Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения
Методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ионной имплантации (способ PBIID) получены покрытия нитрида титана с твердостью, достигающей 62 ГПа и высокой стойкостью к износу при резании. Подача высоковольтных импульсов приводит к формированию стабильного структурного состояния мононитрида т...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2011 |
| Автори: | , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2011
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111450 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения / О.В. Соболь, А.А. Андреев, С.Н. Григорьев, В.Ф. Горбань, М.А. Волосова, С.В. Алешин, В.А. Столбовой // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 174-177. — Бібліогр.: 3 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862667361823227904 |
|---|---|
| author | Соболь, О.В. Андреев, А.А. Григорьев, С.Н. Горбань, В.Ф. Волосова, М.А. Алешин, С.В. Столбовой, В.А. |
| author_facet | Соболь, О.В. Андреев, А.А. Григорьев, С.Н. Горбань, В.Ф. Волосова, М.А. Алешин, С.В. Столбовой, В.А. |
| citation_txt | Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения / О.В. Соболь, А.А. Андреев, С.Н. Григорьев, В.Ф. Горбань, М.А. Волосова, С.В. Алешин, В.А. Столбовой // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 174-177. — Бібліогр.: 3 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ионной имплантации (способ PBIID) получены покрытия нитрида титана с твердостью, достигающей 62 ГПа и высокой стойкостью к износу при резании. Подача высоковольтных импульсов приводит к формированию стабильного структурного состояния мононитрида титана с кубической (структурный тип NaCl) кристаллической решеткой. Сравнение структуры и напряженного состояния покрытий нитрида титана, полученных по обычной схеме без подачи дополнительных высоковольтных импульсов на подложку в процессе осаждения и с наложением таких импульсов, показывает, что особенностями влияния импульсов являются значительное уменьшение размеров кристаллитов и их неориентированный рост при небольшом значении потенциалов смещения на подложке (от «плавающего» около -5 до -40 В), а также значительное снижение внутренних напряжений.
Методом вакуумно-дугового осадження з використанням іонної імплантації (спосіб PBІІD) отримані покриття нітриду титану із твердістю, досягаючої 62 ГПа, і високою стійкістю до зношування при різанні. Подача високовольтних імпульсів приводить до формування стабільного структурного стану мононитриду титану з кубічною (структурний тип NaCl) кристалічною ґраткою. Порівняння структури і напруженого стану покриттів нітриду титану, отриманих за звичайною схемою без подачі додаткових високовольтних імпульсів на підкладку в процесі осадження і з накладенням таких імпульсів, показує, що особливостями впливу імпульсів є значне зменшення розмірів кристалітів та їх неорієнтований ріст при невеликому значенні потенціалів зсуву на підкладці (від «плаваючого» біля -5 до -40 В), а також значне зниження внутрішніх напружень.
Method of vacuum-arc deposition with ion implantation, (mode PBIID) obtained by coating of titanium nitride with a hardness of 62 GPa and reaches a high resistance to wear during the cutting. Submission of high-voltage pulses results in the formation of a stable structural state of titanium with cubic mononitride (structural type NaCl) crystal lattice. Comparison of the structure and stress state of titanium nitride coatings obtained in the usual way without additional supply of high-voltage pulses to the substrate during the deposition and the imposition of such pulses, shows that the influence of the pulse characteristics are a significant decrease in crystallite size and undirected growth at low significance of potential bias on substrate (from the "floating" around -5 to -40 V), and a significant reduction of internal stresses.
