Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensit...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2003 |
| Hauptverfasser: | , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2003
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110539 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862600975656681472 |
|---|---|
| author | Butenko, V.I. Ivanov, B.I. |
| author_facet | Butenko, V.I. Ivanov, B.I. |
| citation_txt | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well.
Досліджується плазмова лінза Морозова, у котрої магнітні поверхні є еквіпотенціалями електричного поля. Магнітне поле створюється центральним струмовим витком і двома бічними витками, включеними назустріч центральному. У роботі приведені результати комп'ютерного моделювання фокусування іонів з урахуванням їх поздовжнього, радіального й азимутального руху. Розглянуто засоби усунення моментних, геометричних і хроматичних аберацій. Проводиться оптимізація магнітного й електричного полів по величині і розподілу в просторі. Промодельоване вплив дискретного розподілу потенціалу на фокусування іонів і розглянуті пов'язані з цим аберації. Розглянуто комп'ютерну модель двухлінзової ахроматичної системи.
Исследуется плазменная линза Морозова, в которой магнитные поверхности являются эквипотенциалями электрического поля. Магнитное поле создается центральным токовым витком и двумя боковыми витками, включенными навстречу центральному. В работе приведены результаты компьютерного моделирования фокусировки ионов с учетом их продольного, радиального и азимутального движения. Рассмотрены способы устранения моментных, геометрических и хроматических аберраций. Проводится оптимизация магнитного и электрического полей по величине и распределению в пространстве. Промоделировано влияние дискретного распределения потенциала на фокусировку ионов и рассмотрены связанные с этим аберрации. Рассмотрена компьютерная модель двухлинзовой ахроматической системы.
|
| first_indexed | 2025-11-28T01:08:27Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110539 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-11-28T01:08:27Z |
| publishDate | 2003 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Butenko, V.I. Ivanov, B.I. 2017-01-04T18:48:13Z 2017-01-04T18:48:13Z 2003 Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Mj https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110539 It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well. Досліджується плазмова лінза Морозова, у котрої магнітні поверхні є еквіпотенціалями електричного поля. Магнітне поле створюється центральним струмовим витком і двома бічними витками, включеними назустріч центральному. У роботі приведені результати комп'ютерного моделювання фокусування іонів з урахуванням їх поздовжнього, радіального й азимутального руху. Розглянуто засоби усунення моментних, геометричних і хроматичних аберацій. Проводиться оптимізація магнітного й електричного полів по величині і розподілу в просторі. Промодельоване вплив дискретного розподілу потенціалу на фокусування іонів і розглянуті пов'язані з цим аберації. Розглянуто комп'ютерну модель двухлінзової ахроматичної системи. Исследуется плазменная линза Морозова, в которой магнитные поверхности являются эквипотенциалями электрического поля. Магнитное поле создается центральным токовым витком и двумя боковыми витками, включенными навстречу центральному. В работе приведены результаты компьютерного моделирования фокусировки ионов с учетом их продольного, радиального и азимутального движения. Рассмотрены способы устранения моментных, геометрических и хроматических аберраций. Проводится оптимизация магнитного и электрического полей по величине и распределению в пространстве. Промоделировано влияние дискретного распределения потенциала на фокусировку ионов и рассмотрены связанные с этим аберрации. Рассмотрена компьютерная модель двухлинзовой ахроматической системы. The authors would like to thank A.A. Goncharov and I.M. Protsenko for consultations on their lenses en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Plasma electronics Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing Аберації у електромагнітній плазмовій лінзі, запропонованої для фокусування інтенсивних широкоапертурних іонних пучків Аберрации в электромагнитной плазменной линзе, предложенной для фокусировки интенсивных широкоапертурных ионных пучков Article published earlier |
| spellingShingle | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing Butenko, V.I. Ivanov, B.I. Plasma electronics |
| title | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
| title_alt | Аберації у електромагнітній плазмовій лінзі, запропонованої для фокусування інтенсивних широкоапертурних іонних пучків Аберрации в электромагнитной плазменной линзе, предложенной для фокусировки интенсивных широкоапертурных ионных пучков |
| title_full | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
| title_fullStr | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
| title_full_unstemmed | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
| title_short | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
| title_sort | aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
| topic | Plasma electronics |
| topic_facet | Plasma electronics |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110539 |
| work_keys_str_mv | AT butenkovi aberrationsinelectromagneticplasmalensesproposedforintenselargeapertureionbeamfocusing AT ivanovbi aberrationsinelectromagneticplasmalensesproposedforintenselargeapertureionbeamfocusing AT butenkovi aberacííuelektromagnítníiplazmovíilínzízaproponovanoídlâfokusuvannâíntensivnihširokoaperturnihíonnihpučkív AT ivanovbi aberacííuelektromagnítníiplazmovíilínzízaproponovanoídlâfokusuvannâíntensivnihširokoaperturnihíonnihpučkív AT butenkovi aberraciivélektromagnitnoiplazmennoilinzepredložennoidlâfokusirovkiintensivnyhširokoaperturnyhionnyhpučkov AT ivanovbi aberraciivélektromagnitnoiplazmennoilinzepredložennoidlâfokusirovkiintensivnyhširokoaperturnyhionnyhpučkov |