Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением

Представлены оригинальные результаты, полученные с помощью методов медленного пучка позитронов, рентгеновского микроанализа, РОР, РЭМ с ЭДС, АСМ, а также измерения нанотвердости, модуля упругости наноструктурных покрытий из Ti-Si-N, осажденных катодным вакуумно-дуговым испарителем, до и после отжига...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2013
Автори: Погребняк, А.Д., Krause-Rehberg, R., Купчишин, А.И., Дробышевская, А.А., Иващенко, В.И., Шипиленко, А.П., Колесников, Д.А., Ердыбаева, Н.К.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111758
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением / А.Д. Погребняк, R. Krause-Rehberg, А.И. Купчишин, А.А. Дробышевская, В.И. Иващенко, А.П. Шипиленко, Д.А. Колесников, Н.К. Ердыбаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 2. — С. 134-139. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111758
record_format dspace
spelling Погребняк, А.Д.
Krause-Rehberg, R.
Купчишин, А.И.
Дробышевская, А.А.
Иващенко, В.И.
Шипиленко, А.П.
Колесников, Д.А.
Ердыбаева, Н.К.
2017-01-14T10:25:10Z
2017-01-14T10:25:10Z
2013
Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением / А.Д. Погребняк, R. Krause-Rehberg, А.И. Купчишин, А.А. Дробышевская, В.И. Иващенко, А.П. Шипиленко, Д.А. Колесников, Н.К. Ердыбаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 2. — С. 134-139. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.
1562-6016
PACS: 61.05.cm, 61.46.Hk, 62.20.Qp.68.37.Hk, 81.15.-z
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111758
Представлены оригинальные результаты, полученные с помощью методов медленного пучка позитронов, рентгеновского микроанализа, РОР, РЭМ с ЭДС, АСМ, а также измерения нанотвердости, модуля упругости наноструктурных покрытий из Ti-Si-N, осажденных катодным вакуумно-дуговым испарителем, до и после отжига при температуре 600 °С (в течение 30 мин). Обнаружено образование твердого раствора (Ti, Si)N, в котором формируется напряженно-деформированное состояние (деформация сжатия − 2,6 %), а в результате термического отжига деформация уменьшается незначительно − до величины 2,3 %. В покрытии Ti-Si-N, как показали измерения S-параметра (ДУАП), за счет термодиффузии на интерфейсах сегрегируют дефекты, образуя кластеры вакансионных дефектов с высокой концентрацией − от 5·10¹⁶ до 7,5·10¹⁷ см⁻³.
Представлено оригінальні результати, які отримані за допомогою методів повільного пучка позитронів, рентгенівського мікроаналізу, РЗР, РЕМ з ЕДС, АСМ, а також вимірювання нанотвердості, модуля пружності при дослідженні наноструктурних покриттів з Ti-Si-N, осаджених катодним вакуумно-дуговим випаровуванням до і після відпалу при температурі 600 °С (на протязі 30 хв). Виявлено утворення твердого розчину (Ti, Si) N, в якому формується напружено-деформований стан (деформація стиску − 2,6 %), а в результаті термічного відпалу деформація зменшується незначно − до 2,3 %. У покритті Ti-Si-N, як показали вимірювання S-параметра (ДУАП), за рахунок термодифузії на інтерфейсах сегрегують дефекти, утворюючи кластери вакансій їх дефектів з високою концентрацією − від 5·10¹⁶ до 7,5·10¹⁷ см⁻³.
Original results of investigations of Ti-Si-N nanostructured coatings deposited by cathodic vacuum arc evaporation are presented in this work. Investigations are provided by the supplementing each other methods: slow positron beam, XRD, SEM with EDS, RBS, AFM, as well as measurement of nanohardness and elastic modulus before and after annealing at 600 °C (for 30 min). It was found that after deposition the solid solution (Ti, Si) N is formed in coatings. In this solid solution the stress-strain state (compressive strain – 2,6 %) is occurring. As a result of thermal annealing the deformation slightly decreases to – 2,3 %. Measurements provided by method of Positron annihilation spectroscopy (PAS) show that at the interfaces of coatings the segregated defects are occurring as a result of thermal diffusion process. These defects form clusters of vacancy-type defects of a high concentration – from 5·10¹⁶ sm⁻³ до 7,5·10¹⁷ sm⁻³
Авторы признательны за помощь в измерении профилей дефектов с помощью медленного пучка позитронов М.В. Каверину (Сумы, Украина) и за помощь в измерении элементного состава с помощью РОР-анализа G. Abrasonis (Дрезден, Германия), а также О.В. Соболю (ХНТУ, Харьков) за измерения остаточных напряжений. Работа выполнялась при финансовой поддержке Министерства образования и науки, молодежи и спорта Украины в рамках государственной программы (приказ №411), а также при сотрудничестве с NIMS, Tsukuba (Япония) и Martin-Luther-Universitat Halle-Wittenberg, Ion Beam Center, FWIZ (Дрезден, Германия). Часть работы была выполнена на оборудовании в Белгороде в Центре коллективного пользования научным оборудованием БелГУ «Диагностика структуры и свойства наноматериалов» в рамках госконтракта №16 55211 7087 при финансовой поддержке Минобрнауки РФ.
