The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition

• Veröffentlicht in: Вопросы атомной науки и техники
• Datum: 2008
• Hauptverfasser: Demchishin, A.V., Evsyukov, A.N., Goncharov, A.A., Kostin, E.G.
• Format: Artikel
• Sprache: English
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2008
• Schlagworte: Low temperature plasma and plasma technologies
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111035
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition / A.V. Demchishin, A.N. Evsyukov, A.A. Goncharov, E.G. Kostin // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 195-197. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

We describe the state-of-the-art method of monitoring optical parameters the cylindrical gas discharge plasma of magnetron type. An analysis and characterization of the spectrum during a process of titanium nitride deposition is carried out. The optimum conditions of titanium nitride synthesis on substrates are determined. A characterization of deposited TiN films is made. Запропонований новий метод контролю оптичних параметрів плазми циліндричного газового розряду магнетронного типу в дійсному масштабі часу. Проведений аналіз та характеризація спектру в процесі напилення нітриду титана. Знайдені оптимальні умови отримання плівок нітриду титана. Виконано їх рентгенофазовий аналіз та виміряна мікротвердість. Предложен новый метод контроля оптических параметров плазмы цилиндрического газового разряда магнетронного типа в реальном масштабе времени. Проведен анализ и характеризация спектра в процессе напыления нитрида титана. Найдены оптимальные условия получения пленок нитрида титана. Выполнен их рентгенофазовый анализ и измерена микротвердость.