|
| first_indexed | 2025-12-07T15:22:06Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111450 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T15:22:06Z |
| publishDate | 2011 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Соболь, О.В. Андреев, А.А. Григорьев, С.Н. Горбань, В.Ф. Волосова, М.А. Алешин, С.В. Столбовой, В.А. 2017-01-10T08:52:13Z 2017-01-10T08:52:13Z 2011 Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения / О.В. Соболь, А.А. Андреев, С.Н. Григорьев, В.Ф. Горбань, М.А. Волосова, С.В. Алешин, В.А. Столбовой // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 174-177. — Бібліогр.: 3 назв. — рос. 1562-6016 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111450 620.178.1:539.533 Методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ионной имплантации (способ PBIID) получены покрытия нитрида титана с твердостью, достигающей 62 ГПа и высокой стойкостью к износу при резании. Подача высоковольтных импульсов приводит к формированию стабильного структурного состояния мононитрида титана с кубической (структурный тип NaCl) кристаллической решеткой. Сравнение структуры и напряженного состояния покрытий нитрида титана, полученных по обычной схеме без подачи дополнительных высоковольтных импульсов на подложку в процессе осаждения и с наложением таких импульсов, показывает, что особенностями влияния импульсов являются значительное уменьшение размеров кристаллитов и их неориентированный рост при небольшом значении потенциалов смещения на подложке (от «плавающего» около -5 до -40 В), а также значительное снижение внутренних напряжений. Методом вакуумно-дугового осадження з використанням іонної імплантації (спосіб PBІІD) отримані покриття нітриду титану із твердістю, досягаючої 62 ГПа, і високою стійкістю до зношування при різанні. Подача високовольтних імпульсів приводить до формування стабільного структурного стану мононитриду титану з кубічною (структурний тип NaCl) кристалічною ґраткою. Порівняння структури і напруженого стану покриттів нітриду титану, отриманих за звичайною схемою без подачі додаткових високовольтних імпульсів на підкладку в процесі осадження і з накладенням таких імпульсів, показує, що особливостями впливу імпульсів є значне зменшення розмірів кристалітів та їх неорієнтований ріст при невеликому значенні потенціалів зсуву на підкладці (від «плаваючого» біля -5 до -40 В), а також значне зниження внутрішніх напружень. Method of vacuum-arc deposition with ion implantation, (mode PBIID) obtained by coating of titanium nitride with a hardness of 62 GPa and reaches a high resistance to wear during the cutting. Submission of high-voltage pulses results in the formation of a stable structural state of titanium with cubic mononitride (structural type NaCl) crystal lattice. Comparison of the structure and stress state of titanium nitride coatings obtained in the usual way without additional supply of high-voltage pulses to the substrate during the deposition and the imposition of such pulses, shows that the influence of the pulse characteristics are a significant decrease in crystallite size and undirected growth at low significance of potential bias on substrate (from the "floating" around -5 to -40 V), and a significant reduction of internal stresses. ru Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения Механічні характеристики, структура й напружений стан вакуумно- дугових TіN-покриттів, які випали в осадок при подачі на підкладку високовольтних імпульсів у процесі осадження Physical characteristics, structure and stress state of vacuum-arc TiN coating, deposition on the substrate when applying high-voltage pulse during the deposition Article published earlier |
| spellingShingle | Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения Соболь, О.В. Андреев, А.А. Григорьев, С.Н. Горбань, В.Ф. Волосова, М.А. Алешин, С.В. Столбовой, В.А. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| title | Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения |
| title_alt | Механічні характеристики, структура й напружений стан вакуумно- дугових TіN-покриттів, які випали в осадок при подачі на підкладку високовольтних імпульсів у процесі осадження Physical characteristics, structure and stress state of vacuum-arc TiN coating, deposition on the substrate when applying high-voltage pulse during the deposition |
