Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional r...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2007 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111311 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111311 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. 2017-01-09T14:53:21Z 2017-01-09T14:53:21Z 2007 Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j, 81.15.-z https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111311 The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional reactive sputtering techniques employing the injection of ground state molecular O₂ . Characteristics of deposition behavior are investigated with and without the activation of the reactive species. Представлено результати досліджень магнетронної розпилювальної системи, що застосовується для синтезу високоякісних окисних покриттів. В робочу камеру кисень напускається вже попередньо активованим за допомогою високочастотного індукційного джерела, що є альтернативою звичайному реактивному магнетронному нанесенню, коли до робочої камери подається молекулярний кисень O₂ . Досліджено характеристики процесу нанесення, як з попередньою активацією реактивного газу, так і без неї. Представлены результаты исследований магнетронной распылительной системы, используемой для синтеза высококачественных оксидных покрытий. В рабочую камеру кислород напускается уже предварительно активированный при помощи источника на базе высокочастотного индукционного разряда, что является альтернативой обычному реактивному магнетронному нанесению, когда в рабочую камеру напускается молекулярный кислород O₂. Исследованы характеристики процесса нанесения, как с предварительной активацией реактивного газа, так и без. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings Вплив активації кисню на процес реактивного магнетронного синтезу покриттів з окису алюмінію Влияние активации кислорода на процесс реактивного магнетронного синтеза покрытий оксида алюминия Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| spellingShingle |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title_short |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_full |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_fullStr |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_full_unstemmed |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_sort |
oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| author |
Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. |
| author_facet |
Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. |
| topic |
Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet |
Low temperature plasma and plasma technologies |
| publishDate |
2007 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Вплив активації кисню на процес реактивного магнетронного синтезу покриттів з окису алюмінію Влияние активации кислорода на процесс реактивного магнетронного синтеза покрытий оксида алюминия |
| description |
The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional reactive sputtering techniques employing the injection of ground state molecular O₂ . Characteristics of deposition behavior are investigated with and without the activation of the reactive species.
Представлено результати досліджень магнетронної розпилювальної системи, що застосовується для синтезу високоякісних окисних покриттів. В робочу камеру кисень напускається вже попередньо активованим за допомогою високочастотного індукційного джерела, що є альтернативою звичайному реактивному магнетронному нанесенню, коли до робочої камери подається молекулярний кисень O₂ . Досліджено характеристики процесу нанесення, як з попередньою активацією реактивного газу, так і без неї.
Представлены результаты исследований магнетронной распылительной системы, используемой для синтеза высококачественных оксидных покрытий. В рабочую камеру кислород напускается уже предварительно активированный при помощи источника на базе высокочастотного индукционного разряда, что является альтернативой обычному реактивному магнетронному нанесению, когда в рабочую камеру напускается молекулярный кислород O₂. Исследованы характеристики процесса нанесения, как с предварительной активацией реактивного газа, так и без.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111311 |
| fulltext |
|
| citation_txt |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT walkowiczj oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT zykovav oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT dudinsv oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT yakovinsd oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT walkowiczj vplivaktivacííkisnûnaprocesreaktivnogomagnetronnogosintezupokrittívzokisualûmíníû AT zykovav vplivaktivacííkisnûnaprocesreaktivnogomagnetronnogosintezupokrittívzokisualûmíníû AT dudinsv vplivaktivacííkisnûnaprocesreaktivnogomagnetronnogosintezupokrittívzokisualûmíníû AT yakovinsd vplivaktivacííkisnûnaprocesreaktivnogomagnetronnogosintezupokrittívzokisualûmíníû AT walkowiczj vliânieaktivaciikislorodanaprocessreaktivnogomagnetronnogosintezapokrytiioksidaalûminiâ AT zykovav vliânieaktivaciikislorodanaprocessreaktivnogomagnetronnogosintezapokrytiioksidaalûminiâ AT dudinsv vliânieaktivaciikislorodanaprocessreaktivnogomagnetronnogosintezapokrytiioksidaalûminiâ AT yakovinsd vliânieaktivaciikislorodanaprocessreaktivnogomagnetronnogosintezapokrytiioksidaalûminiâ |
| first_indexed |
2025-11-25T20:53:32Z |
| last_indexed |
2025-11-25T20:53:32Z |
| _version_ |
1850538727932166144 |