Numerical thermodynamic analysis of alloys for plasma electronics and advanced technologies

Thermodynamic properties (pressure, specific internal energy and entropy) of the ionized gas mixture are obtained on the basis of the Thomas-Fermi theory and Saha model. The calculations was made for the lithium-indium alloy (Li + 10% In), which has various applications in plasma electronics and tec...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2015
Автори: Kuzenov, V.V., Ryzhkov, S.V., Shumaev, V.V.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2015
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112235
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Numerical thermodynamic analysis of alloys for plasma electronics and advanced technologies / V.V. Kuzenov, S.V. Ryzhkov, V.V. Shumaev // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 4. — С. 53-56. — Бібліогр.: 30 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Thermodynamic properties (pressure, specific internal energy and entropy) of the ionized gas mixture are obtained on the basis of the Thomas-Fermi theory and Saha model. The calculations was made for the lithium-indium alloy (Li + 10% In), which has various applications in plasma electronics and technology. Термодинамічні властивості (тиск, питома внутрішня енергія і ентропія) суміші іонізованих газів отримані на основі теорії Томаса-Фермі та моделі Саха. Розрахунки були зроблені для сплаву літій-індій (Li + 10%In), який має різні застосування в плазмових технологіях. Термодинамические свойства (давление, удельная внутренняя энергия и энтропия) смеси ионизованных газов получены на основе теории Томаса-Ферми и модели Саха. Расчеты были сделаны для сплава литий-индий (Li + 10%In), который имеет различные применения в плазменных технологиях.
ISSN:1562-6016