrfplasmasforfusionreactorapplications AT noterdaemejm icrfplasmasforfusionreactorapplications AT rohdev icrfplasmasforfusionreactorapplications AT beaumontb icrfplasmasforfusionreactorapplications AT gauthiere icrfplasmasforfusionreactorapplications AT glazunovgp icrfplasmasforfusionreactorapplications AT lozinav icrfplasmasforfusionreactorapplications AT moiseenkove icrfplasmasforfusionreactorapplications AT nazarovni icrfplasmasforfusionreactorapplications AT shvetsom icrfplasmasforfusionreactorapplications AT stepanovkn icrfplasmasforfusionreactorapplications AT volkoved icrfplasmasforfusionreactorapplications AT beigmanil icrfplasmasforfusionreactorapplications AT vainshteinla icrfplasmasforfusionreactorapplications AT lyssoivana zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT kochr zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT vaneesterd zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT vanschoorm zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT vanwassenhoveg zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT vervierm zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT weynantsr zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT buermansj zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT matthyst zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT esserhg zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT marchuko zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT neubauero zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT philippsv zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT sergienkog zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT bobkovv zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT fahrbachhu zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT hartmannda zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT herrmanna zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT noterdaemejm zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT rohdev zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT beaumontb zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT gauthiere zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT glazunovgp zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT lozinav zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT moiseenkove zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT nazarovni zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT shvetsom zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT stepanovkn zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT volkoved zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT beigmanil zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT vainshteinla zastosuvannâvčplazmiutermoâdernomureaktorí AT lyssoivana primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT kochr primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT vaneesterd primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT vanschoorm primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT vanwassenhoveg primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT vervierm primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT weynantsr primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT buermansj primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT matthyst primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT esserhg primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT marchuko primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT neubauero primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT philippsv primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT sergienkog primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT bobkovv primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT fahrbachhu primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT hartmannda primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT herrmanna primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT noterdaemejm primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT rohdev primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT beaumontb primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT gauthiere primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT glazunovgp primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT lozinav primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT moiseenkove primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT nazarovni primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT shvetsom primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT stepanovkn primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT volkoved primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT beigmanil primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore AT vainshteinla primenenievčplazmyvtermoâdernomreaktore |
| first_indexed |
2025-11-27T18:32:46Z |
| last_indexed |
2025-11-27T18:32:46Z |
| _version_ |
1850852647026819073 |