Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation

Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation

The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in com...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2007
Автори: Pugatch, V.M., Perevertaylo, V.L., Fedorovich, O.A., Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P., Tarasenko, L.I.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2007
Теми:
Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110503
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110503
record_format dspace
spelling Pugatch, V.M.
Perevertaylo, V.L.
Fedorovich, O.A.
Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
Tarasenko, L.I.
2017-01-04T17:08:13Z
2017-01-04T17:08:13Z
2007
Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.77.Bn, 81.65.Cf, 85.40.-e, 85.40.Hp
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110503
The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in comparison with a wet chemical etching, problems arising and possible ways of their elimination are presented.
Приведено детальний опис технології виготовлення елементів мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання (МСМД) з застосуванням плазмохімічного травлення багатошарових структур. Представлено результати застосування плазмохімічної технології виготовлення МСМД, її переваги перед хімічним травленням, а також виникаючі при цьому проблеми та можливі шляхи їх усунення.
Приводится подробное описание изготовления элементов микростриповых металлических детекторов (МСМД) ионизирующих излучений с использованием плазмохимической технологии травления многослойных структур. Показаны результаты использования плазмохимии в технологии изготовления МСМД, её преимущества в сравнении с применением химического травления, а также возникающие при этом проблемы и возможные пути их устранения.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Low temperature plasma and plasma technologies
Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
Плазмові технології виготовлення мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання
Плазменные технологии изготовления микростриповых металлических детекторов ионизирующих излучений
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
spellingShingle Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
Pugatch, V.M.
Perevertaylo, V.L.
Fedorovich, O.A.
Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
Tarasenko, L.I.
Low temperature plasma and plasma technologies
title_short Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_full Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_fullStr Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_full_unstemmed Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_sort plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
author Pugatch, V.M.
Perevertaylo, V.L.
Fedorovich, O.A.
Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
Tarasenko, L.I.
author_facet Pugatch, V.M.
Perevertaylo, V.L.
Fedorovich, O.A.
Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
Tarasenko, L.I.
topic Low temperature plasma and plasma technologies
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
publishDate 2007
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Плазмові технології виготовлення мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання
Плазменные технологии изготовления микростриповых металлических детекторов ионизирующих излучений
description The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in comparison with a wet chemical etching, problems arising and possible ways of their elimination are presented. Приведено детальний опис технології виготовлення елементів мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання (МСМД) з застосуванням плазмохімічного травлення багатошарових структур. Представлено результати застосування плазмохімічної технології виготовлення МСМД, її переваги перед хімічним травленням, а також виникаючі при цьому проблеми та можливі шляхи їх усунення. Приводится подробное описание изготовления элементов микростриповых металлических детекторов (МСМД) ионизирующих излучений с использованием плазмохимической технологии травления многослойных структур. Показаны результаты использования плазмохимии в технологии изготовления МСМД, её преимущества в сравнении с применением химического травления, а также возникающие при этом проблемы и возможные пути их устранения.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110503
citation_txt Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT pugatchvm plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT perevertaylovl plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT fedorovichoa plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT borisenkoag plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT kostineg plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT kruglenkomp plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT polozovbp plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT tarasenkoli plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT pugatchvm plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ
AT perevertaylovl plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ
AT fedorovichoa plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ
AT borisenkoag plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ
AT kostineg plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ
AT kruglenkomp plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ
AT polozovbp plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ
AT tarasenkoli plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ
AT pugatchvm plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii
AT perevertaylovl plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii
AT fedorovichoa plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii
AT borisenkoag plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii
AT kostineg plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii
AT kruglenkomp plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii
AT polozovbp plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii
AT tarasenkoli plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii
first_indexed 2025-12-07T15:28:42Z
last_indexed 2025-12-07T15:28:42Z
_version_ 1850863855821914112

Схожі ресурси