Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора
Представлен обзор свойств пучково-плазменного разряда, позволяющих использовать его в качестве плазменного реактора для низкоэнергетического травления поверхности полупроводниковых материалов. Проведены эксперименты по изучению функции распределения ионов на периферии пучково-плазменного разряда и н...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2008 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2008
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110571 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора / Е.Г. Шустин, Н.В. Исаев, М.П. Темирязева, В.П. Тараканов, Ю.В. Федоров // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 4. — С. 169-173. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862699821851213824 |
|---|---|
| author | Шустин, Е.Г. Исаев, Н.В. Темирязева, М.П. Тараканов, В.П. Федоров, Ю.В. |
| author_facet | Шустин, Е.Г. Исаев, Н.В. Темирязева, М.П. Тараканов, В.П. Федоров, Ю.В. |
| citation_txt | Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора / Е.Г. Шустин, Н.В. Исаев, М.П. Темирязева, В.П. Тараканов, Ю.В. Федоров // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 4. — С. 169-173. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Представлен обзор свойств пучково-плазменного разряда, позволяющих использовать его в качестве плазменного реактора для низкоэнергетического травления поверхности полупроводниковых материалов. Проведены эксперименты по изучению функции распределения ионов на периферии пучково-плазменного разряда и на поверхности образца, подвергаемого травлению. На основе компьютерных и физических экспериментов разработаны способы и технические средства управления энергией и плотностью ионного потока. Определены основные технологические характеристики режимов травления гетероструктур на основе арсенида галлия. Обсуждаются проблемы построения теории пучково-плазменного разряда в замкнутой системе.
Представлено огляд властивостей пучково-плазмового розряду, що дозволяють використовувати його в якості плазмового реактора для низькоенергетичного травлення поверхні напівпровідникових матеріалів. Проведено експерименти по вивченню функції розподілу іонів на периферії пучково-плазмового розряду і на поверхні зразка, що піддається травленню На основі комп'ютерних і фізичних експериментів розроблені способи і технічні засоби керування енергією і щільністю іонного потоку. Визначено основні технологічні характеристики режимів травлення гетероструктур на основі арсеніду галію. Обговорюються проблеми побудови теорії пучково-плазмового розряду в замкнутій системі.
The review of properties of beam plasma discharge (BPD) permitting to use it as plasma processing reactor for low energy etching of a surface of semiconducting materials is submitted. The experiments on learning a distribution function of ions on periphery of BPD and on a surface of a sample subjected to etching have been carried out. On the basis of computer and physical experiments the means of control of energy and density of an ion flow have been designed. The main technical characteristics of modes of etching of heterostructures on the basis of gallium arsenide are determined. The problems of construction of the theory of BPD in a bounded system are considered.
|
| first_indexed | 2025-12-07T16:36:45Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110571 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T16:36:45Z |
| publishDate | 2008 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Шустин, Е.Г. Исаев, Н.В. Темирязева, М.П. Тараканов, В.П. Федоров, Ю.В. 2017-01-04T19:50:23Z 2017-01-04T19:50:23Z 2008 Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора / Е.Г. Шустин, Н.В. Исаев, М.П. Темирязева, В.П. Тараканов, Ю.В. Федоров // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 4. — С. 169-173. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110571 533.933 Представлен обзор свойств пучково-плазменного разряда, позволяющих использовать его в качестве плазменного реактора для низкоэнергетического травления поверхности полупроводниковых материалов. Проведены эксперименты по изучению функции распределения ионов на периферии пучково-плазменного разряда и на поверхности образца, подвергаемого травлению. На основе компьютерных и физических экспериментов разработаны способы и технические средства управления энергией и плотностью ионного потока. Определены основные технологические характеристики режимов травления гетероструктур на основе арсенида галлия. Обсуждаются проблемы построения теории пучково-плазменного разряда в замкнутой системе. Представлено огляд властивостей пучково-плазмового розряду, що дозволяють використовувати його в якості плазмового реактора для низькоенергетичного травлення поверхні напівпровідникових матеріалів. Проведено експерименти по вивченню функції розподілу іонів на периферії пучково-плазмового розряду і на поверхні зразка, що піддається травленню На основі комп'ютерних і фізичних експериментів розроблені способи і технічні засоби керування енергією і щільністю іонного потоку. Визначено основні технологічні характеристики режимів травлення гетероструктур на основі арсеніду галію. Обговорюються проблеми побудови теорії пучково-плазмового розряду в замкнутій системі. The review of properties of beam plasma discharge (BPD) permitting to use it as plasma processing reactor for low energy etching of a surface of semiconducting materials is submitted. The experiments on learning a distribution function of ions on periphery of BPD and on a surface of a sample subjected to etching have been carried out. On the basis of computer and physical experiments the means of control of energy and density of an ion flow have been designed. The main technical characteristics of modes of etching of heterostructures on the basis of gallium arsenide are determined. The problems of construction of the theory of BPD in a bounded system are considered. Работа выполнена при финансовой поддержке
 РФФИ (гранты №04-02-97257, 07-08-00014). ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора Пучково-плазмовий розряд у слабкому магнітному полі як джерело плазми для плазмохімічного реактора Beam plasma discharge at low magnetic field as a plasma source for a plasma processing reactor Article published earlier |
| spellingShingle | Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора Шустин, Е.Г. Исаев, Н.В. Темирязева, М.П. Тараканов, В.П. Федоров, Ю.В. Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
| title | Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора |
| title_alt | Пучково-плазмовий розряд у слабкому магнітному полі як джерело плазми для плазмохімічного реактора Beam plasma discharge at low magnetic field as a plasma source for a plasma processing reactor |
| title_full | Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора |
| title_fullStr | Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора |
| title_full_unstemmed | Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора |
| title_short | Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора |
| title_sort | пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора |
| topic | Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
| topic_facet | Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110571 |
| work_keys_str_mv | AT šustineg pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora AT isaevnv pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora AT temirâzevamp pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora AT tarakanovvp pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora AT fedorovûv pučkovoplazmennyirazrâdvslabommagnitnompolekakistočnikplazmydlâplazmohimičeskogoreaktora AT šustineg pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora AT isaevnv pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora AT temirâzevamp pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora AT tarakanovvp pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora AT fedorovûv pučkovoplazmoviirozrâduslabkomumagnítnomupolíâkdžereloplazmidlâplazmohímíčnogoreaktora AT šustineg beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor AT isaevnv beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor AT temirâzevamp beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor AT tarakanovvp beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor AT fedorovûv beamplasmadischargeatlowmagneticfieldasaplasmasourceforaplasmaprocessingreactor |