Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
Non-self-maintained gaseous discharge, where the vacuum-arc plasma gun is used as a source of supplementary charges, is characterized by a great currents and high values of ionization coefficient. This kind of discharge is well adapted for thermo-chemical treatment of products but still is not appli...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2007 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110501 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition / A.I. Timoshenko, V.S. Taran, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 179-181. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862533343474614272 |
|---|---|
| author | Timoshenko, A.I. Taran, V.S. Tereshin, V.I. |
| author_facet | Timoshenko, A.I. Taran, V.S. Tereshin, V.I. |
| citation_txt | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition / A.I. Timoshenko, V.S. Taran, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 179-181. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Non-self-maintained gaseous discharge, where the vacuum-arc plasma gun is used as a source of supplementary charges, is characterized by a great currents and high values of ionization coefficient. This kind of discharge is well adapted for thermo-chemical treatment of products but still is not applied for a coatings deposition. In this paper we show the possibility of a-C:H films synthesis from a plasma of this discharge. The films obtained have a high transparence and good adhesion to metal and dielectric substrates. In addition, such parameters as temperature and density of electrons, ionization coefficient, plasma potential distribution and ion energy have been determined by probe methods for the plasma of non-self-maintained discharge in both: nitrogen and propane-butane mixture.
Досліджено ряд характеристик плазми двоступінчастого вакуумно-дугового розряду. За допомогою одиночного та двосіткового зонду визначені: температура і концентрація електронів, коефіцієнт іонізації, розподіл потенціалу на розрядному проміжку та енергія іонів. Дані отримано в широкому діапазоні тиску для двох газів: азоту і пропанобутанової суміші. Показана можливість синтезу гідрогенізованих вуглецевих покриттів із плазми газового ступеню двоступінчастого вакуумно-дугового розряду, що збуджується в пропанобутановій суміші.
Исследован ряд характеристик плазмы двухступенчатого вакуумно-дугового разряда. Методом одиночного и двухсеточного зонда определены: температура и плотность электронов, коэффициент ионизации, распределение потенциала в разрядном промежутке и энергия ионов. Данные получены в широком диапазоне давлений для двух газов: азота и пропанобутановой смеси. Показана возможность синтеза гидрогенизированных углеродных покрытий из плазмы газовой ступени двухступенчатого вакуумно-дугового разряда, возбуждаемого в пропанобутановой смеси.
|
| first_indexed | 2025-11-24T06:09:23Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110501 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-11-24T06:09:23Z |
| publishDate | 2007 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Timoshenko, A.I. Taran, V.S. Tereshin, V.I. 2017-01-04T17:03:07Z 2017-01-04T17:03:07Z 2007 Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition / A.I. Timoshenko, V.S. Taran, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 179-181. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110501 Non-self-maintained gaseous discharge, where the vacuum-arc plasma gun is used as a source of supplementary charges, is characterized by a great currents and high values of ionization coefficient. This kind of discharge is well adapted for thermo-chemical treatment of products but still is not applied for a coatings deposition. In this paper we show the possibility of a-C:H films synthesis from a plasma of this discharge. The films obtained have a high transparence and good adhesion to metal and dielectric substrates. In addition, such parameters as temperature and density of electrons, ionization coefficient, plasma potential distribution and ion energy have been determined by probe methods for the plasma of non-self-maintained discharge in both: nitrogen and propane-butane mixture. Досліджено ряд характеристик плазми двоступінчастого вакуумно-дугового розряду. За допомогою одиночного та двосіткового зонду визначені: температура і концентрація електронів, коефіцієнт іонізації, розподіл потенціалу на розрядному проміжку та енергія іонів. Дані отримано в широкому діапазоні тиску для двох газів: азоту і пропанобутанової суміші. Показана можливість синтезу гідрогенізованих вуглецевих покриттів із плазми газового ступеню двоступінчастого вакуумно-дугового розряду, що збуджується в пропанобутановій суміші. Исследован ряд характеристик плазмы двухступенчатого вакуумно-дугового разряда. Методом одиночного и двухсеточного зонда определены: температура и плотность электронов, коэффициент ионизации, распределение потенциала в разрядном промежутке и энергия ионов. Данные получены в широком диапазоне давлений для двух газов: азота и пропанобутановой смеси. Показана возможность синтеза гидрогенизированных углеродных покрытий из плазмы газовой ступени двухступенчатого вакуумно-дугового разряда, возбуждаемого в пропанобутановой смеси. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition Характеристики плазми двоступінчастого вакуумно-дугового розряду та його застосування для нанесення покриттів Характеристики плазмы двухступенчатого вакуумно-дугового разряда и его применение для нанесения покрытий Article published earlier |
| spellingShingle | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition Timoshenko, A.I. Taran, V.S. Tereshin, V.I. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_alt | Характеристики плазми двоступінчастого вакуумно-дугового розряду та його застосування для нанесення покриттів Характеристики плазмы двухступенчатого вакуумно-дугового разряда и его применение для нанесения покрытий |
| title_full | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_fullStr | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_full_unstemmed | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_short | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_sort | plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110501 |
| work_keys_str_mv | AT timoshenkoai plasmacharacteristicsoftwostepvacuumarcdischargeanditsapplicationforacoatingsdeposition AT taranvs plasmacharacteristicsoftwostepvacuumarcdischargeanditsapplicationforacoatingsdeposition AT tereshinvi plasmacharacteristicsoftwostepvacuumarcdischargeanditsapplicationforacoatingsdeposition AT timoshenkoai harakteristikiplazmidvostupínčastogovakuumnodugovogorozrâdutaiogozastosuvannâdlânanesennâpokrittív AT taranvs harakteristikiplazmidvostupínčastogovakuumnodugovogorozrâdutaiogozastosuvannâdlânanesennâpokrittív AT tereshinvi harakteristikiplazmidvostupínčastogovakuumnodugovogorozrâdutaiogozastosuvannâdlânanesennâpokrittív AT timoshenkoai harakteristikiplazmydvuhstupenčatogovakuumnodugovogorazrâdaiegoprimeneniedlânaneseniâpokrytii AT taranvs harakteristikiplazmydvuhstupenčatogovakuumnodugovogorazrâdaiegoprimeneniedlânaneseniâpokrytii AT tereshinvi harakteristikiplazmydvuhstupenčatogovakuumnodugovogorazrâdaiegoprimeneniedlânaneseniâpokrytii |