Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration
The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increa...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2016 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111743 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111743 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Kovtun, Yu.V Skibenko, E.I. Skibenko, A.I. Kuprin, A.S. Ozerov, A.N. Syusko, E.V. Yuferov, V.B. 2017-01-14T09:48:00Z 2017-01-14T09:48:00Z 2016 Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. 1562-6016 PACS: 52.80.Sm; 52.40.Hf https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111743 The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increase of the receiving plates due to the deposition of cathode material (Ti) particles on them and the increasing magnetic field regions. The maximum possible sputtering yield Ycurr has been evaluated. The authors have deduced parametric dependences of the sputtering ratio on the power function exponent that determines the shape of the radial plasma-density profile, and also, on the magnetic field induction value. Досліджено розподіл розпорошеного матеріалу катодів під впливом плазми імпульсного відбивного розряду і осаджуваного на поверхні анода (вакуумної камери) за допомогою набору дискретних приймальних пластин. Встановлено кореляційний взаємозв’язок збільшення приросту маси приймальних пластин за рахунок осадження на них часток катодної речовини (Ti) і областей наростаючого магнітного поля. Проведена оцінка величини максимально можливого коефіцієнта розпорошення Υcurr. Одержані параметричні залежності коефіцієнта розпорошення від показника степеневої функції, який визначає форму радіального профілю густини плазми, і від величини індукції магнітного поля. Исследовано распределение распыленного материала катодов под воздействием плазмы импульсного отражательного разряда и осаждаемого на поверхности анода (вакуумной камеры) с помощью набора дискретных приемных пластин. Установлена корреляционная взаимосвязь увеличения прироста массы приемных пластин в результате осаждения на них частиц катодного вещества (Ti) и областей нарастающего магнитного поля. Проведена оценка величины максимально возможного коэффициента распыления Υcurr. Получены параметрические зависимости коэффициента распыления от показателя степенной функции, определяющего форму радиального профиля плотности плазмы, и от величины индукции магнитного поля. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Физика и технология конструкционных материалов Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration Розподіл маси розпорошеної катодної речовини у відбивному розряді уздовж магнітного поля пробкової конфігурації Распределение массы распыляемого катодного вещества в отражательном разряде вдоль магнитного поля пробочной конфигурации Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| spellingShingle |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration Kovtun, Yu.V Skibenko, E.I. Skibenko, A.I. Kuprin, A.S. Ozerov, A.N. Syusko, E.V. Yuferov, V.B. Физика и технология конструкционных материалов |
| title_short |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_full |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_fullStr |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_full_unstemmed |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| title_sort |
mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration |
| author |
Kovtun, Yu.V Skibenko, E.I. Skibenko, A.I. Kuprin, A.S. Ozerov, A.N. Syusko, E.V. Yuferov, V.B. |
| author_facet |
Kovtun, Yu.V Skibenko, E.I. Skibenko, A.I. Kuprin, A.S. Ozerov, A.N. Syusko, E.V. Yuferov, V.B. |
| topic |
Физика и технология конструкционных материалов |
| topic_facet |
Физика и технология конструкционных материалов |
| publishDate |
2016 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Розподіл маси розпорошеної катодної речовини у відбивному розряді уздовж магнітного поля пробкової конфігурації Распределение массы распыляемого катодного вещества в отражательном разряде вдоль магнитного поля пробочной конфигурации |
| description |
The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increase of the receiving plates due to the deposition of cathode material (Ti) particles on them and the increasing magnetic field regions. The maximum possible sputtering yield Ycurr has been evaluated. The authors have deduced parametric dependences of the sputtering ratio on the power function exponent that determines the shape of the radial plasma-density profile, and also, on the magnetic field induction value.