ru
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
Вплив термічного відпалу на структуру дефектів та властивості наноструктурованого покриття Ti-Si-N, отриманого катодним вакуумно-дуговим осадженням
Influence of thermal annealing on the structure of defects and properties of nanоstructures Ti-Si-N coatings obtained by cathode vacuum arc deposition
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
spellingShingle Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
Погребняк, А.Д.
Krause-Rehberg, R.
Купчишин, А.И.
Дробышевская, А.А.
Иващенко, В.И.
Шипиленко, А.П.
Колесников, Д.А.
Ердыбаева, Н.К.
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
title_short Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_full Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_fullStr Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_full_unstemmed Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_sort влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия ti-si-n, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
author Погребняк, А.Д.
Krause-Rehberg, R.
Купчишин, А.И.
Дробышевская, А.А.
Иващенко, В.И.
Шипиленко, А.П.
Колесников, Д.А.
Ердыбаева, Н.К.
author_facet Погребняк, А.Д.
Krause-Rehberg, R.
Купчишин, А.И.
Дробышевская, А.А.
Иващенко, В.И.
Шипиленко, А.П.
Колесников, Д.А.
Ердыбаева, Н.К.
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
publishDate 2013
language Russian
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Вплив термічного відпалу на структуру дефектів та властивості наноструктурованого покриття Ti-Si-N, отриманого катодним вакуумно-дуговим осадженням
Influence of thermal annealing on the structure of defects and properties of nanоstructures Ti-Si-N coatings obtained by cathode vacuum arc deposition
description Представлены оригинальные результаты, полученные с помощью методов медленного пучка позитронов, рентгеновского микроанализа, РОР, РЭМ с ЭДС, АСМ, а также измерения нанотвердости, модуля упругости наноструктурных покрытий из Ti-Si-N, осажденных катодным вакуумно-дуговым испарителем, до и после отжига при температуре 600 °С (в течение 30 мин). Обнаружено образование твердого раствора (Ti, Si)N, в котором формируется напряженно-деформированное состояние (деформация сжатия − 2,6 %), а в результате термического отжига деформация уменьшается незначительно − до величины 2,3 %. В покрытии Ti-Si-N, как показали измерения S-параметра (ДУАП), за счет термодиффузии на интерфейсах сегрегируют дефекты, образуя кластеры вакансионных дефектов с высокой концентрацией − от 5·10¹⁶ до 7,5·10¹⁷ см⁻³. Представлено оригінальні результати, які отримані за допомогою методів повільного пучка позитронів, рентгенівського мікроаналізу, РЗР, РЕМ з ЕДС, АСМ, а також вимірювання нанотвердості, модуля пружності при дослідженні наноструктурних покриттів з Ti-Si-N, осаджених катодним вакуумно-дуговим випаровуванням до і після відпалу при температурі 600 °С (на протязі 30 хв). Виявлено утворення твердого розчину (Ti, Si) N, в якому формується напружено-деформований стан (деформація стиску − 2,6 %), а в результаті термічного відпалу деформація зменшується незначно − до 2,3 %. У покритті Ti-Si-N, як показали вимірювання S-параметра (ДУАП), за рахунок термодифузії на інтерфейсах сегрегують дефекти, утворюючи кластери вакансій їх дефектів з високою концентрацією − від 5·10¹⁶ до 7,5·10¹⁷ см⁻³. Original results of investigations of Ti-Si-N nanostructured coatings deposited by cathodic vacuum arc evaporation are presented in this work. Investigations are provided by the supplementing each other methods: slow positron beam, XRD, SEM with EDS, RBS, AFM, as well as measurement of nanohardness and elastic modulus before and after annealing at 600 °C (for 30 min). It was found that after deposition the solid solution (Ti, Si) N is formed in coatings. In this solid solution the stress-strain state (compressive strain – 2,6 %) is occurring. As a result of thermal annealing the deformation slightly decreases to – 2,3 %. Measurements provided by method of Positron annihilation spectroscopy (PAS) show that at the interfaces of coatings the segregated defects are occurring as a result of thermal diffusion process. These defects form clusters of vacancy-type defects of a high concentration – from 5·10¹⁶ sm⁻³ до 7,5·10¹⁷ sm⁻³
