Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии

Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии

Методами рентгеновской дифрактометрии и просвечивающей электронной микроскопии поперечных срезов исследована структура многослойного рентгеновского зеркала (МРЗ) Si/Mg₂Si в исходном состоянии и после термического отжига в интервале температур 50—750°C. В исходном состоянии в МРЗ Si/Mg₂Si слои Si – а...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Металлофизика и новейшие технологии
Datum:2016
Hauptverfasser: Конотопский, Л.Е., Копылец, И.А., Севрюкова, В.А., Зубарев, Е.Н., Кондратенко, В.В.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2016
Schlagworte:
Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112578
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии / Л. Е. Конотопский, И. А. Копылец, В. А. Севрюкова, Е. Н. Зубарев, В. В. Кондратенко // Металлофизика и новейшие технологии. — 2016. — Т. 38, № 6. — С. 825-838. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-112578
record_format dspace
spelling Конотопский, Л.Е.
Копылец, И.А.
Севрюкова, В.А.
Зубарев, Е.Н.
Кондратенко, В.В.
2017-01-23T17:16:42Z
2017-01-23T17:16:42Z
2016
Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии / Л. Е. Конотопский, И. А. Копылец, В. А. Севрюкова, Е. Н. Зубарев, В. В. Кондратенко // Металлофизика и новейшие технологии. — 2016. — Т. 38, № 6. — С. 825-838. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.
1024-1809
PACS: 07.85.Fv, 61.05.cp, 61.05.jm, 68.35.Ct, 68.37.Lp, 68.60.Dv, 68.65.Ac, 81.40.Ef
DOI: 10.15407/mfint.38.06.0825
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112578
Методами рентгеновской дифрактометрии и просвечивающей электронной микроскопии поперечных срезов исследована структура многослойного рентгеновского зеркала (МРЗ) Si/Mg₂Si в исходном состоянии и после термического отжига в интервале температур 50—750°C. В исходном состоянии в МРЗ Si/Mg₂Si слои Si – аморфные. Слои Mg₂Si представляют собой аморфную матрицу с нанокристаллическими включениями Mg2Si в метастабильной гексагональной модификации. При отжиге до 450°C наблюдается кристаллизация слоёв Mg₂Si, что сопровождается увеличением плотности силицида и, соответственно, уменьшением периода на 7,3%. Дальнейший отжиг МРЗ Si/Mg₂Si приводит к кристаллизации слоёв Si в интервале температур 500—600°C, в результате чего период рентгеновского зеркала уменьшается на 6,36%.
Методами рентґенівської дифрактометрії та просвітлювальної електронної мікроскопії поперечних зрізів досліджено структуру багатошарового рентґенівського дзеркала (БРД) Si/Mg₂Si у вихідному стані та після термічного відпалу в інтервалі температур 50—750°C. У вихідному стані в БРД Si/Mg₂Si шари Si є аморфними. Шари Mg₂Si являють собою аморфну матрицю з нанокристалічними включеннями Mg₂Si у метастабільній гексагональній модифікації. При відпалі до 450°C спостерігається кристалізація шарів Mg₂Si, що супроводжується збільшенням густини силіциду і, відповідно, зменшенням періоду на 7,3%. Подальший відпал БРД Si/Mg₂Si приводить до кристалізації шарів Si в інтервалі температур 500—600°C, в результаті чого період рентґенівського дзеркала зменшується на 6,36%.
The study of multilayer Si/Mg₂Si structure in initial state and after thermal annealing in temperature range 50—750°C by the methods of small-angle X-ray diffraction and cross-section transmission electron microscopy is carried out. As-deposited silicide layers are amorphous. Magnesium silicide layers are amorphous with nanocrystalline inclusions of Mg₂Si in metastable hexagonal modification. After thermal annealing at T = 450°C, the Mg₂Si layers are crystallized with increasing in density and, correspondingly, with 7.3% reduction in period of the Si/Mg₂Si multilayer. The further annealing of Si/Mg₂Si multilayer results in crystallization of Si layers in temperature range 500—600°C. Consequently, period of the Si/Mg₂Si multilayer is decreased by 6.36%.
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Металлофизика и новейшие технологии
Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом
Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии
Еволюція структури багатошарових рентґенівських дзеркал Si/Mg₂Si під термічним впливом
Evolution of Structure of Multilayer Si/Mg₂Si X-Ray Mirrors at Thermal Influence
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии
spellingShingle Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии
Конотопский, Л.Е.
