The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
The optical methods with the use of in-vessel first mirrors (FMs) are expected to occupy an important place in the diagnostic complex of the future fusion reactor ITER. As the surface of FMs will be subjected to physical sputtering by high-energy D and T charge-exchange atoms, this can lead to a dec...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2008 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2008
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110980 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices / V.N. Bondarenko, A.I. Belyaeva, A.A. Galuza, V.G. Konovalov, A.D. Kudlenko, I.V. Ryzhkov, A.F. Shtan’, S.I. Solodovchenko, V.S. Voitsenya // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 165-167. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862713858147221504 |
|---|---|
| author | Bondarenko, V.N. Belyaeva, A.I. Galuza, A.A. Konovalov, V.G. Kudlenko, A.D. Ryzhkov, I.V. Shtan’, A.F. Solodovchenko, S.I. Voitsenya, V.S. |
| author_facet | Bondarenko, V.N. Belyaeva, A.I. Galuza, A.A. Konovalov, V.G. Kudlenko, A.D. Ryzhkov, I.V. Shtan’, A.F. Solodovchenko, S.I. Voitsenya, V.S. |
| citation_txt | The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices / V.N. Bondarenko, A.I. Belyaeva, A.A. Galuza, V.G. Konovalov, A.D. Kudlenko, I.V. Ryzhkov, A.F. Shtan’, S.I. Solodovchenko, V.S. Voitsenya // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 165-167. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The optical methods with the use of in-vessel first mirrors (FMs) are expected to occupy an important place in the diagnostic complex of the future fusion reactor ITER. As the surface of FMs will be subjected to physical sputtering by high-energy D and T charge-exchange atoms, this can lead to a decline in the initial FM reflectance. The second factor of FM reflectance deterioration is the redeposition of contaminants on the mirror surface. In the paper, optical indices and thickness values of the films deposited on Mo and SS mirrors in the tokamak TRIAM-1M as well as on SS and Cu mirrors in the torsatron URAGAN-3M were studied by ellipsometry at the wavelength λ=632.8 nm. The spectral reflectance at normal incidence of light for all the samples was measured in the wavelength range λ=253–650 nm. The optical parameters of TRIAM-1M films were determined as the film was progressively removed by deuterium plasma ions in the stand DSM-2.
Оптичні методи з використанням внутрікамерних перших дзеркал (ПЗ) будуть займати важливе місце в діагностичному комплексі майбутнього реактора синтезу ІTER. Тому що поверхня ПЗ буде піддаватися фізичному розпиленню високоенергетичними атомами перезарядження D і T, це може привести до зниження початкового коефіцієнта відбиття (КВ). Другим фактором погіршення КВ буде переосадження забруднювачів на поверхню дзеркала. Для плівок, осаджених на Mo і SS дзеркала в токамаку TRIAM-1M, а також на SS і Cu дзеркала в торсатроні УРАГАН-3M, методом eліпсометрії вивчалися товщини і константи на довжині хвилі λ=632.8 нм. Спектральний КВ усіх зразків при нормальному падінні світла був виміряний у діапазоні λ=253–650 нм. Оптичні параметри плівок із TRIAM-1M були визначені на стадіях поступового видалення плівки іонами дейтерієвої плазми в стенді ДСМ-2.
Оптические методы с использованием внутрикамерных первых зеркал (ПЗ) будут занимать важное место в диагностическом комплексе будущего реактора синтеза ITER. Так как поверхность ПЗ будет подвергаться физическому распылению высокоэнергетическим D и T атомами перезарядки, это может привести к снижению исходного коэффициента отражения (КО). Вторым фактором ухудшения КО будет переосаждение загрязнителей на поверхность зеркала. Для пленок, осажденных на Mo и SS зеркала в токамаке TRIAM-1M, а также на SS и Cu зеркала в торсатроне УРАГАН-3M методом эллипсометрии изучались толщины и константы на длине волны λ=632.8 нм. Спектральный КО всех образцов при нормальном падении света был измерен в диапазоне λ=253–650 нм. Оптические параметры пленок из TRIAM-1M были определены на стадиях постепенного удаления пленки ионами дейтериевой плазмы в стенде ДСМ-2.
