Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2009
• Main Authors: Аксьонов, І.І., Білоус, В.А., Голтвяниця, С.К., Голтвяниця, В.С., Задніпровський, Ю.О., Купрiн, О.С., Ломіно, М.С., Овчаренко, В.Д.
• Format: Article
• Language: Ukrainian
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2009
• Subjects: Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111123
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів / І.І. Аксьонов, В.А. Білоус, С.К. Голтвяниця, В.С. Голтвяниця, Ю.О. Задніпровський, O.С. Купрiн, М.С. Ломіно, В.Д. Овчаренко // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 2. — С. 181-184. — Бібліогр.: 5 назв. — укр.

На прикладі композиційних Ti-Si та Ti-Al катодних матеріалів експериментально досліджені особливості переносу компонентів цих матеріалів до покриттів, осаджуваних вакуумно-дуговим методом. Виявлена можливість регулювання концентрації компонентів в покритті в широких межах зміною параметрів процесу осадження: негативної напруги зміщення на підкладці, температури підкладки, напруженості фокусуючого магнітного поля. На примере композиционных Ti-Si и Ti-Al катодных материалов экспериментально исследованы особенности переноса компонентов этих материалов на покрытия, осаждаемые вакуумно-дуговым методом. Установлена возможность регулирования концентрации компонентов покрытия в широких пределах изменением параметров процесса осаждения: отрицательного напряжения смещения на подложке, её температуры и напряжённости фокусирующего магнитного поля. On an example of composite Ti-Si and Ti-Al cathodic materials features of carrying over of components of these materials on the coatings deposited by a vakuumno-arc method are experimentally investigated. Possibility of regulation of the components concentration in the coating over a wide range is established by change of deposition process parameters: negative bias voltage on a substrate, its temperature and intensity of a focusing magnetic field.