Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения

Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения

Показана возможность формирования нанослойных TiNx/CrNx-покрытий методом вакуумно-дугового осаждения на плоскость конденсации, которая, вращаясь вокруг оси камеры установки типа «Булат», последовательно пересекает осаждаемые плазменные потоки, генерируемые тремя испарителями. На основе модели расчет...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2007
Hauptverfasser: Кунченко, Ю.В., Кунченко, В.В., Неклюдов, И.М., Картмазов, Г.Н., Андреев, А.А.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2007
Schlagworte:
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110739
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения / Ю.В. Кунченко, В.В. Кунченко, И.М. Неклюдов, Г.Н. Картмазов, А.А. Андреев // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 2. — С. 203-214. — Бібліогр.: 26 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110739
record_format dspace
spelling Кунченко, Ю.В.
Кунченко, В.В.
Неклюдов, И.М.
Картмазов, Г.Н.
Андреев, А.А.
2017-01-06T09:32:15Z
2017-01-06T09:32:15Z
2007
Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения / Ю.В. Кунченко, В.В. Кунченко, И.М. Неклюдов, Г.Н. Картмазов, А.А. Андреев // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 2. — С. 203-214. — Бібліогр.: 26 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110739
621.793.1,620.18,163.4
Показана возможность формирования нанослойных TiNx/CrNx-покрытий методом вакуумно-дугового осаждения на плоскость конденсации, которая, вращаясь вокруг оси камеры установки типа «Булат», последовательно пересекает осаждаемые плазменные потоки, генерируемые тремя испарителями. На основе модели расчета скоростей осаждения (толщины) покрытий определены геометрические параметры, позволяющие формировать слоистые структуры в нанометровом диапазоне. Установлены закономерности изменений фазово-структурных характеристик, сжимающих макронапряжений (σ), микротвердости (HV) получаемых покрытий от давления азота (PN = 0.001...1.0 Па), ускоряющего потенциала подложки (U = - 100...- 300 В) и зависящей от него температуры конденсации (ТК = 330...750 °С) при напряженности фокусирующего магнитного поля (НФ = 0; 35 и 100 Э), определяющего соответствующие значения плотности ионного тока (j ≈ 5; 8…10 и ≥ 15 мА/см2). Установлен немонотонный характер зависимости HV от температуры конденсации и отжига в вакууме с максимумом значений ~ 35 ... 37 ГПа в области 450...500 °С.
Доведено можливість формування наношарових TiNx/CrNx-покриттів методом вакуумно-дугового осадження на площину конденсації, яка обертається навколо вісі камери установки типу «Булат», послідовно перетинаючи плазмові струмені, які генеруються трьома вакуумно-дуговими випромінювачами. На основі моделі розрахунку швидкостей осадження (товщини) покриттів встановлено геометрічні параметри, які дозволяють формувати шарові структури у нанометровому диапазоні. Знайдено закономірності зміни фазово-структурних характеристик покриттів, стискуючих макронапружень (σ) та мікротвердості (HV) в залежності від тиску азоту (PN = 0.001 ... 1.0 Па), прискорюючого потенціалу підкладенки (U = - 100 ... - 300 В) та залежної від нього температури осадження (ТК = 330 ... 750 °С) при напружності фокусуючого магнітного поля (НФ = 0; 35 и 100 Э), яке визначає відповідні значення густини іонного струму (j ≈ 5; 8…10 та ≥ 15 мА/см2). Встановлено немонотонний вигляд залежності HV від температури осадження та відпалення у вакуумі з максимумом ~ 30 ... 34 ГПа в межах 450 ... 500 °С.
A possibility is demonstrated for nanolayer TiNx/CrNx coating formation by the method of vacuum-arc deposition on the substrate, which being rotated around the “Bulat”-type chamber axis intercepts sequentially the plasma flows generated by three evaporators. The model for calculating the coating deposition rate (thickness) was used to determine the geometrical parameters that provide the formation of layer structures in the nanometer range. The variations of phase-structure characteristics, compression microstresses (σ), microhardness (HV) of the coatings formed have been investigated as functions of nitrogen pressure (PN = 0.001 ... 1.0 Pa), bias voltage (U = - 100...- 300 V) and condensation temperature (TC = 330...750°C) at focusing magnetic field strengths HF = 0; 35 and 100 Oe. The mentioned field strengths were responsible for the ion current densities (j ≈ 5, 8... 10 and ≥15 mA/cm2). A nonmonotonic behavior of HV as a function of condensation temperature and of vacuum annealing temperature has been established. The maximum HV values (~35 ... 37GPa) were observed in the 450 ... 500°C range.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения
Шаруваті Ti-Cr–N покриття, здобуті методом вакуумно-дугового осадження
Multilayer Ti-Cr-N coatings produced by the vacuum-arc deposition
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения
spellingShingle Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения
Кунченко, Ю.В.
Кунченко, В.В.
Неклюдов, И.М.
Картмазов, Г.Н.
Андреев, А.А.
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title_short Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения
title_full Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения
title_fullStr Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения
title_full_unstemmed Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения
