Transport processes in the low pressure gas discharge plasma
Plasma technologies for the film deposition and etching based on the ion flows application are intensively elaborated and used now. Some of the most important requirements imposed on the ion flows are homogeneity and monoenergeticity, what necessitate the analysis of processes of particles flow form...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2003 |
| Автори: | Azarenkov, N.A., Bizjukov, A.A., Gapon, A.V. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2003
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110612 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Transport processes in the low pressure gas discharge plasma / N.A. Azarenkov, A.A. Bizjukov, A.V. Gapon // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 153-156. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Kinetics of processes in air plasma discharges at atmospheric pressure in the transverse flow of gas
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma generation in the low- pressure gas D.C. discharge with a simple example of the noble gas system
за авторством: Kurbatov, P.F.
Опубліковано: (2007)
за авторством: Kurbatov, P.F.
Опубліковано: (2007)
The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Emission characteristics of gas discharge plasma on mixtures of cadmium diodide vapor, helium and xenon
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)
The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)
Coagulation and dynamics nanoparticles in low pressure plasma jets
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma chemistry of SOx in a pulsed electric discharge at atmosphere pressure
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Two-stream nonlinear langmuir oscillations
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
Potential part of electric field of ICP coil
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.N., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Deryzemlia, A.N., та інші
Опубліковано: (2019)
Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Kinetic simulaton of CO₂ conversion in low-pressure electrodeless plasma
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2022)
Plasma of electric arc discharge between copper electrodes in a gas flow
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2008)
Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)
Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
Spectroscopy of electric arc discharge plasma with admixtures of W, Mo, Cr
за авторством: Lebid, A.V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Lebid, A.V., та інші
Опубліковано: (2016)
Optical properties and some applications of plasma–liquid system with discharge in the gas canal with liquid wall
за авторством: Veremii, Iu.P., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Veremii, Iu.P., та інші
Опубліковано: (2006)
The influence of nitrogen admixture on concentration of an electronic–excited helium atoms in atmospheric pressure glow discharge
за авторством: Arkhipenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Arkhipenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Plasma of underwater electric discharges with metal vapors
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)
DC gas breakdown and townsend discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)
High-voltage gas-discharge current limiter-interrupter using high-density glow discharge
за авторством: Drozd, I.M., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Drozd, I.M., та інші
Опубліковано: (2016)
ARC discharge in a cross flow of gas
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)
Plasma-catalytic system with narrow-aperture rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Plasma-catalytic system with wide-aperture rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Plasma of electric arc discharge between Cu-Mo electrodes
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Babich, I.L., та інші
Опубліковано: (2007)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
High frequency pulsation of high-voltage gas discharges
за авторством: Chyhin, V.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Chyhin, V.
Опубліковано: (2005)
Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)
Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
On the properties of the nonideal plasma of electrical pulse discharges in water
за авторством: Starchyk, P.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Starchyk, P.D., та інші
Опубліковано: (2008)
Peculiarities of interaction of Cu-W composite materials with thermal arc discharge plasma
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Murmantsev, A., та інші
Опубліковано: (2022)
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Reforming of ethanol in plasma-catalytic system with dc and ac rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Схожі ресурси
-
Kinetics of processes in air plasma discharges at atmospheric pressure in the transverse flow of gas
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019) -
Plasma generation in the low- pressure gas D.C. discharge with a simple example of the noble gas system
за авторством: Kurbatov, P.F.
Опубліковано: (2007) -
The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003) -
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022) -
Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)