Kovtun, Y., Skibenko, E., Skibenko, A., Kuprin, A., Ozerov, A., Syusko, E., & Yuferov, V. (2016). Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration. Вопросы атомной науки и техники.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Kovtun, Yu.V, E.I Skibenko, A.I Skibenko, A.S Kuprin, A.N Ozerov, E.V Syusko, und V.B Yuferov. "Mass Distribution of Sputtered Cathode Material in the Reflex Discharge Along the Magnetic Field Mirror Configuration." Вопросы атомной науки и техники 2016.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Kovtun, Yu.V, et al. "Mass Distribution of Sputtered Cathode Material in the Reflex Discharge Along the Magnetic Field Mirror Configuration." Вопросы атомной науки и техники, 2016.
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