Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing

It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensit...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2003
Main Authors: Butenko, V.I., Ivanov, B.I.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2003
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110539
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110539
record_format dspace
spelling Butenko, V.I.
Ivanov, B.I.
2017-01-04T18:48:13Z
2017-01-04T18:48:13Z
2003
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.40.Mj
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110539
It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well.
Досліджується плазмова лінза Морозова, у котрої магнітні поверхні є еквіпотенціалями електричного поля. Магнітне поле створюється центральним струмовим витком і двома бічними витками, включеними назустріч центральному. У роботі приведені результати комп'ютерного моделювання фокусування іонів з урахуванням їх поздовжнього, радіального й азимутального руху. Розглянуто засоби усунення моментних, геометричних і хроматичних аберацій. Проводиться оптимізація магнітного й електричного полів по величині і розподілу в просторі. Промодельоване вплив дискретного розподілу потенціалу на фокусування іонів і розглянуті пов'язані з цим аберації. Розглянуто комп'ютерну модель двухлінзової ахроматичної системи.
Исследуется плазменная линза Морозова, в которой магнитные поверхности являются эквипотенциалями электрического поля. Магнитное поле создается центральным токовым витком и двумя боковыми витками, включенными навстречу центральному. В работе приведены результаты компьютерного моделирования фокусировки ионов с учетом их продольного, радиального и азимутального движения. Рассмотрены способы устранения моментных, геометрических и хроматических аберраций. Проводится оптимизация магнитного и электрического полей по величине и распределению в пространстве. Промоделировано влияние дискретного распределения потенциала на фокусировку ионов и рассмотрены связанные с этим аберрации. Рассмотрена компьютерная модель двухлинзовой ахроматической системы.
The authors would like to thank A.A. Goncharov and I.M. Protsenko for consultations on their lenses
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Plasma electronics
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
Аберації у електромагнітній плазмовій лінзі, запропонованої для фокусування інтенсивних широкоапертурних іонних пучків
Аберрации в электромагнитной плазменной линзе, предложенной для фокусировки интенсивных широкоапертурных ионных пучков
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
spellingShingle Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
Butenko, V.I.
Ivanov, B.I.
Plasma electronics
title_short Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
title_full Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
title_fullStr Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
title_full_unstemmed Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
title_sort aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
author Butenko, V.I.
Ivanov, B.I.
author_facet Butenko, V.I.
Ivanov, B.I.
topic Plasma electronics
topic_facet Plasma electronics
publishDate 2003
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Аберації у електромагнітній плазмовій лінзі, запропонованої для фокусування інтенсивних широкоапертурних іонних пучків
Аберрации в электромагнитной плазменной линзе, предложенной для фокусировки интенсивных широкоапертурных ионных пучков
description It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well. Досліджується плазмова лінза Морозова, у котрої магнітні поверхні є еквіпотенціалями електричного поля. Магнітне поле створюється центральним струмовим витком і двома бічними витками, включеними назустріч центральному. У роботі приведені результати комп'ютерного моделювання фокусування іонів з урахуванням їх поздовжнього, радіального й азимутального руху. Розглянуто засоби усунення моментних, геометричних і хроматичних аберацій. Проводиться оптимізація магнітного й електричного полів по величині і розподілу в просторі. Промодельоване вплив дискретного розподілу потенціалу на фокусування іонів і розглянуті пов'язані з цим аберації. Розглянуто комп'ютерну модель двухлінзової ахроматичної системи. Исследуется плазменная линза Морозова, в которой магнитные поверхности являются эквипотенциалями электрического поля. Магнитное поле создается центральным токовым витком и двумя боковыми витками, включенными навстречу центральному. В работе приведены результаты компьютерного моделирования фокусировки ионов с учетом их продольного, радиального и азимутального движения. Рассмотрены способы устранения моментных, геометрических и хроматических аберраций. Проводится оптимизация магнитного и электрического полей по величине и распределению в пространстве. Промоделировано влияние дискретного распределения потенциала на фокусировку ионов и рассмотрены связанные с этим аберрации. Рассмотрена компьютерная модель двухлинзовой ахроматической системы.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110539
citation_txt Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT butenkovi aberrationsinelectromagneticplasmalensesproposedforintenselargeapertureionbeamfocusing
AT ivanovbi aberrationsinelectromagneticplasmalensesproposedforintenselargeapertureionbeamfocusing
AT butenkovi aberacííuelektromagnítníiplazmovíilínzízaproponovanoídlâfokusuvannâíntensivnihširokoaperturnihíonnihpučkív
AT ivanovbi aberacííuelektromagnítníiplazmovíilínzízaproponovanoídlâfokusuvannâíntensivnihširokoaperturnihíonnihpučkív
AT butenkovi aberraciivélektromagnitnoiplazmennoilinzepredložennoidlâfokusirovkiintensivnyhširokoaperturnyhionnyhpučkov
AT ivanovbi aberraciivélektromagnitnoiplazmennoilinzepredložennoidlâfokusirovkiintensivnyhširokoaperturnyhionnyhpučkov
first_indexed 2025-11-28T01:08:27Z
last_indexed 2025-11-28T01:08:27Z
_version_ 1850853112671109120