| title_full | Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения |
| title_fullStr | Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения |
| title_full_unstemmed | Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения |
| title_short | Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения |
| title_sort | механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых tin-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения |
| topic | Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| topic_facet | Физика радиационных и ионно-плазменных технологий |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111450 |
| work_keys_str_mv | AT sobolʹov mehaničeskieharakteristikistrukturainaprâžennoesostoânievakuumnodugovyhtinpokrytiiosaždennyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsovvprocesseosaždeniâ AT andreevaa mehaničeskieharakteristikistrukturainaprâžennoesostoânievakuumnodugovyhtinpokrytiiosaždennyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsovvprocesseosaždeniâ AT grigorʹevsn mehaničeskieharakteristikistrukturainaprâžennoesostoânievakuumnodugovyhtinpokrytiiosaždennyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsovvprocesseosaždeniâ AT gorbanʹvf mehaničeskieharakteristikistrukturainaprâžennoesostoânievakuumnodugovyhtinpokrytiiosaždennyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsovvprocesseosaždeniâ AT volosovama mehaničeskieharakteristikistrukturainaprâžennoesostoânievakuumnodugovyhtinpokrytiiosaždennyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsovvprocesseosaždeniâ AT alešinsv mehaničeskieharakteristikistrukturainaprâžennoesostoânievakuumnodugovyhtinpokrytiiosaždennyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsovvprocesseosaždeniâ AT stolbovoiva mehaničeskieharakteristikistrukturainaprâžennoesostoânievakuumnodugovyhtinpokrytiiosaždennyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsovvprocesseosaždeniâ AT sobolʹov mehaníčníharakteristikistrukturainapruženiistanvakuumnodugovihtínpokrittívâkívipalivosadokpripodačínapídkladkuvisokovolʹtnihímpulʹsívuprocesíosadžennâ AT andreevaa mehaníčníharakteristikistrukturainapruženiistanvakuumnodugovihtínpokrittívâkívipalivosadokpripodačínapídkladkuvisokovolʹtnihímpulʹsívuprocesíosadžennâ AT grigorʹevsn mehaníčníharakteristikistrukturainapruženiistanvakuumnodugovihtínpokrittívâkívipalivosadokpripodačínapídkladkuvisokovolʹtnihímpulʹsívuprocesíosadžennâ AT gorbanʹvf mehaníčníharakteristikistrukturainapruženiistanvakuumnodugovihtínpokrittívâkívipalivosadokpripodačínapídkladkuvisokovolʹtnihímpulʹsívuprocesíosadžennâ AT volosovama mehaníčníharakteristikistrukturainapruženiistanvakuumnodugovihtínpokrittívâkívipalivosadokpripodačínapídkladkuvisokovolʹtnihímpulʹsívuprocesíosadžennâ AT alešinsv mehaníčníharakteristikistrukturainapruženiistanvakuumnodugovihtínpokrittívâkívipalivosadokpripodačínapídkladkuvisokovolʹtnihímpulʹsívuprocesíosadžennâ AT stolbovoiva mehaníčníharakteristikistrukturainapruženiistanvakuumnodugovihtínpokrittívâkívipalivosadokpripodačínapídkladkuvisokovolʹtnihímpulʹsívuprocesíosadžennâ AT sobolʹov physicalcharacteristicsstructureandstressstateofvacuumarctincoatingdepositiononthesubstratewhenapplyinghighvoltagepulseduringthedeposition AT andreevaa physicalcharacteristicsstructureandstressstateofvacuumarctincoatingdepositiononthesubstratewhenapplyinghighvoltagepulseduringthedeposition AT grigorʹevsn physicalcharacteristicsstructureandstressstateofvacuumarctincoatingdepositiononthesubstratewhenapplyinghighvoltagepulseduringthedeposition AT gorbanʹvf physicalcharacteristicsstructureandstressstateofvacuumarctincoatingdepositiononthesubstratewhenapplyinghighvoltagepulseduringthedeposition AT volosovama physicalcharacteristicsstructureandstressstateofvacuumarctincoatingdepositiononthesubstratewhenapplyinghighvoltagepulseduringthedeposition AT alešinsv physicalcharacteristicsstructureandstressstateofvacuumarctincoatingdepositiononthesubstratewhenapplyinghighvoltagepulseduringthedeposition AT stolbovoiva physicalcharacteristicsstructureandstressstateofvacuumarctincoatingdepositiononthesubstratewhenapplyinghighvoltagepulseduringthedeposition |