Зображення обкладинки

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge

A new solid ion source is described. The ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge produces the beam of various solid ions (B, C, Si, Ti, V, Fe, Ni, Ta, W) which are then extracted by an ion optical accelerating system. In this ion source DC discharge is used for generati...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2003
Автори:	Azarenkov, N.A., Bizyukov, A.A., Bizyukov, I.A., Bobkov, V.V., Kashaba, A.E., Krieger, K., Sereda, K.N., Tarasov, I.K.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2003
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110538
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge / N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, I.A. Bizyukov, V.V. Bobkov, A.E. Kashaba, K. Krieger, K.N. Sereda, I.K. Tarasov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 125-127. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

Capabilities of a new dual beam experiment for simutaneous irradiation of materials with two ion species
за авторством: Bizyukov, I., та інші
Опубліковано: (2005)

Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)

TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Investigation of reflecting discharge with the sectioned metal-hydride hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2005)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Trapped particles influence on the electron production with anomalously high energy
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Glow discharge with a hollow cathode in carbon dioxide
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)

Mechanism of electric potential trap formation due to inject of electron beam into a uniform magnetic field
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)

Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Complex mathematical model and calculation method for high emission gas discharge hollow cathodes
за авторством: Nesterenko, S.Yu., та інші
Опубліковано: (2005)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)

RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Formation and properties of self-consistent Malmberg-Penning trap
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2005)

The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)

Modulation of negatively charged particle flux from penning discharge with metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2023)

Theory of gas discharge maintained by the electromagnetic symmetric surface wave allowing for radial non–uniformity of the magnetized plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Gas discharge in plasma-metal waveguide with varying radius of metal enclosure partially filled by radially non-uniform magnetized plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2020)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Increasing of mass transfer efficiency at magnetron deposition of metal coating
за авторством: Chunadra, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)

Influence of power source type on time dependence of the plasma parameters of a pulse discharge with a hollow cathode
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2022)

Influence of metal hydride hollow cathode on Penning ion source operation
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)

Ion-cyclotron absorption of fast waves in a cylindrical current-carrying plasma
за авторством: Grishanov, N.I., та інші
Опубліковано: (2021)

Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Structure and properties of glow discharge in argon with hollow cathode
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Study of low-pressure discharge by optical emission spectroscopy
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2020)