Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа
На основании анализа параметров электронного переноса изучены процессы, происходящие в полупроводниковом кремнии при нагреве. Измерения магниточувствительности напряжения проводимости показали, что при температурах порядка 540 К во всех образцах присутствуют крупномасштабные неоднородности. Полученн...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2003 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2003
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111380 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа / Л.В. Кожитов, Г.Г. Тимошина, В.З. Куцова, М.И. Тимошина, В.Ф. Дегтярев // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 5. — С. 128-135. — Бібліогр.: 3 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111380 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Кожитов, Л.В. Тимошина, Г.Г. Куцова, В.З. Тимошина, М.И. Дегтярев, В.Ф. 2017-01-09T18:00:42Z 2017-01-09T18:00:42Z 2003 Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа / Л.В. Кожитов, Г.Г. Тимошина, В.З. Куцова, М.И. Тимошина, В.Ф. Дегтярев // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 5. — С. 128-135. — Бібліогр.: 3 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111380 537.311.33:536.5 На основании анализа параметров электронного переноса изучены процессы, происходящие в полупроводниковом кремнии при нагреве. Измерения магниточувствительности напряжения проводимости показали, что при температурах порядка 540 К во всех образцах присутствуют крупномасштабные неоднородности. Полученные данные коррелируют с известными представлениями о фазовых превращениях в кремнии БЗП и могут служить дополнительным подтверждением их реализации при нагреве. На підставі аналізу параметрів електронного переносу вивчені процеси, які здійснюються в напівпровідниковому кремнії при нагріві. Виміри магніточутливості напруги провідності показали, що при температурах біля 540 К в усіх зразках присутні великомасштабні неоднорідності. Отримані дані корелюють з відомими уявленнями про фазові перетворення в кремнії БЗП та можуть служити додатковим підтвердженням їх реалізації при нагріві. On the basis of the analysis of parameters of electronic carry the processes occurring in semi-conductor silicon at heating are investigated. The measurements magnetsensitivly of a tensionof conductivity have shown, at temperatures about 540K in all samples are present of large-scale heterogeneity. The received data correlate with known representations about phase transformations in silicon CZM and can serve additional acknowledgement (confirmation) of their realization at heating. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика и технология конструкционных материалов Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа Дослідження впливу неоднорідностей на параметри електронного переносу і термостабільності у високоомному кремнію n-типу Research of influence heterogeneity on parameters of electronic carry and thermal stability in high-resistance n-type silicon Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа |
| spellingShingle |
Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа Кожитов, Л.В. Тимошина, Г.Г. Куцова, В.З. Тимошина, М.И. Дегтярев, В.Ф. Физика и технология конструкционных материалов |
| title_short |
Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа |
| title_full |
Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа |
| title_fullStr |
Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа |
| title_full_unstemmed |
Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа |
| title_sort |
исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа |
| author |
Кожитов, Л.В. Тимошина, Г.Г. Куцова, В.З. Тимошина, М.И. Дегтярев, В.Ф. |
| author_facet |
Кожитов, Л.В. Тимошина, Г.Г. Куцова, В.З. Тимошина, М.И. Дегтярев, В.Ф. |
| topic |
Физика и технология конструкционных материалов |
| topic_facet |
Физика и технология конструкционных материалов |
| publishDate |
2003 |
| language |
Russian |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Дослідження впливу неоднорідностей на параметри електронного переносу і термостабільності у високоомному кремнію n-типу Research of influence heterogeneity on parameters of electronic carry and thermal stability in high-resistance n-type silicon |
| description |
На основании анализа параметров электронного переноса изучены процессы, происходящие в полупроводниковом кремнии при нагреве. Измерения магниточувствительности напряжения проводимости показали, что при температурах порядка 540 К во всех образцах присутствуют крупномасштабные неоднородности. Полученные данные коррелируют с известными представлениями о фазовых превращениях в кремнии БЗП и могут служить дополнительным подтверждением их реализации при нагреве.
На підставі аналізу параметрів електронного переносу вивчені процеси, які здійснюються в напівпровідниковому кремнії при нагріві. Виміри магніточутливості напруги провідності показали, що при температурах біля 540 К в усіх зразках присутні великомасштабні неоднорідності. Отримані дані корелюють з відомими уявленнями про фазові перетворення в кремнії БЗП та можуть служити додатковим підтвердженням їх реалізації при нагріві.
On the basis of the analysis of parameters of electronic carry the processes occurring in semi-conductor silicon at heating are investigated. The measurements magnetsensitivly of a tensionof conductivity have shown, at temperatures about 540K in all samples are present of large-scale heterogeneity. The received data correlate with known representations about phase transformations in silicon CZM and can serve additional acknowledgement (confirmation) of their realization at heating.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111380 |
| citation_txt |
Исследование влияния неоднородностей на параметры электронного переноса и термостабильности в высокоомном кремнии n-типа / Л.В. Кожитов, Г.Г. Тимошина, В.З. Куцова, М.И. Тимошина, В.Ф. Дегтярев // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 5. — С. 128-135. — Бібліогр.: 3 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT kožitovlv issledovanievliâniâneodnorodnosteinaparametryélektronnogoperenosaitermostabilʹnostivvysokoomnomkremniintipa AT timošinagg issledovanievliâniâneodnorodnosteinaparametryélektronnogoperenosaitermostabilʹnostivvysokoomnomkremniintipa AT kucovavz issledovanievliâniâneodnorodnosteinaparametryélektronnogoperenosaitermostabilʹnostivvysokoomnomkremniintipa AT timošinami issledovanievliâniâneodnorodnosteinaparametryélektronnogoperenosaitermostabilʹnostivvysokoomnomkremniintipa AT degtârevvf issledovanievliâniâneodnorodnosteinaparametryélektronnogoperenosaitermostabilʹnostivvysokoomnomkremniintipa AT kožitovlv doslídžennâvplivuneodnorídnosteinaparametrielektronnogoperenosuítermostabílʹnostíuvisokoomnomukremníûntipu AT timošinagg doslídžennâvplivuneodnorídnosteinaparametrielektronnogoperenosuítermostabílʹnostíuvisokoomnomukremníûntipu AT kucovavz doslídžennâvplivuneodnorídnosteinaparametrielektronnogoperenosuítermostabílʹnostíuvisokoomnomukremníûntipu AT timošinami doslídžennâvplivuneodnorídnosteinaparametrielektronnogoperenosuítermostabílʹnostíuvisokoomnomukremníûntipu AT degtârevvf doslídžennâvplivuneodnorídnosteinaparametrielektronnogoperenosuítermostabílʹnostíuvisokoomnomukremníûntipu AT kožitovlv researchofinfluenceheterogeneityonparametersofelectroniccarryandthermalstabilityinhighresistancentypesilicon AT timošinagg researchofinfluenceheterogeneityonparametersofelectroniccarryandthermalstabilityinhighresistancentypesilicon AT kucovavz researchofinfluenceheterogeneityonparametersofelectroniccarryandthermalstabilityinhighresistancentypesilicon AT timošinami researchofinfluenceheterogeneityonparametersofelectroniccarryandthermalstabilityinhighresistancentypesilicon AT degtârevvf researchofinfluenceheterogeneityonparametersofelectroniccarryandthermalstabilityinhighresistancentypesilicon |
| first_indexed |
2025-12-07T21:04:32Z |
| last_indexed |
2025-12-07T21:04:32Z |
| _version_ |
1850884984214126592 |