Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий

Исследованы структура, фазовый состав и электросопротивление нанокристаллических Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий, полученных путем одновременного осаждения паров металлов в условиях бомбардировки высокоэнергетичными ионами азота (IBAD method). Показано, что для обоих видов покрытий характерно фор...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2008
Main Author: Гугля, А.Г.
Format: Article
Language:Russian
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2008
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111078
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий / А.Г. Гугля // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 2. — С. 155-158. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862606998077440000
author Гугля, А.Г.
author_facet Гугля, А.Г.
citation_txt Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий / А.Г. Гугля // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 2. — С. 155-158. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description Исследованы структура, фазовый состав и электросопротивление нанокристаллических Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий, полученных путем одновременного осаждения паров металлов в условиях бомбардировки высокоэнергетичными ионами азота (IBAD method). Показано, что для обоих видов покрытий характерно формирование нанокристаллических ГЦК-структур, которые представляют собой твердые растворы AlN или VN в нитриде хрома. По мере увеличения содержания алюминия в нитриде хрома параметр решетки Cr₁₋x-Alx-N- композита уменьшается от 0,416 (х = 0) до 0,409 нм (х = 0,6). Параметр решетки Cr₁₋x-Vx-N -покрытия практически не меняется (~0,416 нм). Температурные коэффициенты сопротивления (ТКС) в обоих видах покрытий с увеличением содержания и алюминия, и ванадия меняют знак с положительного на отрицательный и увеличиваются по абсолютному значению. Досліджені структура, фазовий склад та електроопір нанокристалічних Cr₁₋x-Alx-N- та Cr₁₋x-Vx-N-покриттів, здобутих шляхом одночасного осадження парів металів в умовах бомбардування високоенергетичними іонами азоту (IBAD method). Доведено, що для обох видів покриттів характерним є формування нанокристалічних ГЦК структур, які являють собою тверді розчини AlN чи VN у нітриді хрому. При збільшенні вмісту алюмінію у нітриді хрому параметр решітки Cr₁₋x-Alx-N композиту зменшується від 0,416 (х = 0) до 0,409 нм (х = 0,6). Параметр решітки Cr₁₋x-Vx-N покриття практично не змінюється (0,416 нм). Температурні коефіцієнти електроопору (ТКО) в обох видах покриттів зі збільшенням вмісту як алюмінію, так і ванадію змінюють знак з позитивного на негативний та збільшуються за абсолютним значенням. The structure, phase state and electrical resistivity nanocrystallineCr₁₋x-Alx-N- and Cr₁₋ₓ-Vx-N coatings were investigated. These coatings were obtained by means simultaneously metal vapor deposition and high energy nitrogen ion bombardment (IBAD method). It was proved that for both type coatings took place the formation of nanocrystalline fcc structures. They are the Cr₁₋x-Alx-N and Cr₁₋x-Vx-N films consists of solid solution between CrN and VN or AlN. When increasing aluminum content in CrN took place the lattice parameters of Cr₁₋x-Vx-N were decreased from 0,416 (х = 0) to 0,409 nm (х = 0,6). The lattice parameters Cr₁₋x-Vx-N films was not changed (~0,416 nm). The temperature coefficients of the resistivity (TCR) change sign from positive to negative for both type of coatings when aluminum or vanadium content were increased.
first_indexed 2025-11-28T13:25:02Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111078
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language Russian
last_indexed 2025-11-28T13:25:02Z
publishDate 2008
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Гугля, А.Г.
2017-01-08T09:34:50Z
2017-01-08T09:34:50Z
2008
Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий / А.Г. Гугля // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 2. — С. 155-158. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111078
621.384.6
Исследованы структура, фазовый состав и электросопротивление нанокристаллических Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий, полученных путем одновременного осаждения паров металлов в условиях бомбардировки высокоэнергетичными ионами азота (IBAD method). Показано, что для обоих видов покрытий характерно формирование нанокристаллических ГЦК-структур, которые представляют собой твердые растворы AlN или VN в нитриде хрома. По мере увеличения содержания алюминия в нитриде хрома параметр решетки Cr₁₋x-Alx-N- композита уменьшается от 0,416 (х = 0) до 0,409 нм (х = 0,6). Параметр решетки Cr₁₋x-Vx-N -покрытия практически не меняется (~0,416 нм). Температурные коэффициенты сопротивления (ТКС) в обоих видах покрытий с увеличением содержания и алюминия, и ванадия меняют знак с положительного на отрицательный и увеличиваются по абсолютному значению.
Досліджені структура, фазовий склад та електроопір нанокристалічних Cr₁₋x-Alx-N- та Cr₁₋x-Vx-N-покриттів, здобутих шляхом одночасного осадження парів металів в умовах бомбардування високоенергетичними іонами азоту (IBAD method). Доведено, що для обох видів покриттів характерним є формування нанокристалічних ГЦК структур, які являють собою тверді розчини AlN чи VN у нітриді хрому. При збільшенні вмісту алюмінію у нітриді хрому параметр решітки Cr₁₋x-Alx-N композиту зменшується від 0,416 (х = 0) до 0,409 нм (х = 0,6). Параметр решітки Cr₁₋x-Vx-N покриття практично не змінюється (0,416 нм). Температурні коефіцієнти електроопору (ТКО) в обох видах покриттів зі збільшенням вмісту як алюмінію, так і ванадію змінюють знак з позитивного на негативний та збільшуються за абсолютним значенням.
The structure, phase state and electrical resistivity nanocrystallineCr₁₋x-Alx-N- and Cr₁₋ₓ-Vx-N coatings were investigated. These coatings were obtained by means simultaneously metal vapor deposition and high energy nitrogen ion bombardment (IBAD method). It was proved that for both type coatings took place the formation of nanocrystalline fcc structures. They are the Cr₁₋x-Alx-N and Cr₁₋x-Vx-N films consists of solid solution between CrN and VN or AlN. When increasing aluminum content in CrN took place the lattice parameters of Cr₁₋x-Vx-N were decreased from 0,416 (х = 0) to 0,409 nm (х = 0,6). The lattice parameters Cr₁₋x-Vx-N films was not changed (~0,416 nm). The temperature coefficients of the resistivity (TCR) change sign from positive to negative for both type of coatings when aluminum or vanadium content were increased.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий
Структурно-фазові та електрофізичні характеристики Cr₁₋x-Alx-N- і Cr₁₋x-Vx-N-покриттів
Structure, phase and electronic characteristics of Cr₁₋x-Alx-N- and Cr₁₋x-Vx-N coatings
Article
published earlier
spellingShingle Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий
Гугля, А.Г.
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий
title_alt Структурно-фазові та електрофізичні характеристики Cr₁₋x-Alx-N- і Cr₁₋x-Vx-N-покриттів
Structure, phase and electronic characteristics of Cr₁₋x-Alx-N- and Cr₁₋x-Vx-N coatings
title_full Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий
title_fullStr Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий
title_full_unstemmed Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий
title_short Структурно-фазовые и электрофизические характеристики Cr₁₋x-Alx-N- и Cr₁₋x-Vx-N-покрытий
title_sort структурно-фазовые и электрофизические характеристики cr₁₋x-alx-n- и cr₁₋x-vx-n-покрытий
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111078
work_keys_str_mv AT guglâag strukturnofazovyeiélektrofizičeskieharakteristikicr1xalxnicr1xvxnpokrytii
AT guglâag strukturnofazovítaelektrofízičníharakteristikicr1xalxnícr1xvxnpokrittív
AT guglâag structurephaseandelectroniccharacteristicsofcr1xalxnandcr1xvxncoatings