Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam
Tungsten samples were irradiated by hydrogen ion beam with high heat (0.1…1.05 MW·m⁻²) and particle [(0.13…1.3)×10²² m⁻²s⁻1] flux generated by FALCON ion source. The sputtering yield has remained nearly constant in the given flux range. Scanning electron microscope (SEM) studies of the irradiated su...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2013 |
| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2013
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112148 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam / I.A. Bizyukov // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 304-307. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862732971375591424 |
|---|---|
| author | Bizyukov, I.A. |
| author_facet | Bizyukov, I.A. |
| citation_txt | Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam / I.A. Bizyukov // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 304-307. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Tungsten samples were irradiated by hydrogen ion beam with high heat (0.1…1.05 MW·m⁻²) and particle [(0.13…1.3)×10²² m⁻²s⁻1] flux generated by FALCON ion source. The sputtering yield has remained nearly constant in the given flux range. Scanning electron microscope (SEM) studies of the irradiated surface have indicated that the only influence of the ion beam in the fluence range up to 2.6×10²⁶ m⁻² is the increase of roughness.
Зразки вольфраму опромінювалися пучком іонів водню з високою щільністю частинок [(0.13…1.3)×1022 м⁻²с⁻¹] і потужністю (0.1…1.05 МВт·м⁻²), який генерувався іонним джерелом FALCON. Коефіцієнт розпилення залишався приблизно постійним в заданому діапазоні щільності іонних потоків. Вивчення поверхні з допомогою РЕМ показало, що вплив пучка на поверхню призводить лише до збільшення шорсткості в діапазоні флюенсів <2.6×10²⁶ м⁻².
Образцы вольфрама облучались пучком ионов водорода с высокой плотностью частиц [(0.13…1.3)×10²² м⁻²с⁻1] и мощностью (0.1…1.05 МВт·м⁻²), который генерировался ионным источником FALCON. Коэффициент распыления оставался приблизительно постоянным в заданном диапазоне плотности ионных потоков. Изучение поверхности с помощью РЭМ показало, что воздействие пучка на поверхность приводит только лишь к увеличению шероховатости в диапазоне флюенсов < 2.6×10²⁶ м⁻².
|
| first_indexed | 2025-12-07T19:34:54Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-112148 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T19:34:54Z |
| publishDate | 2013 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Bizyukov, I.A. 2017-01-17T19:00:56Z 2017-01-17T19:00:56Z 2013 Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam / I.A. Bizyukov // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 304-307. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 79.20 Rf https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112148 Tungsten samples were irradiated by hydrogen ion beam with high heat (0.1…1.05 MW·m⁻²) and particle [(0.13…1.3)×10²² m⁻²s⁻1] flux generated by FALCON ion source. The sputtering yield has remained nearly constant in the given flux range. Scanning electron microscope (SEM) studies of the irradiated surface have indicated that the only influence of the ion beam in the fluence range up to 2.6×10²⁶ m⁻² is the increase of roughness. Зразки вольфраму опромінювалися пучком іонів водню з високою щільністю частинок [(0.13…1.3)×1022 м⁻²с⁻¹] і потужністю (0.1…1.05 МВт·м⁻²), який генерувався іонним джерелом FALCON. Коефіцієнт розпилення залишався приблизно постійним в заданому діапазоні щільності іонних потоків. Вивчення поверхні з допомогою РЕМ показало, що вплив пучка на поверхню призводить лише до збільшення шорсткості в діапазоні флюенсів <2.6×10²⁶ м⁻². Образцы вольфрама облучались пучком ионов водорода с высокой плотностью частиц [(0.13…1.3)×10²² м⁻²с⁻1] и мощностью (0.1…1.05 МВт·м⁻²), который генерировался ионным источником FALCON. Коэффициент распыления оставался приблизительно постоянным в заданном диапазоне плотности ионных потоков. Изучение поверхности с помощью РЭМ показало, что воздействие пучка на поверхность приводит только лишь к увеличению шероховатости в диапазоне флюенсов < 2.6×10²⁶ м⁻². Author acknowledges T. Schwarz-Selinger, M. Balden from Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, EURATOM Association, Garching, Germany, for collaborating in surface diagnostics. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Приложения и технологии Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam Розпилювання вольфраму під тривалим впливом пучка іонів водню з високою щільністю Распыление вольфрама под длительным воздействием пучка ионов водорода с высокой плотностью Article published earlier |
| spellingShingle | Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam Bizyukov, I.A. Приложения и технологии |
| title | Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam |
| title_alt | Розпилювання вольфраму під тривалим впливом пучка іонів водню з високою щільністю Распыление вольфрама под длительным воздействием пучка ионов водорода с высокой плотностью |
| title_full | Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam |
| title_fullStr | Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam |
| title_full_unstemmed | Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam |
| title_short | Sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam |
| title_sort | sputtering of tungsten exposed to high-flux and high-fluence hydrogen ion beam |
| topic | Приложения и технологии |
| topic_facet | Приложения и технологии |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112148 |
| work_keys_str_mv | AT bizyukovia sputteringoftungstenexposedtohighfluxandhighfluencehydrogenionbeam AT bizyukovia rozpilûvannâvolʹframupídtrivalimvplivompučkaíonívvodnûzvisokoûŝílʹnístû AT bizyukovia raspylenievolʹframapoddlitelʹnymvozdeistviempučkaionovvodorodasvysokoiplotnostʹû |