Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов

Современные технологии магнетронного напыления технологических и декоративных покрытий сегодня широко используются во всем мире. Наряду с использованием вакуумно-дуговых методов обработки они позволяют отказаться от экологически вредных химических методов получения слоев с заданными параметрами. Для...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2003
Main Authors: Гончаров, А.А., Добровольский, А.Н., Павлов, С.Н., Проценко, И.М., Костин, Е.Г.
Format: Article
Language:Russian
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2003
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111222
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов / А.А. Гончаров, А.Н. Добровольский, С.Н. Павлов, И.М. Проценко, Е.Г. Костин // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 4. — С. 288-291. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862604384046678016
author Гончаров, А.А.
Добровольский, А.Н.
Павлов, С.Н.
Проценко, И.М.
Костин, Е.Г.
author_facet Гончаров, А.А.
Добровольский, А.Н.
Павлов, С.Н.
Проценко, И.М.
Костин, Е.Г.
citation_txt Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов / А.А. Гончаров, А.Н. Добровольский, С.Н. Павлов, И.М. Проценко, Е.Г. Костин // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 4. — С. 288-291. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description Современные технологии магнетронного напыления технологических и декоративных покрытий сегодня широко используются во всем мире. Наряду с использованием вакуумно-дуговых методов обработки они позволяют отказаться от экологически вредных химических методов получения слоев с заданными параметрами. Для получения качественных покрытий необходима предварительная очистка и активация поверхности непосредственно перед напылением. Наиболее логичным решением представляется использование для этих целей плазменных источников близкого к магнетронам типа. Представляемая статья посвящена рассмотрению возможности работы в едином технологическом цикле с магнетроном различных модификаций плазменного ускорителя с анодным слоем. Представленные результаты демонстрируют высокую эффективность таких устройств и возможность создания технологических линий по непрерывной обработке поверхностей с различной геометрией. Скорости травления по меди (больше 1 нм/с) не уступают лучшим известным данным для источников кауфмановского типа. Диапазон рабочих давлений (до 1,2-3*10⁻³ мм рт.ст.) позволяет их размещать в общей камере с магнетроном.
first_indexed 2025-11-28T09:20:29Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111222
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language Russian
last_indexed 2025-11-28T09:20:29Z
publishDate 2003
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Гончаров, А.А.
Добровольский, А.Н.
Павлов, С.Н.
Проценко, И.М.
Костин, Е.Г.
2017-01-08T19:07:43Z
2017-01-08T19:07:43Z
2003
Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов / А.А. Гончаров, А.Н. Добровольский, С.Н. Павлов, И.М. Проценко, Е.Г. Костин // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 4. — С. 288-291. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111222
533.9
Современные технологии магнетронного напыления технологических и декоративных покрытий сегодня широко используются во всем мире. Наряду с использованием вакуумно-дуговых методов обработки они позволяют отказаться от экологически вредных химических методов получения слоев с заданными параметрами. Для получения качественных покрытий необходима предварительная очистка и активация поверхности непосредственно перед напылением. Наиболее логичным решением представляется использование для этих целей плазменных источников близкого к магнетронам типа. Представляемая статья посвящена рассмотрению возможности работы в едином технологическом цикле с магнетроном различных модификаций плазменного ускорителя с анодным слоем. Представленные результаты демонстрируют высокую эффективность таких устройств и возможность создания технологических линий по непрерывной обработке поверхностей с различной геометрией. Скорости травления по меди (больше 1 нм/с) не уступают лучшим известным данным для источников кауфмановского типа. Диапазон рабочих давлений (до 1,2-3*10⁻³ мм рт.ст.) позволяет их размещать в общей камере с магнетроном.
Работа выполнена при частичной поддержке НТЦУ проект №1596.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Приложения и технологии
Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов
Article
published earlier
spellingShingle Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов
Гончаров, А.А.
Добровольский, А.Н.
Павлов, С.Н.
Проценко, И.М.
Костин, Е.Г.
Приложения и технологии
title Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов
title_full Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов
title_fullStr Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов
title_full_unstemmed Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов
title_short Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов
title_sort плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов
topic Приложения и технологии
topic_facet Приложения и технологии
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111222
work_keys_str_mv AT gončarovaa plazmennyiuskoritelʹsanodnymsloemdlâobrabotkipoverhnostimaterialov
AT dobrovolʹskiian plazmennyiuskoritelʹsanodnymsloemdlâobrabotkipoverhnostimaterialov
AT pavlovsn plazmennyiuskoritelʹsanodnymsloemdlâobrabotkipoverhnostimaterialov
AT procenkoim plazmennyiuskoritelʹsanodnymsloemdlâobrabotkipoverhnostimaterialov
AT kostineg plazmennyiuskoritelʹsanodnymsloemdlâobrabotkipoverhnostimaterialov