Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
Basic problems arising at the processing of the insulation of p-n transition of photo converters at the conditions of batch production with the use of the industrial plant "Carter" are determined. The way of elimination of these problems is shown. The modernized plant "Carter" ha...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2007 |
| Автори: | Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Lukomskij, D.V., Marinenko, A.A., Polozov, B.P. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110578 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters/ O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, D.V. Lukomskij, A.A. Marinenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 203-205. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
за авторством: Pugatch, V.M., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Pugatch, V.M., та інші
Опубліковано: (2007)
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2009)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)
Reforming of ethanol in plasma-catalytic system with dc and ac rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Plasma-catalytic reforming of rich ethanol-air mixtures
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma-catalytic system with wide-aperture rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)
The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
Technological accelerator with closed electron drift for surface treatment
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Dc glow discharge for synthesis diamond films with high growth rate
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Influence of dielectric barrier discharge on beet seeds germination
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2023)
“String” type of barrierless plasma chemical reactor for generation ozone from air
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Experimental and numerical studies of pressure and gap length effects on energy deposition in spark discharge
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2021)
Multibeam system simulation
за авторством: Martynenko, P.A.
Опубліковано: (2019)
за авторством: Martynenko, P.A.
Опубліковано: (2019)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Impact of corona discharge on Aspergillus niger spores and Cyathus olla mycelium growth
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2020)
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Dusty discharges with secondary electron emission
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)
Influence of wide-aperture rotating gliding discharge on sunflower seed germination
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Plasma of electric arc discharge between Cu-Mo electrodes
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
On the influence of metal impurities on the thermal contraction of a nitrogen arc
за авторством: Porytskyy, P. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Porytskyy, P. V., та інші
Опубліковано: (2006)
Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
Growth of raileigh-taylor type instability on the surface of discharge channel in liquid
за авторством: Kononov, A.V., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Kononov, A.V., та інші
Опубліковано: (2000)
Application of bipolar plasma discharge over the liquid surface for water purification from chemical and bacterial pollution
за авторством: Liesnoi, V.O., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Liesnoi, V.O., та інші
Опубліковано: (2019)
Development of multi-purpose portable air ozonator based on surface DBD
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2021)
Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
Functional protective ZrN coatings on implants for trauma surgery
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
Ozone generator based on surface dielectric barrier discharge with pulse power supply
за авторством: Lozina, A.S., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Lozina, A.S., та інші
Опубліковано: (2023)
Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
Hardware and software complex for measuring hard X-ray radiation on the torsatron “Uragan-2M”
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2021)
Forming a unipolar pulsed discharge in nitrogen
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2016)
Схожі ресурси
-
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010) -
Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
за авторством: Pugatch, V.M., та інші
Опубліковано: (2007) -
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2009) -
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)