Эрозионное поведение материалов на основе вольфрама
Приводятся результаты исследований эрозионного поведения материалов на основе вольфрама, изготовленных с использованием различных технологий (горячее прессование в вакууме, вакуумно-дуговое нанесение покрытий, химическое осаждение паров) при облучении плазмой стационарного разряда Пеннинга. Наводять...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2007 |
| ISSN: | 1562-6016 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110722 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Эрозионное поведение материалов на основе вольфрама / Г.П. Глазунов, A.A. Андреев, М.Н. Бондаренко, E.Д. Волков, A.Л. Koнотопский, Р. Козий, И.М. Неклюдов, Н.П. Одейчук, A.П. Патокин, С.Ю. Саенко, А.Е. Сурков, A. Хассанейн // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 4. — С. 88-93. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | Приводятся результаты исследований эрозионного поведения материалов на основе вольфрама, изготовленных с использованием различных технологий (горячее прессование в вакууме, вакуумно-дуговое нанесение покрытий, химическое осаждение паров) при облучении плазмой стационарного разряда Пеннинга.
Наводяться результати досліджень ерозійної поведінки матеріалів на основі вольфраму, виготовлених з використанням різних технологій (гаряче пресування у вакуумі, вакуумно-дугове нанесення покриттів, хімічне осадження парів) при опромінюванні плазмою стаціонарного розряду Пеннінгу.
It is presented in this work the results of the erosion behavior examination of the materials on the basis of tungsten which have been produced with the use of different technologies (vacuum-arc coating deposition, chemical vapor deposition, hot pressing in a vacuum) under steady state Penning discharge plasma irradiation.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |