Зображення обкладинки

The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght

The PR-1 device is the wide-aperture source of homogeneous plasma. It is using for plasma processing of big diameter samples such as parts of HF antenna and elements of vessel of fusion devices. The paper presented deals with investigation of HF field pattern of the operation regime with external ma...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2003
Автори:	Grekov, D.L., Azarenkov, N.A., Bizyukov, A.A., Olefir, V.P.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2003
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110618
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght / D.L. Grekov, N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, V.P. Olefir // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 133-136. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)

Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)

Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Design and investigation of HF-ozonators
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2000)

Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2016)

Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Ion crystal formation in nonequilibrium dusty plasmas near electrode or electric probe
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Two-stream nonlinear langmuir oscillations
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)

Plasma-catalytic reforming of rich ethanol-air mixtures
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Emission characteristics of gas discharge plasma on mixtures of cadmium diodide vapor, helium and xenon
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Shock alloying of metals by cumulative plasma streams
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)

Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)

Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Reforming of ethanol in plasma-catalytic system with dc and ac rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)

The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)

Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)

Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)

Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)

Application of high energy plasma for smart thermal processing
за авторством: Kobayashi, A.
Опубліковано: (2005)

The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma of underwater electric discharges with metal vapors
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)