Fedorovich, О., Hladkovskiy, V., Polozov, B., & Kruglenko, М. (2015). The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon. Вопросы атомной науки и техники.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Fedorovich, О.А, V.V Hladkovskiy, B.P Polozov, та М.P Kruglenko. "The Bias Voltage and Its Influence on the Etching Rate of Silicon." Вопросы атомной науки и техники 2015.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Fedorovich, О.А, et al. "The Bias Voltage and Its Influence on the Etching Rate of Silicon." Вопросы атомной науки и техники, 2015.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.