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111758
citation_txt Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением / А.Д. Погребняк, R. Krause-Rehberg, А.И. Купчишин, А.А. Дробышевская, В.И. Иващенко, А.П. Шипиленко, Д.А. Колесников, Н.К. Ердыбаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 2. — С. 134-139. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT pogrebnâkad vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvoistvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
AT krauserehbergr vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvoistvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
AT kupčišinai vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvoistvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
AT drobyševskaâaa vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvoistvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
AT ivaŝenkovi vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvoistvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
AT šipilenkoap vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvoistvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
AT kolesnikovda vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvoistvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
AT erdybaevank vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvoistvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
AT pogrebnâkad vplivtermíčnogovídpalunastrukturudefektívtavlastivostínanostrukturovanogopokrittâtisinotrimanogokatodnimvakuumnodugovimosadžennâm
AT krauserehbergr vplivtermíčnogovídpalunastrukturudefektívtavlastivostínanostrukturovanogopokrittâtisinotrimanogokatodnimvakuumnodugovimosadžennâm
AT kupčišinai vplivtermíčnogovídpalunastrukturudefektívtavlastivostínanostrukturovanogopokrittâtisinotrimanogokatodnimvakuumnodugovimosadžennâm
AT drobyševskaâaa vplivtermíčnogovídpalunastrukturudefektívtavlastivostínanostrukturovanogopokrittâtisinotrimanogokatodnimvakuumnodugovimosadžennâm
AT ivaŝenkovi vplivtermíčnogovídpalunastrukturudefektívtavlastivostínanostrukturovanogopokrittâtisinotrimanogokatodnimvakuumnodugovimosadžennâm
AT šipilenkoap vplivtermíčnogovídpalunastrukturudefektívtavlastivostínanostrukturovanogopokrittâtisinotrimanogokatodnimvakuumnodugovimosadžennâm
AT kolesnikovda vplivtermíčnogovídpalunastrukturudefektívtavlastivostínanostrukturovanogopokrittâtisinotrimanogokatodnimvakuumnodugovimosadžennâm
AT erdybaevank vplivtermíčnogovídpalunastrukturudefektívtavlastivostínanostrukturovanogopokrittâtisinotrimanogokatodnimvakuumnodugovimosadžennâm
AT pogrebnâkad influenceofthermalannealingonthestructureofdefectsandpropertiesofnanostructurestisincoatingsobtainedbycathodevacuumarcdeposition
AT krauserehbergr influenceofthermalannealingonthestructureofdefectsandpropertiesofnanostructurestisincoatingsobtainedbycathodevacuumarcdeposition
AT kupčišinai influenceofthermalannealingonthestructureofdefectsandpropertiesofnanostructurestisincoatingsobtainedbycathodevacuumarcdeposition
AT drobyševskaâaa influenceofthermalannealingonthestructureofdefectsandpropertiesofnanostructurestisincoatingsobtainedbycathodevacuumarcdeposition
AT ivaŝenkovi influenceofthermalannealingonthestructureofdefectsandpropertiesofnanostructurestisincoatingsobtainedbycathodevacuumarcdeposition
AT šipilenkoap influenceofthermalannealingonthestructureofdefectsandpropertiesofnanostructurestisincoatingsobtainedbycathodevacuumarcdeposition
AT kolesnikovda influenceofthermalannealingonthestructureofdefectsandpropertiesofnanostructurestisincoatingsobtainedbycathodevacuumarcdeposition
AT erdybaevank influenceofthermalannealingonthestructureofdefectsandpropertiesofnanostructurestisincoatingsobtainedbycathodevacuumarcdeposition
first_indexed 2025-12-01T11:03:50Z
last_indexed 2025-12-01T11:03:50Z
_version_ 1850860030475108352