The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2015
• Main Authors: Shariy, S.V., Yuferov, V.B., Tkachova, T.I., Svichkar, A.S., Shvets, M.O., Tkachov, V.I.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2015
• Subjects: Теория и техника ускорения частиц
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112100
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode / S.V. Shariy, V.B. Yuferov, T.I. Tkachova, A.S. Svichkar, M.O. Shvets, V.I. Tkachov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 3. — С. 136-138. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

An experimental study of the influence of HF power and configuration of the magnetic field on the plasma parameters of the gas source with incandescent cathode was carried out. It is shown that the application HF power into discharge results in reduction of electron temperature. For discharge in decreasing magnetic field the radial distribution of the plasma density in the axial region is more uniform compared with increasing magnetic field. Проведено експериментальне дослідження впливу ВЧ-потужності та конфігурації магнітного поля на параметри плазми газового джерела з розжарюваним катодом. Показано, що введення в розряд ВЧ-потужності призводить до зниження електронної температури. Для розряду в спадаючому магнітному полі радіальне розподілення щільності плазми в привісевій області більш однорідним в порівнянні із зростаючим магнітним полем. Проведено экспериментальное исследование влияния ВЧ-мощности и конфигурации магнитного поля на параметры плазмы газового источника с накаливаемым катодом. Показано, что введение в разряд ВЧ-мощности приводит к снижению электронной температуры. Для разряда в убывающем магнитном поле радиальное распределение плотности плазмы в приосевой области более однородное по сравнению с нарастающим магнитным полем.