Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system

• Datum: 2013
• Hauptverfasser: Semenyuk, V.F., Virko, V.F., Korotash, I.V., Osipov, L.S., Polotsky, D.Yu., Rudenko, E.M., Slobodyan, V.M., Shamrai, K.P.
• Format: Artikel
• Sprache: English
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
• Schriftenreihe: Вопросы атомной науки и техники
• Schlagworte: Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112183
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system / V.F. Semenyuk, V.F. Virko, I.V. Korotash, L.S. Osipov, D.Yu. Polotsky, E.M. Rudenko,V.M. Slobodyan, K.P. Shamrai // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 179-182. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

In experiments on two helicon sources driven by a planar antenna, it is shown that the plasma density in the drift chamber and the energies and density of the ion flux onto the substrate holder can be effectively controlled by changing the local magnetic field and the holder potential.