Исследование микротопографии поверхности плёнок Al₂O₃, полученных методом магнетронного распыления при низком давлении

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2003
• Main Author: Тесленко-Пономаренко, В.В.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2003
• Subjects: Работы молодых ученых института физики твердого тела, материаловедения и технологий ННЦ ХФТИ
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111372
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Исследование микротопографии поверхности плёнок Al₂O₃, полученных методом магнетронного распыления при низком давлении / В.В. Тесленко-Пономаренко // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 5. — С. 175-178. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Методом магнетронного распыления Al при давлении в камере ~10⁻² Па получены плёнки Al₂O₃. Определены структура, пористость, микротвёрдость, микротопография поверхности плёнок для ряда режимов их нанесения. Получены квазиаморфные плёнки с микротвёрдостью 13...15 ГПа. Установлено наличие на поверхности плёнок локальных неоднородностей, обусловленных микропробоями на мишени, которые возникают во время осаждения плёнок. Методом магнетронного розпилення Al при тиску в камері ~ 10⁻² Па отримані плівки Al₂O₃. Визначено структуру, пористість, мікротвердість, мікротопографія поверхні плівок для ряду режимів їхнього нанесення. Отримані квазіаморфні плівки з мікротвердістю 13...15 ГПа. Установлено наявність на поверхні плівок локальних неоднорідностей, обумовлених мікропробоями на мішені, що виникають під час осадження плівок. The films Al₂O₃ were obtained with the help of the method of magnetron sputtering of Al under pressure in the chamber ~10⁻² Pa. The structure, porosity, microhardness, microtopography of the surface of films were determined for the number of regimes of the deposition. Quasiamorphous films with microhardness 13...15 GPa were obtained. The presence of local non-uniformities on the surface was determined. These non-uniformities are conditioned by the microarcs on the target which appear during film deposition.