Эрозионное поведение материалов на основе вольфрама
Приводятся результаты исследований эрозионного поведения материалов на основе вольфрама, изготовленных с использованием различных технологий (горячее прессование в вакууме, вакуумно-дуговое нанесение покрытий, химическое осаждение паров) при облучении плазмой стационарного разряда Пеннинга. Наводять...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2007 |
| Автори: | , , , , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110722 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Эрозионное поведение материалов на основе вольфрама / Г.П. Глазунов, A.A. Андреев, М.Н. Бондаренко, E.Д. Волков, A.Л. Koнотопский, Р. Козий, И.М. Неклюдов, Н.П. Одейчук, A.П. Патокин, С.Ю. Саенко, А.Е. Сурков, A. Хассанейн // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 4. — С. 88-93. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Приводятся результаты исследований эрозионного поведения материалов на основе вольфрама, изготовленных с использованием различных технологий (горячее прессование в вакууме, вакуумно-дуговое нанесение покрытий, химическое осаждение паров) при облучении плазмой стационарного разряда Пеннинга.
Наводяться результати досліджень ерозійної поведінки матеріалів на основі вольфраму, виготовлених з використанням різних технологій (гаряче пресування у вакуумі, вакуумно-дугове нанесення покриттів, хімічне осадження парів) при опромінюванні плазмою стаціонарного розряду Пеннінгу.
It is presented in this work the results of the erosion behavior examination of the materials on the basis of tungsten which have been produced with the use of different technologies (vacuum-arc coating deposition, chemical vapor deposition, hot pressing in a vacuum) under steady state Penning discharge plasma irradiation.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |