Зображення обкладинки

Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration

The paper is concerned with the distribution of cathode material sputtered under the action of the pulsed reflex discharge plasma and deposited on the anode surface (vacuum chamber) by means of a set of discrete receiving plates. Correlative relationship has been found between the weight gain increa...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2016
Автори: Kovtun, Yu.V, Skibenko, E.I., Skibenko, A.I., Kuprin, A.S., Ozerov, A.N., Syusko, E.V., Yuferov, V.B.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
Теми:
Физика и технология конструкционных материалов
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111743
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration / Yu.V. Kovtun, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko, A.S. Kuprin, A.N. Ozerov, E.V. Syus’ko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 92-98. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Схожі ресурси