Bazhenov, V., Lavrookevich, Y., Piun, V., Ryabtsev, A., & Tsiolko, V. (2015). Influence of component content of Ar/O₂ mixture on oxygen dissociation degree in plasma of low pressure discharge with hollow cathode. Вопросы атомной науки и техники.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Bazhenov, V.Yu, Yu.V Lavrookevich, V.M Piun, A.V Ryabtsev, та V.V Tsiolko. "Influence of Component Content of Ar/O₂ Mixture on Oxygen Dissociation Degree in Plasma of Low Pressure Discharge with Hollow Cathode." Вопросы атомной науки и техники 2015.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Bazhenov, V.Yu, et al. "Influence of Component Content of Ar/O₂ Mixture on Oxygen Dissociation Degree in Plasma of Low Pressure Discharge with Hollow Cathode." Вопросы атомной науки и техники, 2015.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.