Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя

Временное развитие упругого рассеяния света изучалось в процессе формирования геттерирующего слоя на поверхности кремния и германия под действием импульсного лазерного излучения. Установлен линейный характер зависимости между интенсивностью рассеяния света поверхностью исследованных образцов и време...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2007
Автори: Точилин, Д.С., Лущин, С.П., Точилин, С.Д.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2007
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110873
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя / Д.С. Точилин, С.П. Лущин, С.Д. Точилин // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 4. — С. 152-154. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862713995441471488
author Точилин, Д.С.
Лущин, С.П.
Точилин, С.Д.
author_facet Точилин, Д.С.
Лущин, С.П.
Точилин, С.Д.
citation_txt Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя / Д.С. Точилин, С.П. Лущин, С.Д. Точилин // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 4. — С. 152-154. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description Временное развитие упругого рассеяния света изучалось в процессе формирования геттерирующего слоя на поверхности кремния и германия под действием импульсного лазерного излучения. Установлен линейный характер зависимости между интенсивностью рассеяния света поверхностью исследованных образцов и временем лазерной обработки. Тимчасовий розвиток пружного розсіювання світла вивчалося в процесі формування гетеруючого прошарка на поверхні кремнію та германію під дією імпульсного лазерного випромінювання. Установлено лінійний характер залежності між інтенсивністю розсіювання світла поверхнею досліджених зразків та часом лазерної обробки. The temporary development of elastic light scattering was studied in process formation of the gettering layer on a surface of silicon and germanium under action of pulse laser radiation. The linear character of dependence between intensity of light scattering by a surface of the investigated samples and time of laser processing was established.
first_indexed 2025-12-07T17:47:59Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110873
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language Russian
last_indexed 2025-12-07T17:47:59Z
publishDate 2007
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Точилин, Д.С.
Лущин, С.П.
Точилин, С.Д.
2017-01-06T16:15:32Z
2017-01-06T16:15:32Z
2007
Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя / Д.С. Точилин, С.П. Лущин, С.Д. Точилин // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 4. — С. 152-154. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110873
661.68; 66.012.1; 535.361
Временное развитие упругого рассеяния света изучалось в процессе формирования геттерирующего слоя на поверхности кремния и германия под действием импульсного лазерного излучения. Установлен линейный характер зависимости между интенсивностью рассеяния света поверхностью исследованных образцов и временем лазерной обработки.
Тимчасовий розвиток пружного розсіювання світла вивчалося в процесі формування гетеруючого прошарка на поверхні кремнію та германію під дією імпульсного лазерного випромінювання. Установлено лінійний характер залежності між інтенсивністю розсіювання світла поверхнею досліджених зразків та часом лазерної обробки.
The temporary development of elastic light scattering was studied in process formation of the gettering layer on a surface of silicon and germanium under action of pulse laser radiation. The linear character of dependence between intensity of light scattering by a surface of the investigated samples and time of laser processing was established.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика и технология конструкционных материалов
Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя
Пружне розсіювання світла поверхнею напівпроводників при формуванні порушенного прошарку
Elastic light scattering by the semiconductors surface processed by the laser radiation
Article
published earlier
spellingShingle Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя
Точилин, Д.С.
Лущин, С.П.
Точилин, С.Д.
Физика и технология конструкционных материалов
title Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя
title_alt Пружне розсіювання світла поверхнею напівпроводників при формуванні порушенного прошарку
Elastic light scattering by the semiconductors surface processed by the laser radiation
title_full Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя
title_fullStr Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя
title_full_unstemmed Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя
title_short Упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя
title_sort упругое рассеяние света поверхностью полупроводников при формировании нарушенного слоя
topic Физика и технология конструкционных материалов
topic_facet Физика и технология конструкционных материалов
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110873
work_keys_str_mv AT točilinds uprugoerasseâniesvetapoverhnostʹûpoluprovodnikovpriformirovaniinarušennogosloâ
AT luŝinsp uprugoerasseâniesvetapoverhnostʹûpoluprovodnikovpriformirovaniinarušennogosloâ
AT točilinsd uprugoerasseâniesvetapoverhnostʹûpoluprovodnikovpriformirovaniinarušennogosloâ
AT točilinds pružnerozsíûvannâsvítlapoverhneûnapívprovodnikívpriformuvanníporušennogoprošarku
AT luŝinsp pružnerozsíûvannâsvítlapoverhneûnapívprovodnikívpriformuvanníporušennogoprošarku
AT točilinsd pružnerozsíûvannâsvítlapoverhneûnapívprovodnikívpriformuvanníporušennogoprošarku
AT točilinds elasticlightscatteringbythesemiconductorssurfaceprocessedbythelaserradiation
AT luŝinsp elasticlightscatteringbythesemiconductorssurfaceprocessedbythelaserradiation
AT točilinsd elasticlightscatteringbythesemiconductorssurfaceprocessedbythelaserradiation