Kovtun, Y., Skibenko, E., Skibenko, A., Kuprin, A., Ozerov, A., Syusko, E., & Yuferov, V. (2016). Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration. Вопросы атомной науки и техники.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Kovtun, Yu.V, E.I Skibenko, A.I Skibenko, A.S Kuprin, A.N Ozerov, E.V Syusko, та V.B Yuferov. "Mass Distribution of Sputtered Cathode Material in the Reflex Discharge Along the Magnetic Field Mirror Configuration." Вопросы атомной науки и техники 2016.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Kovtun, Yu.V, et al. "Mass Distribution of Sputtered Cathode Material in the Reflex Discharge Along the Magnetic Field Mirror Configuration." Вопросы атомной науки и техники, 2016.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.