Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
Техника и технология атомно-ионного распыления (АИР) в вариантах электродугового и высокочастотного возбуждений плазмы в парах Me-Cr-Al-Y были использованы для нанесения жаростойких вакуумных покрытий. Понижение температуры подложки в условиях бомбардировки поверхности растущего конденсата ускоренны...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2011 |
| Автори: | , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2011
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111303 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации / Г.Н. Картмазов, Ю.И. Поляков, С.Н. Слепцов, Ю.В. Лукирский, С.П. Щербак, С.О. Чалый // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 2. — С. 168-173. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862605049107054592 |
|---|---|
| author | Картмазов, Г.Н. Поляков, Ю.И. Слепцов, С.Н. Лукирский, Ю.В. Щербак, С.П. Чалый, С.О. |
| author_facet | Картмазов, Г.Н. Поляков, Ю.И. Слепцов, С.Н. Лукирский, Ю.В. Щербак, С.П. Чалый, С.О. |
| citation_txt | Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации / Г.Н. Картмазов, Ю.И. Поляков, С.Н. Слепцов, Ю.В. Лукирский, С.П. Щербак, С.О. Чалый // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 2. — С. 168-173. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Техника и технология атомно-ионного распыления (АИР) в вариантах электродугового и высокочастотного возбуждений плазмы в парах Me-Cr-Al-Y были использованы для нанесения жаростойких вакуумных покрытий. Понижение температуры подложки в условиях бомбардировки поверхности растущего конденсата ускоренными собственными ионами исключило формирование столбчатой структуры в покрытиях и, как следствие, сквозную пористость. По сравнению с электродуговым способ ионизации паров Me-Cr-Al-Y высокочастотным электромагнитным полем позволяет подавить капельную фракцию конденсирующегося потока плазмы. Исследованы в сравнении характеристики микроструктуры двух указанных типов конденсатов Me-Cr-Al-Y в зависимости от способа ионизации, температуры осаждения и отжига.
Техніка та технологія атомно-іонного розпилення (АІР) у варіантах електродугового і високочастотного збудження плазми в парах Me-Cr-Al-Y були використані для нанесення жаростійких вакуумних покриттів. Зниження температури підкладки в умовах бомбардування поверхні зростаючого конденсату прискореними власними іонами виключило формування стовбчастої структури в покриттях і, як наслідок, наскрізну пористість. У порівнянні з електродуговим спосіб іонізації парів Me-Cr-Al-Y високочастотним електромагнітним полем дозволяє подавити крапельну фракцію потоку плазми, що конденсується. Досліджено в порівнянні характеристики мікроструктури двох зазначених типів конденсатів Me-Cr-Al-Y залежно від способу іонізації, температури осадження та відпалу.
Technique and technology of atomic-ion sputtering (AIS) in variants of electric-arc high-frequency plasma excitation in pairs of Me-Cr-Al-Y was used for the application of vacuum heat-resistant coatings. Lowering the temperature of the substrate in a surface growing condensation bombardment that accelerated their own ions excluded the columnar structure formation in the coatings and, consequently, through porosity. Compared with electric arc, a ionization pairs Me-Cr-Al-Y way by high-frequency electromagnetic field can suppress the droplet fraction condensing in the plasma current. Studied in comparison the microstructure characteristics of these two condensates Me-Cr-Al-Y types, depending on the ionization method, deposition temperature and annealing.
