Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации

Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации

Техника и технология атомно-ионного распыления (АИР) в вариантах электродугового и высокочастотного возбуждений плазмы в парах Me-Cr-Al-Y были использованы для нанесения жаростойких вакуумных покрытий. Понижение температуры подложки в условиях бомбардировки поверхности растущего конденсата ускоренны...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2011
Hauptverfasser: Картмазов, Г.Н., Поляков, Ю.И., Слепцов, С.Н., Лукирский, Ю.В., Щербак, С.П., Чалый, С.О.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2011
Schlagworte:
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111303
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации / Г.Н. Картмазов, Ю.И. Поляков, С.Н. Слепцов, Ю.В. Лукирский, С.П. Щербак, С.О. Чалый // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 2. — С. 168-173. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111303
record_format dspace
spelling Картмазов, Г.Н.
Поляков, Ю.И.
Слепцов, С.Н.
Лукирский, Ю.В.
Щербак, С.П.
Чалый, С.О.
2017-01-09T14:30:41Z
2017-01-09T14:30:41Z
2011
Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации / Г.Н. Картмазов, Ю.И. Поляков, С.Н. Слепцов, Ю.В. Лукирский, С.П. Щербак, С.О. Чалый // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 2. — С. 168-173. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
1562-6016
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111303
621.165.51:621.039.546.5:620.197.3
Техника и технология атомно-ионного распыления (АИР) в вариантах электродугового и высокочастотного возбуждений плазмы в парах Me-Cr-Al-Y были использованы для нанесения жаростойких вакуумных покрытий. Понижение температуры подложки в условиях бомбардировки поверхности растущего конденсата ускоренными собственными ионами исключило формирование столбчатой структуры в покрытиях и, как следствие, сквозную пористость. По сравнению с электродуговым способ ионизации паров Me-Cr-Al-Y высокочастотным электромагнитным полем позволяет подавить капельную фракцию конденсирующегося потока плазмы. Исследованы в сравнении характеристики микроструктуры двух указанных типов конденсатов Me-Cr-Al-Y в зависимости от способа ионизации, температуры осаждения и отжига.
Техніка та технологія атомно-іонного розпилення (АІР) у варіантах електродугового і високочастотного збудження плазми в парах Me-Cr-Al-Y були використані для нанесення жаростійких вакуумних покриттів. Зниження температури підкладки в умовах бомбардування поверхні зростаючого конденсату прискореними власними іонами виключило формування стовбчастої структури в покриттях і, як наслідок, наскрізну пористість. У порівнянні з електродуговим спосіб іонізації парів Me-Cr-Al-Y високочастотним електромагнітним полем дозволяє подавити крапельну фракцію потоку плазми, що конденсується. Досліджено в порівнянні характеристики мікроструктури двох зазначених типів конденсатів Me-Cr-Al-Y залежно від способу іонізації, температури осадження та відпалу.
Technique and technology of atomic-ion sputtering (AIS) in variants of electric-arc high-frequency plasma excitation in pairs of Me-Cr-Al-Y was used for the application of vacuum heat-resistant coatings. Lowering the temperature of the substrate in a surface growing condensation bombardment that accelerated their own ions excluded the columnar structure formation in the coatings and, consequently, through porosity. Compared with electric arc, a ionization pairs Me-Cr-Al-Y way by high-frequency electromagnetic field can suppress the droplet fraction condensing in the plasma current. Studied in comparison the microstructure characteristics of these two condensates Me-Cr-Al-Y types, depending on the ionization method, deposition temperature and annealing.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
Покриття Me-Cr-Al-Y, отримані атомно-іонним розпиленням (АІР) в умовах електродугової та високочастотної іонізації
Coatings Me-Cr-Al-Y, obtained by atomic-ion sputtering (AIS) under electric arc and high ionization
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
spellingShingle Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
Картмазов, Г.Н.
Поляков, Ю.И.
Слепцов, С.Н.
Лукирский, Ю.В.
Щербак, С.П.
Чалый, С.О.
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title_short Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
title_full Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
title_fullStr Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
title_full_unstemmed Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
title_sort покрытия me-cr-al-y, полученные атомно-ионным распылением (аир) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации
