Зображення обкладинки

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift

A gas discharge of the magnetron type which is formed in the beam drift region of an ion source with closed electron drift was investigated. The electric field due to the target bias potential results in the development of an additional gas discharge of the magnetron type in the drift region. Trajec...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2008
Автори:	Bordenjuk, I.V., Panchenko, O.A., Sologub, S.V., Brown, I.G.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2008
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110979
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift / I.V. Bordenjuk, O.A. Panchenko, S.V. Sologub, I.G. Brown // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 168-170. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Technological accelerator with closed electron drift for surface treatment
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Peculiarities of self-sustained discharge in closed electron drift accelerator based on permanent magnets
за авторством: Pavlov, S.N., та інші
Опубліковано: (2002)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

New in development of negative hydrogen ion source with combined discharge
за авторством: Dobrovolsky, A., та інші
Опубліковано: (2016)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Microwave discharge as a source of light
за авторством: Brodsky, Yu.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)

Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Investigation of characteristics of non-simultaneous arc discharge in titanium vapors in glow discharge electron evaporators
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)

Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)

Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Influence of metal hydride hollow cathode on Penning ion source operation
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2021)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)

Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning
за авторством: Dobrovol`s`kii, A.N., та інші
Опубліковано: (2002)

Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Dusty discharges with secondary electron emission
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)

An attempt for increasing the efficiency of penning source of Н ⁻ ions with a metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2020)

Characterization of plasma and emergent ion beam in a compact helicon source with permanent magnets
за авторством: Virko, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

Influence of dielectric barrier discharge on beet seeds germination
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2023)

Influence of power source type on time dependence of the plasma parameters of a pulse discharge with a hollow cathode
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2022)

Plasma-catalytic system with wide-aperture rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Forming a unipolar pulsed discharge in nitrogen
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2016)

Burning modes of a bipolar pulsed discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)

Dc glow discharge for synthesis diamond films with high growth rate
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Glow discharge with a hollow cathode in carbon dioxide
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)