Влияние геометрии подложки на процесс конденсации ионно-плазменных покрытий

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2008
• Main Authors: Хороших, В.М., Леонов, С.А., Белоус, В.А.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2008
• Subjects: Физика и технология конструкционных материалов
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110740
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Влияние геометрии подложки на процесс конденсации ионно-плазменных покрытий / В.М. Хороших, С.А. Леонов, В.А. Белоус // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 1. — С. 72-76. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Исследовано влияние геометрии подложки на особенности процесса конденсации потоков Ti-плазмы вакуумной дуги в присутствии N₂ или Ar в разрядном промежутке. Характер влияния давления и потенциала подложки на скорость осаждения покрытий обусловлен конкурирующими процессами осаждения и распыления, а та...