Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора

Представлен обзор свойств пучково-плазменного разряда, позволяющих использовать его в качестве плазменного реактора для низкоэнергетического травления поверхности полупроводниковых материалов. Проведены эксперименты по изучению функции распределения ионов на периферии пучково-плазменного разряда и н...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2008
Main Authors: Шустин, Е.Г., Исаев, Н.В., Темирязева, М.П., Тараканов, В.П., Федоров, Ю.В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2008
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110571
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора / Е.Г. Шустин, Н.В. Исаев, М.П. Темирязева, В.П. Тараканов, Ю.В. Федоров // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 4. — С. 169-173. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110571
record_format dspace
spelling Шустин, Е.Г.
Исаев, Н.В.
Темирязева, М.П.
Тараканов, В.П.
Федоров, Ю.В.
2017-01-04T19:50:23Z
2017-01-04T19:50:23Z
2008
Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора / Е.Г. Шустин, Н.В. Исаев, М.П. Темирязева, В.П. Тараканов, Ю.В. Федоров // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 4. — С. 169-173. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110571
533.933
Представлен обзор свойств пучково-плазменного разряда, позволяющих использовать его в качестве плазменного реактора для низкоэнергетического травления поверхности полупроводниковых материалов. Проведены эксперименты по изучению функции распределения ионов на периферии пучково-плазменного разряда и на поверхности образца, подвергаемого травлению. На основе компьютерных и физических экспериментов разработаны способы и технические средства управления энергией и плотностью ионного потока. Определены основные технологические характеристики режимов травления гетероструктур на основе арсенида галлия. Обсуждаются проблемы построения теории пучково-плазменного разряда в замкнутой системе.
Представлено огляд властивостей пучково-плазмового розряду, що дозволяють використовувати його в якості плазмового реактора для низькоенергетичного травлення поверхні напівпровідникових матеріалів. Проведено експерименти по вивченню функції розподілу іонів на периферії пучково-плазмового розряду і на поверхні зразка, що піддається травленню На основі комп'ютерних і фізичних експериментів розроблені способи і технічні засоби керування енергією і щільністю іонного потоку. Визначено основні технологічні характеристики режимів травлення гетероструктур на основі арсеніду галію. Обговорюються проблеми побудови теорії пучково-плазмового розряду в замкнутій системі.
The review of properties of beam plasma discharge (BPD) permitting to use it as plasma processing reactor for low energy etching of a surface of semiconducting materials is submitted. The experiments on learning a distribution function of ions on periphery of BPD and on a surface of a sample subjected to etching have been carried out. On the basis of computer and physical experiments the means of control of energy and density of an ion flow have been designed. The main technical characteristics of modes of etching of heterostructures on the basis of gallium arsenide are determined. The problems of construction of the theory of BPD in a bounded system are considered.
Работа выполнена при финансовой поддержке РФФИ (гранты №04-02-97257, 07-08-00014).
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
Пучково-плазмовий розряд у слабкому магнітному полі як джерело плазми для плазмохімічного реактора
Beam plasma discharge at low magnetic field as a plasma source for a plasma processing reactor
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
spellingShingle Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
Шустин, Е.Г.
Исаев, Н.В.
Темирязева, М.П.
Тараканов, В.П.
Федоров, Ю.В.
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
title_short Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
title_full Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
title_fullStr Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
title_full_unstemmed Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
title_sort пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
author Шустин, Е.Г.
Исаев, Н.В.
Темирязева, М.П.
Тараканов, В.П.
Федоров, Ю.В.
author_facet Шустин, Е.Г.
Исаев, Н.В.
Темирязева, М.П.
Тараканов, В.П.
Федоров, Ю.В.
topic Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
topic_facet Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
publishDate 2008
language Russian
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Пучково-плазмовий розряд у слабкому магнітному полі як джерело плазми для плазмохімічного реактора
Beam plasma discharge at low magnetic field as a plasma source for a plasma processing reactor
description Представлен обзор свойств пучково-плазменного разряда, позволяющих использовать его в качестве плазменного реактора для низкоэнергетического травления поверхности полупроводниковых материалов. Проведены эксперименты по изучению функции распределения ионов на периферии пучково-плазменного разряда и на поверхности образца, подвергаемого травлению. На основе компьютерных и физических экспериментов разработаны способы и технические средства управления энергией и плотностью ионного потока. Определены основные технологические характеристики режимов травления гетероструктур на основе арсенида галлия. Обсуждаются проблемы построения теории пучково-плазменного разряда в замкнутой системе. Представлено огляд властивостей пучково-плазмового розряду, що дозволяють використовувати його в якості плазмового реактора для низькоенергетичного травлення поверхні напівпровідникових матеріалів. Проведено експерименти по вивченню функції розподілу іонів на периферії пучково-плазмового розряду і на поверхні зразка, що піддається травленню На основі комп'ютерних і фізичних експериментів розроблені способи і технічні засоби керування енергією і щільністю іонного потоку. Визначено основні технологічні характеристики режимів травлення гетероструктур на основі арсеніду галію. Обговорюються проблеми побудови теорії пучково-плазмового розряду в замкнутій системі. The review of properties of beam plasma discharge (BPD) permitting to use it as plasma processing reactor for low energy etching of a surface of semiconducting materials is submitted. The experiments on learning a distribution function of ions on periphery of BPD and on a surface of a sample subjected to etching have been carried out. On the basis of computer and physical experiments the means of control of energy and density of an ion flow have been designed. The main technical characteristics of modes of etching of heterostructures on the basis of gallium arsenide are determined. The problems of construction of the theory of BPD in a bounded system are considered.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110571
citation_txt Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора / Е.Г. Шустин, Н.В. Исаев, М.П. Темирязева, В.П. Тараканов, Ю.В. Федоров // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 4. — С. 169-173. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT šustineg pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora
AT isaevnv pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora
AT temirâzevamp pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora
AT tarakanovvp pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora
AT fedorovûv pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora
AT šustineg pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora
AT isaevnv pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora
AT temirâzevamp pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora
AT tarakanovvp pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora
AT fedorovûv pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora
AT šustineg beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor
AT isaevnv beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor
AT temirâzevamp beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor
AT tarakanovvp beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor
AT fedorovûv beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor
first_indexed 2025-12-07T16:36:45Z
last_indexed 2025-12-07T16:36:45Z
_version_ 1850868137342271488