Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si
Методом рентгеновской дифрактометрии исследована структура пленок вольфрама и многослойных периодических W/Si-композиций, полученных методом магнетронного распыления. Показано, что химический и фазовый составы вольфрамовых слоев при неизменном давлении распыляющего газа ~0,35 Па определяяются скорос...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2003 |
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2003
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110923 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si / Е.Н. Решетняк, С.В. Малыхин, Ю.П. Першин, А.Т. Пугачев // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 3. — С.161-166. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110923 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Решетняк, Е.Н. Малыхин, С.В. Першин, Ю.П. Пугачев, А.Т. 2017-01-07T08:01:48Z 2017-01-07T08:01:48Z 2003 Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si / Е.Н. Решетняк, С.В. Малыхин, Ю.П. Першин, А.Т. Пугачев // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 3. — С.161-166. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110923 539.26 Методом рентгеновской дифрактометрии исследована структура пленок вольфрама и многослойных периодических W/Si-композиций, полученных методом магнетронного распыления. Показано, что химический и фазовый составы вольфрамовых слоев при неизменном давлении распыляющего газа ~0,35 Па определяяются скоростью осаждения. Пленки вольфрама, полученные с низкой скоростью осаждения ~0,2 нм/с, содержат большое количество (~25ат.%) примесей углерода и кислорода. Установлено, что в аморфных вольфрамовых слоях композиций с периодом, не превышающим 10 нм, структура ближнего порядка подобна кристаллическму W₃O. На границах раздела слоев W и Si в результате взаимодействия образуется аморфный WSi₂. Методом рентгенівської дифрактометрії досліджена структура плівок вольфраму і багатошарових періодичних W/Si-композицій, отриманих методом магнетронного розпилення. Показано, що хімічний і фазовий склад вольфрамових шарів при незмінному тиску розпилюючого газу ~0,35 Па визначається швидкістю осадження. Плівки вольфраму, отримані з низькою швидкістю осадження ~0,2 нм/с, містять велику кількість (~25ат%) домішок вуглецю і кисню. Встановлено, що в аморфних вольфрамових шарах композицій з періодом, не перевищуючим 10 нм, структура ближнього порядку подібна кристалічному W₃O. На межах розділу шарів W і Si внаслідок взаємодії утвориться аморфний WSi₂. Structure of tungsten films and W/Si multilayer compositions deposited by magnetron sputtering method was studied using X-ray diffraction. It was shown that chemical and phase composition of tungsten layers obtained under constant pressure of sputter gas ~0.35 Pa was determined by deposition speed. Tungsten films produced with low deposition speed ~0.2 nm/s contained up to ~25ат% of carbon and oxygen admixtures. It was found that in compositions with periods about 10 nm and less, amorphous tungsten layers had short-range structure close to crystalline W₃O. At W/Si interfaces, amorphous WSi₂ occurs as a result of their interaction. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si Рентгенографічний аналіз періодичних плівкових композицій W/Si X-RAY analysis of film periodic compositions W/Si Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si |
| spellingShingle |
Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si Решетняк, Е.Н. Малыхин, С.В. Першин, Ю.П. Пугачев, А.Т. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| title_short |
Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si |
| title_full |
Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si |
| title_fullStr |
Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si |
| title_full_unstemmed |
Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si |
| title_sort |
рентгенографический анализ периодических пленочных композиций w/si |
| author |
Решетняк, Е.Н. Малыхин, С.В. Першин, Ю.П. Пугачев, А.Т. |
| author_facet |
Решетняк, Е.Н. Малыхин, С.В. Першин, Ю.П. Пугачев, А.Т. |
| topic |
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| topic_facet |
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| publishDate |
2003 |
| language |
Russian |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Рентгенографічний аналіз періодичних плівкових композицій W/Si X-RAY analysis of film periodic compositions W/Si |
| description |
Методом рентгеновской дифрактометрии исследована структура пленок вольфрама и многослойных периодических W/Si-композиций, полученных методом магнетронного распыления. Показано, что химический и фазовый составы вольфрамовых слоев при неизменном давлении распыляющего газа ~0,35 Па определяяются скоростью осаждения. Пленки вольфрама, полученные с низкой скоростью осаждения ~0,2 нм/с, содержат большое количество (~25ат.%) примесей углерода и кислорода. Установлено, что в аморфных вольфрамовых слоях композиций с периодом, не превышающим 10 нм, структура ближнего порядка подобна кристаллическму W₃O. На границах раздела слоев W и Si в результате взаимодействия образуется аморфный WSi₂.
Методом рентгенівської дифрактометрії досліджена структура плівок вольфраму і багатошарових періодичних W/Si-композицій, отриманих методом магнетронного розпилення. Показано, що хімічний і фазовий склад вольфрамових шарів при незмінному тиску розпилюючого газу ~0,35 Па визначається швидкістю осадження. Плівки вольфраму, отримані з низькою швидкістю осадження ~0,2 нм/с, містять велику кількість (~25ат%) домішок вуглецю і кисню. Встановлено, що в аморфних вольфрамових шарах композицій з періодом, не перевищуючим 10 нм, структура ближнього порядку подібна кристалічному W₃O. На межах розділу шарів W і Si внаслідок взаємодії утвориться аморфний WSi₂.
Structure of tungsten films and W/Si multilayer compositions deposited by magnetron sputtering method was studied using X-ray diffraction. It was shown that chemical and phase composition of tungsten layers obtained under constant pressure of sputter gas ~0.35 Pa was determined by deposition speed. Tungsten films produced with low deposition speed ~0.2 nm/s contained up to ~25ат% of carbon and oxygen admixtures. It was found that in compositions with periods about 10 nm and less, amorphous tungsten layers had short-range structure close to crystalline W₃O. At W/Si interfaces, amorphous WSi₂ occurs as a result of their interaction.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110923 |
| citation_txt |
Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si / Е.Н. Решетняк, С.В. Малыхин, Ю.П. Першин, А.Т. Пугачев // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 3. — С.161-166. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT rešetnâken rentgenografičeskiianalizperiodičeskihplenočnyhkompoziciiwsi AT malyhinsv rentgenografičeskiianalizperiodičeskihplenočnyhkompoziciiwsi AT peršinûp rentgenografičeskiianalizperiodičeskihplenočnyhkompoziciiwsi AT pugačevat rentgenografičeskiianalizperiodičeskihplenočnyhkompoziciiwsi AT rešetnâken rentgenografíčniianalízperíodičnihplívkovihkompozicíiwsi AT malyhinsv rentgenografíčniianalízperíodičnihplívkovihkompozicíiwsi AT peršinûp rentgenografíčniianalízperíodičnihplívkovihkompozicíiwsi AT pugačevat rentgenografíčniianalízperíodičnihplívkovihkompozicíiwsi AT rešetnâken xrayanalysisoffilmperiodiccompositionswsi AT malyhinsv xrayanalysisoffilmperiodiccompositionswsi AT peršinûp xrayanalysisoffilmperiodiccompositionswsi AT pugačevat xrayanalysisoffilmperiodiccompositionswsi |
| first_indexed |
2025-12-07T15:11:21Z |
| last_indexed |
2025-12-07T15:11:21Z |
| _version_ |
1850862764530073601 |