author Картмазов, Г.Н.
Поляков, Ю.И.
Слепцов, С.Н.
Лукирский, Ю.В.
Щербак, С.П.
Чалый, С.О.
author_facet Картмазов, Г.Н.
Поляков, Ю.И.
Слепцов, С.Н.
Лукирский, Ю.В.
Щербак, С.П.
Чалый, С.О.
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
publishDate 2011
language Russian
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Покриття Me-Cr-Al-Y, отримані атомно-іонним розпиленням (АІР) в умовах електродугової та високочастотної іонізації
Coatings Me-Cr-Al-Y, obtained by atomic-ion sputtering (AIS) under electric arc and high ionization
description Техника и технология атомно-ионного распыления (АИР) в вариантах электродугового и высокочастотного возбуждений плазмы в парах Me-Cr-Al-Y были использованы для нанесения жаростойких вакуумных покрытий. Понижение температуры подложки в условиях бомбардировки поверхности растущего конденсата ускоренными собственными ионами исключило формирование столбчатой структуры в покрытиях и, как следствие, сквозную пористость. По сравнению с электродуговым способ ионизации паров Me-Cr-Al-Y высокочастотным электромагнитным полем позволяет подавить капельную фракцию конденсирующегося потока плазмы. Исследованы в сравнении характеристики микроструктуры двух указанных типов конденсатов Me-Cr-Al-Y в зависимости от способа ионизации, температуры осаждения и отжига. Техніка та технологія атомно-іонного розпилення (АІР) у варіантах електродугового і високочастотного збудження плазми в парах Me-Cr-Al-Y були використані для нанесення жаростійких вакуумних покриттів. Зниження температури підкладки в умовах бомбардування поверхні зростаючого конденсату прискореними власними іонами виключило формування стовбчастої структури в покриттях і, як наслідок, наскрізну пористість. У порівнянні з електродуговим спосіб іонізації парів Me-Cr-Al-Y високочастотним електромагнітним полем дозволяє подавити крапельну фракцію потоку плазми, що конденсується. Досліджено в порівнянні характеристики мікроструктури двох зазначених типів конденсатів Me-Cr-Al-Y залежно від способу іонізації, температури осадження та відпалу. Technique and technology of atomic-ion sputtering (AIS) in variants of electric-arc high-frequency plasma excitation in pairs of Me-Cr-Al-Y was used for the application of vacuum heat-resistant coatings. Lowering the temperature of the substrate in a surface growing condensation bombardment that accelerated their own ions excluded the columnar structure formation in the coatings and, consequently, through porosity. Compared with electric arc, a ionization pairs Me-Cr-Al-Y way by high-frequency electromagnetic field can suppress the droplet fraction condensing in the plasma current. Studied in comparison the microstructure characteristics of these two condensates Me-Cr-Al-Y types, depending on the ionization method, deposition temperature and annealing.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111303
citation_txt Покрытия Me-Cr-Al-Y, полученные атомно-ионным распылением (АИР) в условиях электродуговой и высокочастотной ионизации / Г.Н. Картмазов, Ю.И. Поляков, С.Н. Слепцов, Ю.В. Лукирский, С.П. Щербак, С.О. Чалый // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 2. — С. 168-173. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT kartmazovgn pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii
AT polâkovûi pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii
AT slepcovsn pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii
AT lukirskiiûv pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii
AT ŝerbaksp pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii
AT čalyiso pokrytiâmecralypolučennyeatomnoionnymraspyleniemairvusloviâhélektrodugovoiivysokočastotnoiionizacii
AT kartmazovgn pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí
AT polâkovûi pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí
AT slepcovsn pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí
AT lukirskiiûv pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí
AT ŝerbaksp pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí
AT čalyiso pokrittâmecralyotrimaníatomnoíonnimrozpilennâmaírvumovahelektrodugovoítavisokočastotnoííonízacíí
AT kartmazovgn coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization
AT polâkovûi coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization
AT slepcovsn coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization
AT lukirskiiûv coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization
AT ŝerbaksp coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization
AT čalyiso coatingsmecralyobtainedbyatomicionsputteringaisunderelectricarcandhighionization
first_indexed 2025-11-28T09:20:56Z
last_indexed 2025-11-28T09:20:56Z
_version_ 1850853560520015872

Ähnliche Einträge