Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional r...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2007 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111311 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)
Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)
The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)
The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Investigation of ozone synthesis in the negative pulsed corona discharge in oxygen at the combined supply voltage
за авторством: Golota, V.I., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Golota, V.I., та інші
Опубліковано: (2021)
Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)
The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Structure and properties of the (Cr, Al)N coatings deposited by PIII&D method
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
Comparison of spark channel expansion in hydrogen, oxygen and nitrogen
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2020)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)
Normal mode of dc discharge in argon, hydrogen and oxygen
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2016)
The biomedical application and corrosion properties of implanted materials with protective coatings
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Investigation of parameters of the working substance - low temperature plasma in the ionization resonator chamber of the RF reactive engine
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
Non-destructive control of PVD coating surface defects
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
Functional protective ZrN coatings on implants for trauma surgery
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
Сharacterization of ARC-PVD ZrN nanostructured coatings by using the fractals theory
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Romaniuk, S.P., та інші
Опубліковано: (2022)
Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Break-down of the magnetically insulated diode
за авторством: Zagrebelnyy, I.A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Zagrebelnyy, I.A., та інші
Опубліковано: (2007)
Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)
Anti-corrosion ceramic coatings on the surface of Nd-Fe-B repelling magnets
за авторством: Taran, A.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Taran, A.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Nanostructured formations and coatings created on the surface of materials exposed to compression plasma flows
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)