Fedorchenko, V., Chebotarev, V., Medvedev, A., & Tereshin, V. (2007). Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source. Вопросы атомной науки и техники.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Fedorchenko, V.D, V.V Chebotarev, A.V Medvedev, та V.I Tereshin. "Deposition of Refractory Metal Films with Planar Plasma ECR Source." Вопросы атомной науки и техники 2007.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Fedorchenko, V.D, et al. "Deposition of Refractory Metal Films with Planar Plasma ECR Source." Вопросы атомной науки и техники, 2007.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.