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Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms

The paper describes the peculiarities of deposition nano-sized titanium dioxide coatings in the cylindrical inverted gas magnetron. It is shown the influence of the main parameters magnetron sputtering, like as working gas pressure and temperature of substrate, on film grain size, porosity and optic...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2013
Hauptverfasser:	Dobrovolskiy, A.M., Goncharov, A.A., Kostin, E.G., Frolova, E.K.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
Schlagworte:	Приложения и технологии
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112173
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms / A.M. Dobrovolskiy, A.A. Goncharov, E.G. Kostin, E.K. Frolova // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 311-314. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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