Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration

• Veröffentlicht in: Вопросы атомной науки и техники
• Datum: 2016
• Hauptverfasser: Kovtun, Yu.V, Skibenko, E.I., Skibenko, A.I., Kuprin, A.S., Ozerov, A.N., Syusko, E.V., Yuferov, V.B.
• Format: Artikel
• Sprache: Englisch
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
• Schlagworte: Физика и технология конструкционных материалов
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111743
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.

The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increa...