Досліджено розподіл розпорошеного матеріалу катодів під впливом плазми імпульсного відбивного розряду і осаджуваного на поверхні анода (вакуумної камери) за допомогою набору дискретних приймальних пластин. Встановлено кореляційний взаємозв’язок збільшення приросту маси приймальних пластин за рахунок осадження на них часток катодної речовини (Ti) і областей наростаючого магнітного поля. Проведена оцінка величини максимально можливого коефіцієнта розпорошення Υcurr. Одержані параметричні залежності коефіцієнта розпорошення від показника степеневої функції, який визначає форму радіального профілю густини плазми, і від величини індукції магнітного поля.
Исследовано распределение распыленного материала катодов под воздействием плазмы импульсного отражательного разряда и осаждаемого на поверхности анода (вакуумной камеры) с помощью набора дискретных приемных пластин. Установлена корреляционная взаимосвязь увеличения прироста массы приемных пластин в результате осаждения на них частиц катодного вещества (Ti) и областей нарастающего магнитного поля. Проведена оценка величины максимально возможного коэффициента распыления Υcurr. Получены параметрические зависимости коэффициента распыления от показателя степенной функции, определяющего форму радиального профиля плотности плазмы, и от величины индукции магнитного поля.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111743 |
| citation_txt |
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT kovtunyuv massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT skibenkoei massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT skibenkoai massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT kuprinas massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT ozerovan massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT syuskoev massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT yuferovvb massdistributionofsputteredcathodematerialinthereflexdischargealongthemagneticfieldmirrorconfiguration AT kovtunyuv rozpodílmasirozporošenoíkatodnoírečoviniuvídbivnomurozrâdíuzdovžmagnítnogopolâprobkovoíkonfíguracíí AT skibenkoei rozpodílmasirozporošenoíkatodnoírečoviniuvídbivnomurozrâdíuzdovžmagnítnogopolâprobkovoíkonfíguracíí AT skibenkoai rozpodílmasirozporošenoíkatodnoírečoviniuvídbivnomurozrâdíuzdovžmagnítnogopolâprobkovoíkonfíguracíí AT kuprinas rozpodílmasirozporošenoíkatodnoírečoviniuvídbivnomurozrâdíuzdovžmagnítnogopolâprobkovoíkonfíguracíí AT ozerovan rozpodílmasirozporošenoíkatodnoírečoviniuvídbivnomurozrâdíuzdovžmagnítnogopolâprobkovoíkonfíguracíí AT syuskoev rozpodílmasirozporošenoíkatodnoírečoviniuvídbivnomurozrâdíuzdovžmagnítnogopolâprobkovoíkonfíguracíí AT yuferovvb rozpodílmasirozporošenoíkatodnoírečoviniuvídbivnomurozrâdíuzdovžmagnítnogopolâprobkovoíkonfíguracíí AT kovtunyuv raspredeleniemassyraspylâemogokatodnogoveŝestvavotražatelʹnomrazrâdevdolʹmagnitnogopolâprobočnoikonfiguracii AT skibenkoei raspredeleniemassyraspylâemogokatodnogoveŝestvavotražatelʹnomrazrâdevdolʹmagnitnogopolâprobočnoikonfiguracii AT skibenkoai raspredeleniemassyraspylâemogokatodnogoveŝestvavotražatelʹnomrazrâdevdolʹmagnitnogopolâprobočnoikonfiguracii AT kuprinas raspredeleniemassyraspylâemogokatodnogoveŝestvavotražatelʹnomrazrâdevdolʹmagnitnogopolâprobočnoikonfiguracii AT ozerovan raspredeleniemassyraspylâemogokatodnogoveŝestvavotražatelʹnomrazrâdevdolʹmagnitnogopolâprobočnoikonfiguracii AT syuskoev raspredeleniemassyraspylâemogokatodnogoveŝestvavotražatelʹnomrazrâdevdolʹmagnitnogopolâprobočnoikonfiguracii AT yuferovvb raspredeleniemassyraspylâemogokatodnogoveŝestvavotražatelʹnomrazrâdevdolʹmagnitnogopolâprobočnoikonfiguracii |
| first_indexed |
2025-12-07T15:46:29Z |
| last_indexed |
2025-12-07T15:46:29Z |
| _version_ |
1850864974683963392 |