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:47:18Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110980 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T17:47:18Z |
| publishDate | 2008 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Bondarenko, V.N. Belyaeva, A.I. Galuza, A.A. Konovalov, V.G. Kudlenko, A.D. Ryzhkov, I.V. Shtan’, A.F. Solodovchenko, S.I. Voitsenya, V.S. 2017-01-07T16:07:39Z 2017-01-07T16:07:39Z 2008 The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices / V.N. Bondarenko, A.I. Belyaeva, A.A. Galuza, V.G. Konovalov, A.D. Kudlenko, I.V. Ryzhkov, A.F. Shtan’, S.I. Solodovchenko, V.S. Voitsenya // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 165-167. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf, 52.55.Hc, 52.77.Bn, 78.20.Ci, 78.68.+m https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110980 The optical methods with the use of in-vessel first mirrors (FMs) are expected to occupy an important place in the diagnostic complex of the future fusion reactor ITER. As the surface of FMs will be subjected to physical sputtering by high-energy D and T charge-exchange atoms, this can lead to a decline in the initial FM reflectance. The second factor of FM reflectance deterioration is the redeposition of contaminants on the mirror surface. In the paper, optical indices and thickness values of the films deposited on Mo and SS mirrors in the tokamak TRIAM-1M as well as on SS and Cu mirrors in the torsatron URAGAN-3M were studied by ellipsometry at the wavelength λ=632.8 nm. The spectral reflectance at normal incidence of light for all the samples was measured in the wavelength range λ=253–650 nm. The optical parameters of TRIAM-1M films were determined as the film was progressively removed by deuterium plasma ions in the stand DSM-2. Оптичні методи з використанням внутрікамерних перших дзеркал (ПЗ) будуть займати важливе місце в діагностичному комплексі майбутнього реактора синтезу ІTER. Тому що поверхня ПЗ буде піддаватися фізичному розпиленню високоенергетичними атомами перезарядження D і T, це може привести до зниження початкового коефіцієнта відбиття (КВ). Другим фактором погіршення КВ буде переосадження забруднювачів на поверхню дзеркала. Для плівок, осаджених на Mo і SS дзеркала в токамаку TRIAM-1M, а також на SS і Cu дзеркала в торсатроні УРАГАН-3M, методом eліпсометрії вивчалися товщини і константи на довжині хвилі λ=632.8 нм. Спектральний КВ усіх зразків при нормальному падінні світла був виміряний у діапазоні λ=253–650 нм. Оптичні параметри плівок із TRIAM-1M були визначені на стадіях поступового видалення плівки іонами дейтерієвої плазми в стенді ДСМ-2. Оптические методы с использованием внутрикамерных первых зеркал (ПЗ) будут занимать важное место в диагностическом комплексе будущего реактора синтеза ITER. Так как поверхность ПЗ будет подвергаться физическому распылению высокоэнергетическим D и T атомами перезарядки, это может привести к снижению исходного коэффициента отражения (КО). Вторым фактором ухудшения КО будет переосаждение загрязнителей на поверхность зеркала. Для пленок, осажденных на Mo и SS зеркала в токамаке TRIAM-1M, а также на SS и Cu зеркала в торсатроне УРАГАН-3M методом эллипсометрии изучались толщины и константы на длине волны λ=632.8 нм. Спектральный КО всех образцов при нормальном падении света был измерен в диапазоне λ=253–650 нм. Оптические параметры пленок из TRIAM-1M были определены на стадиях постепенного удаления пленки ионами дейтериевой плазмы в стенде ДСМ-2. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices Оптичні характеристики забруднюючих плівок на зразках Mo, SS і Cu дзеркал, експонованих в установках з плазмою Оптические характеристики загрязняющих пленок на образцах Mo, SS и Cu зеркал, экспонированных в установках с плазмой Article published earlier |
| spellingShingle | The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices Bondarenko, V.N. Belyaeva, A.I. Galuza, A.A. Konovalov, V.G. Kudlenko, A.D. Ryzhkov, I.V. Shtan’, A.F. Solodovchenko, S.I. Voitsenya, V.S. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices |
| title_alt | Оптичні характеристики забруднюючих плівок на зразках Mo, SS і Cu дзеркал, експонованих в установках з плазмою Оптические характеристики загрязняющих пленок на образцах Mo, SS и Cu зеркал, экспонированных в установках с плазмой |
| title_full | The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices |
| title_fullStr | The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices |
| title_full_unstemmed | The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices |
| title_short | The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices |
| title_sort | optical characteristics of contaminating films on mo, ss and cu mirror samples exposed in plasma devices |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110980 |
| work_keys_str_mv | AT bondarenkovn theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT belyaevaai theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT galuzaaa theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT konovalovvg theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT kudlenkoad theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT ryzhkoviv theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT shtanaf theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT solodovchenkosi theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT voitsenyavs theopticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT bondarenkovn optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT belyaevaai optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT galuzaaa optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT konovalovvg optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT kudlenkoad optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT ryzhkoviv optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT shtanaf optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT solodovchenkosi optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT voitsenyavs optičníharakteristikizabrudnûûčihplívoknazrazkahmossícudzerkaleksponovanihvustanovkahzplazmoû AT bondarenkovn optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT belyaevaai optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT galuzaaa optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT konovalovvg optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT kudlenkoad optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT ryzhkoviv optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT shtanaf optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT solodovchenkosi optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT voitsenyavs optičeskieharakteristikizagrâznâûŝihplenoknaobrazcahmossicuzerkaléksponirovannyhvustanovkahsplazmoi AT bondarenkovn opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT belyaevaai opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT galuzaaa opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT konovalovvg opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT kudlenkoad opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT ryzhkoviv opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT shtanaf opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT solodovchenkosi opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices AT voitsenyavs opticalcharacteristicsofcontaminatingfilmsonmossandcumirrorsamplesexposedinplasmadevices |