title_sort слоистые ti-cr–n-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения
author Кунченко, Ю.В.
Кунченко, В.В.
Неклюдов, И.М.
Картмазов, Г.Н.
Андреев, А.А.
author_facet Кунченко, Ю.В.
Кунченко, В.В.
Неклюдов, И.М.
Картмазов, Г.Н.
Андреев, А.А.
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
publishDate 2007
language Russian
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Шаруваті Ti-Cr–N покриття, здобуті методом вакуумно-дугового осадження
Multilayer Ti-Cr-N coatings produced by the vacuum-arc deposition
description Показана возможность формирования нанослойных TiNx/CrNx-покрытий методом вакуумно-дугового осаждения на плоскость конденсации, которая, вращаясь вокруг оси камеры установки типа «Булат», последовательно пересекает осаждаемые плазменные потоки, генерируемые тремя испарителями. На основе модели расчета скоростей осаждения (толщины) покрытий определены геометрические параметры, позволяющие формировать слоистые структуры в нанометровом диапазоне. Установлены закономерности изменений фазово-структурных характеристик, сжимающих макронапряжений (σ), микротвердости (HV) получаемых покрытий от давления азота (PN = 0.001...1.0 Па), ускоряющего потенциала подложки (U = - 100...- 300 В) и зависящей от него температуры конденсации (ТК = 330...750 °С) при напряженности фокусирующего магнитного поля (НФ = 0; 35 и 100 Э), определяющего соответствующие значения плотности ионного тока (j ≈ 5; 8…10 и ≥ 15 мА/см2). Установлен немонотонный характер зависимости HV от температуры конденсации и отжига в вакууме с максимумом значений ~ 35 ... 37 ГПа в области 450...500 °С. Доведено можливість формування наношарових TiNx/CrNx-покриттів методом вакуумно-дугового осадження на площину конденсації, яка обертається навколо вісі камери установки типу «Булат», послідовно перетинаючи плазмові струмені, які генеруються трьома вакуумно-дуговими випромінювачами. На основі моделі розрахунку швидкостей осадження (товщини) покриттів встановлено геометрічні параметри, які дозволяють формувати шарові структури у нанометровому диапазоні. Знайдено закономірності зміни фазово-структурних характеристик покриттів, стискуючих макронапружень (σ) та мікротвердості (HV) в залежності від тиску азоту (PN = 0.001 ... 1.0 Па), прискорюючого потенціалу підкладенки (U = - 100 ... - 300 В) та залежної від нього температури осадження (ТК = 330 ... 750 °С) при напружності фокусуючого магнітного поля (НФ = 0; 35 и 100 Э), яке визначає відповідні значення густини іонного струму (j ≈ 5; 8…10 та ≥ 15 мА/см2). Встановлено немонотонний вигляд залежності HV від температури осадження та відпалення у вакуумі з максимумом ~ 30 ... 34 ГПа в межах 450 ... 500 °С. A possibility is demonstrated for nanolayer TiNx/CrNx coating formation by the method of vacuum-arc deposition on the substrate, which being rotated around the “Bulat”-type chamber axis intercepts sequentially the plasma flows generated by three evaporators. The model for calculating the coating deposition rate (thickness) was used to determine the geometrical parameters that provide the formation of layer structures in the nanometer range. The variations of phase-structure characteristics, compression microstresses (σ), microhardness (HV) of the coatings formed have been investigated as functions of nitrogen pressure (PN = 0.001 ... 1.0 Pa), bias voltage (U = - 100...- 300 V) and condensation temperature (TC = 330...750°C) at focusing magnetic field strengths HF = 0; 35 and 100 Oe. The mentioned field strengths were responsible for the ion current densities (j ≈ 5, 8... 10 and ≥15 mA/cm2). A nonmonotonic behavior of HV as a function of condensation temperature and of vacuum annealing temperature has been established. The maximum HV values (~35 ... 37GPa) were observed in the 450 ... 500°C range.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110739
citation_txt Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения / Ю.В. Кунченко, В.В. Кунченко, И.М. Неклюдов, Г.Н. Картмазов, А.А. Андреев // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 2. — С. 203-214. — Бібліогр.: 26 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT kunčenkoûv sloistyeticrnpokrytiâpolučaemyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâ
AT kunčenkovv sloistyeticrnpokrytiâpolučaemyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâ
AT neklûdovim sloistyeticrnpokrytiâpolučaemyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâ
AT kartmazovgn sloistyeticrnpokrytiâpolučaemyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâ
AT andreevaa sloistyeticrnpokrytiâpolučaemyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâ
AT kunčenkoûv šaruvatíticrnpokrittâzdobutímetodomvakuumnodugovogoosadžennâ
AT kunčenkovv šaruvatíticrnpokrittâzdobutímetodomvakuumnodugovogoosadžennâ
AT neklûdovim šaruvatíticrnpokrittâzdobutímetodomvakuumnodugovogoosadžennâ
AT kartmazovgn šaruvatíticrnpokrittâzdobutímetodomvakuumnodugovogoosadžennâ
AT andreevaa šaruvatíticrnpokrittâzdobutímetodomvakuumnodugovogoosadžennâ
AT kunčenkoûv multilayerticrncoatingsproducedbythevacuumarcdeposition
AT kunčenkovv multilayerticrncoatingsproducedbythevacuumarcdeposition
AT neklûdovim multilayerticrncoatingsproducedbythevacuumarcdeposition
AT kartmazovgn multilayerticrncoatingsproducedbythevacuumarcdeposition
AT andreevaa multilayerticrncoatingsproducedbythevacuumarcdeposition
first_indexed 2025-12-07T16:25:33Z
last_indexed 2025-12-07T16:25:33Z
_version_ 1850867432607973376

Ähnliche Einträge