Dynamical accelerating structures of thermoionic plasma

• Veröffentlicht in: Вопросы атомной науки и техники
• Datum: 2013
• Hauptverfasser: Borgun, I.V., Zinov’ev, D.V., Ryabchikov, D.L., Sereda, I.N., Tseluyko, A.F.
• Format: Artikel
• Sprache: English
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
• Schlagworte: Новые методы ускорения заряженных частиц
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111913
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Dynamical accelerating structures of thermoionic plasma / I.V. Borgun, D.V. Zinov’ev, D.L. Ryabchikov, I.N. Sereda, A.F. Tseluyko // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 61-63. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

The conditions of dynamical accelerating structures of double layer type forming on the edge of thermo-ionic plasma are investigated. Plasma was created by the way of material thermo-evaporation with further ionization under the influence of intensive electron beam. It has been shown that since thermo-ionic plasma forming the double electrical layer of volume charge (DL) creates where the ions of evaporated material (thermo-ions) are accelerate with further possible deposition on substrate. The conditions of intensive thermo-ion flows formation were determined. Досліджуються умови формування динамічних структур, що прискорюють, типу подвійний шар на фронті термоіонної плазми. Плазма створювалася шляхом термічного випаровування з подальшою іонізацією матеріалу під впливом інтенсивного електронного пучка. Показано, що в міру утворення термоіонної плазми, формується подвійний електричний шар об'ємного заряду (ПШ), в якому відбувається прискорення іонів (термоіонів) матеріалу, який випаровується з подальшим можливим осадженням на підкладці. Визначені умови формування інтенсивних термоіонних потоків. Исследуются условия формирования динамических ускоряющих структур типа двойной слой на фронте термоионной плазмы. Плазма создавалась путем термического испарения с последующей ионизацией материала под воздействием интенсивного электронного пучка. Показано, что по мере образования термоионной плазмы, формируется двойной электрический слой объемного заряда (ДС), в котором происходит ускорение ионов испаряемого материала (термоионов) с последующим возможным осаждением на подложке. Определены условия формирования интенсивных термоионных потоков.