|
| first_indexed | 2025-11-28T09:20:56Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111303 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-28T09:20:56Z |
| publishDate | 2011 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Картмазов, Г.Н. Поляков, Ю.И. Слепцов, С.Н. Лукирский, Ю.В. Щербак, С.П. Чалый, С.О. 2017-01-09T14:30:41Z 2017-01-09T14:30:41Z 2011 Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации / Г.Н. Картмазов, Ю.И. Поляков, С.Н. Слепцов, Ю.В. Лукирский, С.П. Щербак, С.О. Чалый // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 2. — С. 168-173. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111303 621.165.51:621.039.546.5:620.197.3 Техника и технология атомно-ионного распыления (АИР) в вариантах электродугового и высокочастотного возбуждений плазмы в парах Me-Cr-Al-Y были использованы для нанесения жаростойких вакуумных покрытий. Понижение температуры подложки в условиях бомбардировки поверхности растущего конденсата ускоренными собственными ионами исключило формирование столбчатой структуры в покрытиях и, как следствие, сквозную пористость. По сравнению с электродуговым способ ионизации паров Me-Cr-Al-Y высокочастотным электромагнитным полем позволяет подавить капельную фракцию конденсирующегося потока плазмы. Исследованы в сравнении характеристики микроструктуры двух указанных типов конденсатов Me-Cr-Al-Y в зависимости от способа ионизации, температуры осаждения и отжига. Техніка та технологія атомно-іонного розпилення (АІР) у варіантах електродугового і високочастотного збудження плазми в парах Me-Cr-Al-Y були використані для нанесення жаростійких вакуумних покриттів. Зниження температури підкладки в умовах бомбардування поверхні зростаючого конденсату прискореними власними іонами виключило формування стовбчастої структури в покриттях і, як наслідок, наскрізну пористість. У порівнянні з електродуговим спосіб іонізації парів Me-Cr-Al-Y високочастотним електромагнітним полем дозволяє подавити крапельну фракцію потоку плазми, що конденсується. Досліджено в порівнянні характеристики мікроструктури двох зазначених типів конденсатів Me-Cr-Al-Y залежно від способу іонізації, температури осадження та відпалу. Technique and technology of atomic-ion sputtering (AIS) in variants of electric-arc high-frequency plasma excitation in pairs of Me-Cr-Al-Y was used for the application of vacuum heat-resistant coatings. Lowering the temperature of the substrate in a surface growing condensation bombardment that accelerated their own ions excluded the columnar structure formation in the coatings and, consequently, through porosity. Compared with electric arc, a ionization pairs Me-Cr-Al-Y way by high-frequency electromagnetic field can suppress the droplet fraction condensing in the plasma current. Studied in comparison the microstructure characteristics of these two condensates Me-Cr-Al-Y types, depending on the ionization method, deposition temperature and annealing. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации Покриття Me-Cr-Al-Y, отримані атомно-іонним розпиленням (АІР) в умовах електродугової та високочастотної іонізації Coatings Me-Cr-Al-Y, obtained by atomic-ion sputtering (AIS) under electric arc and high ionization Article published earlier |
| spellingShingle | Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации Картмазов, Г.Н. Поляков, Ю.И. Слепцов, С.Н. Лукирский, Ю.В. Щербак, С.П. Чалый, С.О. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| title | Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации |
| title_alt | Покриття Me-Cr-Al-Y, отримані атомно-іонним розпиленням (АІР) в умовах електродугової та високочастотної іонізації Coatings Me-Cr-Al-Y, obtained by atomic-ion sputtering (AIS) under electric arc and high ionization |
| title_full | Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации |
| title_fullStr | Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации |
| title_full_unstemmed | Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации |
| title_short | Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации |
| title_sort | покрытия me-cr-al-y, полученные атомно-ионным распылением (аир) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации |
| topic | Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| topic_facet | Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111303 |
| work_keys_str_mv | AT kartmazovgn pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii AT polâkovûi pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii AT slepcovsn pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii AT lukirskiiûv pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii AT ŝerbaksp pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii AT čalyiso pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii AT kartmazovgn pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí AT polâkovûi pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí AT slepcovsn pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí AT lukirskiiûv pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí AT ŝerbaksp pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí AT čalyiso pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí AT kartmazovgn coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization AT polâkovûi coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization AT slepcovsn coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization AT lukirskiiûv coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization AT ŝerbaksp coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization AT čalyiso coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization |