Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in com...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2007 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110503 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862669709667729408 |
|---|---|
| author | Pugatch, V.M. Perevertaylo, V.L. Fedorovich, O.A. Borisenko, A.G. Kostin, E.G. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. Tarasenko, L.I. |
| author_facet | Pugatch, V.M. Perevertaylo, V.L. Fedorovich, O.A. Borisenko, A.G. Kostin, E.G. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. Tarasenko, L.I. |
| citation_txt | Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in comparison with a wet chemical etching, problems arising and possible ways of their elimination are presented.
Приведено детальний опис технології виготовлення елементів мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання (МСМД) з застосуванням плазмохімічного травлення багатошарових структур. Представлено результати застосування плазмохімічної технології виготовлення МСМД, її переваги перед хімічним травленням, а також виникаючі при цьому проблеми та можливі шляхи їх усунення.
Приводится подробное описание изготовления элементов микростриповых металлических детекторов (МСМД) ионизирующих излучений с использованием плазмохимической технологии травления многослойных структур. Показаны результаты использования плазмохимии в технологии изготовления МСМД, её преимущества в сравнении с применением химического травления, а также возникающие при этом проблемы и возможные пути их устранения.
|
| first_indexed | 2025-12-07T15:28:42Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110503 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T15:28:42Z |
| publishDate | 2007 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Pugatch, V.M. Perevertaylo, V.L. Fedorovich, O.A. Borisenko, A.G. Kostin, E.G. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. Tarasenko, L.I. 2017-01-04T17:08:13Z 2017-01-04T17:08:13Z 2007 Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.Bn, 81.65.Cf, 85.40.-e, 85.40.Hp https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110503 The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in comparison with a wet chemical etching, problems arising and possible ways of their elimination are presented. Приведено детальний опис технології виготовлення елементів мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання (МСМД) з застосуванням плазмохімічного травлення багатошарових структур. Представлено результати застосування плазмохімічної технології виготовлення МСМД, її переваги перед хімічним травленням, а також виникаючі при цьому проблеми та можливі шляхи їх усунення. Приводится подробное описание изготовления элементов микростриповых металлических детекторов (МСМД) ионизирующих излучений с использованием плазмохимической технологии травления многослойных структур. Показаны результаты использования плазмохимии в технологии изготовления МСМД, её преимущества в сравнении с применением химического травления, а также возникающие при этом проблемы и возможные пути их устранения. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation Плазмові технології виготовлення мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання Плазменные технологии изготовления микростриповых металлических детекторов ионизирующих излучений Article published earlier |
| spellingShingle | Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation Pugatch, V.M. Perevertaylo, V.L. Fedorovich, O.A. Borisenko, A.G. Kostin, E.G. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. Tarasenko, L.I. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation |
| title_alt | Плазмові технології виготовлення мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання Плазменные технологии изготовления микростриповых металлических детекторов ионизирующих излучений |
| title_full | Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation |
| title_fullStr | Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation |
| title_full_unstemmed | Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation |
| title_short | Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation |
| title_sort | plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110503 |
| work_keys_str_mv | AT pugatchvm plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation AT perevertaylovl plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation AT fedorovichoa plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation AT borisenkoag plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation AT kostineg plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation AT kruglenkomp plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation AT polozovbp plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation AT tarasenkoli plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation AT pugatchvm plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ AT perevertaylovl plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ AT fedorovichoa plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ AT borisenkoag plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ AT kostineg plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ AT kruglenkomp plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ AT polozovbp plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ AT tarasenkoli plazmovítehnologíívigotovlennâmíkrostrípovihmetalevihdetektorívíonízuûčogovipromínûvannâ AT pugatchvm plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii AT perevertaylovl plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii AT fedorovichoa plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii AT borisenkoag plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii AT kostineg plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii AT kruglenkomp plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii AT polozovbp plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii AT tarasenkoli plazmennyetehnologiiizgotovleniâmikrostripovyhmetalličeskihdetektorovioniziruûŝihizlučenii |