Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter
Composite films were formed by vacuum-arc method using two plasma sources equipped with aluminum and titanium cathodes. The sources were coupled with a dual channel T-shaped magnetic filter. Ability of Ti-Al-N films composition adjustment by deposition of mixed plasma streams from the plasma sources...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2011 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2011
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111438 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 140-144. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111438 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Aksyonov, D.S. Aksenov, I.I. Luchaninov, A.A. Reshetnyak, E.N. Strel’nitskij, V.E. 2017-01-09T20:33:39Z 2017-01-09T20:33:39Z 2011 Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 140-144. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111438 621.793 Composite films were formed by vacuum-arc method using two plasma sources equipped with aluminum and titanium cathodes. The sources were coupled with a dual channel T-shaped magnetic filter. Ability of Ti-Al-N films composition adjustment by deposition of mixed plasma streams from the plasma sources was investigated. It has been found that film composition can be varied by changing arc currents in plasma sources. However adjustment range of film composition is rather limited, and can be expanded by changing magnetic field intensity in anode area of plasma sources. Obtained films have uniform composition and thickness on 180 mm diameter surface. Conditions for aluminum content adjustment range from 14 to 60 wt.% were found. Досліджено можливість регулювання складу Ti-Al-N-покриттів, які отримано вакуумно-дуговим методом шляхом змішування потоків плазми від генераторів із титановим та алюмінієвим катодом. Фільтрація потоків здійснювалась за допомогою спільного для обох генераторів T-подібного двоканального фільтра. Встановлено, що зміни вмісту алюмінію та титану в покритті можливо досягти шляхом регулювання співвідношення розрядних струмів генераторів плазми. Збільшення діапазону регулювання складу покриття досягається шляхом підбору інтенсивності магнітних полів в анодних секціях генераторів плазми. Отримані покриття однорідні за складом на підкладці діаметром 180 мм. Визначено умови, які дозволяють регулювати концентрацію алюмінію у межах від 14 до 60 ваг. %. Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N-покрытий, получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра. Установлено, что изменения содержания алюминия и титана в покрытии можно достичь путём регулировки соотношения разрядных токов в генераторах плазмы. Увеличение диапазона регулировки состава покрытия достигается путём подбора интенсивности магнитных полей в анодных секциях генераторов плазмы. Полученные покрытия однородны по составу на подложке диаметром 180 мм. Определены условия, позволяющие регулировать концентрацию алюминия в пределах от 14 до 60 вес. %. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter Регулювання складу вакуумно-дугових Ti-Al-N-покриттів, осаджуваних з використанням двоканального фільтра Регулировка состава вакуумно-дуговых Ti-Al-N-покрытий, осаждаемых с использованием двухканального фильтра Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter |
| spellingShingle |
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter Aksyonov, D.S. Aksenov, I.I. Luchaninov, A.A. Reshetnyak, E.N. Strel’nitskij, V.E. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| title_short |
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter |
| title_full |
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter |
| title_fullStr |
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter |
| title_full_unstemmed |
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter |
| title_sort |
composition adjustment of vacuum-arc ti-al-n films, deposited with use of two-channel filter |
| author |
Aksyonov, D.S. Aksenov, I.I. Luchaninov, A.A. Reshetnyak, E.N. Strel’nitskij, V.E. |
| author_facet |
Aksyonov, D.S. Aksenov, I.I. Luchaninov, A.A. Reshetnyak, E.N. Strel’nitskij, V.E. |
| topic |
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| topic_facet |
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| publishDate |
2011 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Регулювання складу вакуумно-дугових Ti-Al-N-покриттів, осаджуваних з використанням двоканального фільтра Регулировка состава вакуумно-дуговых Ti-Al-N-покрытий, осаждаемых с использованием двухканального фильтра |
| description |
Composite films were formed by vacuum-arc method using two plasma sources equipped with aluminum and titanium cathodes. The sources were coupled with a dual channel T-shaped magnetic filter. Ability of Ti-Al-N films composition adjustment by deposition of mixed plasma streams from the plasma sources was investigated. It has been found that film composition can be varied by changing arc currents in plasma sources. However adjustment range of film composition is rather limited, and can be expanded by changing magnetic field intensity in anode area of plasma sources. Obtained films have uniform composition and thickness on 180 mm diameter surface. Conditions for aluminum content adjustment range from 14 to 60 wt.% were found.
Досліджено можливість регулювання складу Ti-Al-N-покриттів, які отримано вакуумно-дуговим методом шляхом змішування потоків плазми від генераторів із титановим та алюмінієвим катодом. Фільтрація потоків здійснювалась за допомогою спільного для обох генераторів T-подібного двоканального фільтра. Встановлено, що зміни вмісту алюмінію та титану в покритті можливо досягти шляхом регулювання співвідношення розрядних струмів генераторів плазми. Збільшення діапазону регулювання складу покриття досягається шляхом підбору інтенсивності магнітних полів в анодних секціях генераторів плазми. Отримані покриття однорідні за складом на підкладці діаметром 180 мм. Визначено умови, які дозволяють регулювати концентрацію алюмінію у межах від 14 до 60 ваг. %.
Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N-покрытий, получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра. Установлено, что изменения содержания алюминия и титана в покрытии можно достичь путём регулировки соотношения разрядных токов в генераторах плазмы. Увеличение диапазона регулировки состава покрытия достигается путём подбора интенсивности магнитных полей в анодных секциях генераторов плазмы. Полученные покрытия однородны по составу на подложке диаметром 180 мм. Определены условия, позволяющие регулировать концентрацию алюминия в пределах от 14 до 60 вес. %.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111438 |
| citation_txt |
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 140-144. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT aksyonovds compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter AT aksenovii compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter AT luchaninovaa compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter AT reshetnyaken compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter AT strelnitskijve compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter AT aksyonovds regulûvannâskladuvakuumnodugovihtialnpokrittívosadžuvanihzvikoristannâmdvokanalʹnogofílʹtra AT aksenovii regulûvannâskladuvakuumnodugovihtialnpokrittívosadžuvanihzvikoristannâmdvokanalʹnogofílʹtra AT luchaninovaa regulûvannâskladuvakuumnodugovihtialnpokrittívosadžuvanihzvikoristannâmdvokanalʹnogofílʹtra AT reshetnyaken regulûvannâskladuvakuumnodugovihtialnpokrittívosadžuvanihzvikoristannâmdvokanalʹnogofílʹtra AT strelnitskijve regulûvannâskladuvakuumnodugovihtialnpokrittívosadžuvanihzvikoristannâmdvokanalʹnogofílʹtra AT aksyonovds regulirovkasostavavakuumnodugovyhtialnpokrytiiosaždaemyhsispolʹzovaniemdvuhkanalʹnogofilʹtra AT aksenovii regulirovkasostavavakuumnodugovyhtialnpokrytiiosaždaemyhsispolʹzovaniemdvuhkanalʹnogofilʹtra AT luchaninovaa regulirovkasostavavakuumnodugovyhtialnpokrytiiosaždaemyhsispolʹzovaniemdvuhkanalʹnogofilʹtra AT reshetnyaken regulirovkasostavavakuumnodugovyhtialnpokrytiiosaždaemyhsispolʹzovaniemdvuhkanalʹnogofilʹtra AT strelnitskijve regulirovkasostavavakuumnodugovyhtialnpokrytiiosaždaemyhsispolʹzovaniemdvuhkanalʹnogofilʹtra |
| first_indexed |
2025-12-07T16:49:42Z |
| last_indexed |
2025-12-07T16:49:42Z |
| _version_ |
1850868952031297536 |