Копылец, И.А.
Севрюкова, В.А.
Зубарев, Е.Н.
Кондратенко, В.В.
Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом
title_short Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии
title_full Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии
title_fullStr Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии
title_full_unstemmed Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии
title_sort эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал si/mg₂si при термическом воздействии
author Конотопский, Л.Е.
Копылец, И.А.
Севрюкова, В.А.
Зубарев, Е.Н.
Кондратенко, В.В.
author_facet Конотопский, Л.Е.
Копылец, И.А.
Севрюкова, В.А.
Зубарев, Е.Н.
Кондратенко, В.В.
topic Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом
topic_facet Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом
publishDate 2016
language Russian
container_title Металлофизика и новейшие технологии
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
format Article
title_alt Еволюція структури багатошарових рентґенівських дзеркал Si/Mg₂Si під термічним впливом
Evolution of Structure of Multilayer Si/Mg₂Si X-Ray Mirrors at Thermal Influence
description Методами рентгеновской дифрактометрии и просвечивающей электронной микроскопии поперечных срезов исследована структура многослойного рентгеновского зеркала (МРЗ) Si/Mg₂Si в исходном состоянии и после термического отжига в интервале температур 50—750°C. В исходном состоянии в МРЗ Si/Mg₂Si слои Si – аморфные. Слои Mg₂Si представляют собой аморфную матрицу с нанокристаллическими включениями Mg2Si в метастабильной гексагональной модификации. При отжиге до 450°C наблюдается кристаллизация слоёв Mg₂Si, что сопровождается увеличением плотности силицида и, соответственно, уменьшением периода на 7,3%. Дальнейший отжиг МРЗ Si/Mg₂Si приводит к кристаллизации слоёв Si в интервале температур 500—600°C, в результате чего период рентгеновского зеркала уменьшается на 6,36%. Методами рентґенівської дифрактометрії та просвітлювальної електронної мікроскопії поперечних зрізів досліджено структуру багатошарового рентґенівського дзеркала (БРД) Si/Mg₂Si у вихідному стані та після термічного відпалу в інтервалі температур 50—750°C. У вихідному стані в БРД Si/Mg₂Si шари Si є аморфними. Шари Mg₂Si являють собою аморфну матрицю з нанокристалічними включеннями Mg₂Si у метастабільній гексагональній модифікації. При відпалі до 450°C спостерігається кристалізація шарів Mg₂Si, що супроводжується збільшенням густини силіциду і, відповідно, зменшенням періоду на 7,3%. Подальший відпал БРД Si/Mg₂Si приводить до кристалізації шарів Si в інтервалі температур 500—600°C, в результаті чого період рентґенівського дзеркала зменшується на 6,36%. The study of multilayer Si/Mg₂Si structure in initial state and after thermal annealing in temperature range 50—750°C by the methods of small-angle X-ray diffraction and cross-section transmission electron microscopy is carried out. As-deposited silicide layers are amorphous. Magnesium silicide layers are amorphous with nanocrystalline inclusions of Mg₂Si in metastable hexagonal modification. After thermal annealing at T = 450°C, the Mg₂Si layers are crystallized with increasing in density and, correspondingly, with 7.3% reduction in period of the Si/Mg₂Si multilayer. The further annealing of Si/Mg₂Si multilayer results in crystallization of Si layers in temperature range 500—600°C. Consequently, period of the Si/Mg₂Si multilayer is decreased by 6.36%.
issn 1024-1809
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112578
citation_txt Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии / Л. Е. Конотопский, И. А. Копылец, В. А. Севрюкова, Е. Н. Зубарев, В. В. Кондратенко // Металлофизика и новейшие технологии. — 2016. — Т. 38, № 6. — С. 825-838. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT konotopskiile évolûciâstrukturymnogosloinyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdeistvii
AT kopylecia évolûciâstrukturymnogosloinyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdeistvii
AT sevrûkovava évolûciâstrukturymnogosloinyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdeistvii
AT zubareven évolûciâstrukturymnogosloinyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdeistvii
AT kondratenkovv évolûciâstrukturymnogosloinyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdeistvii
AT konotopskiile evolûcíâstrukturibagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalsimg2sipídtermíčnimvplivom
AT kopylecia evolûcíâstrukturibagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalsimg2sipídtermíčnimvplivom
AT sevrûkovava evolûcíâstrukturibagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalsimg2sipídtermíčnimvplivom
AT zubareven evolûcíâstrukturibagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalsimg2sipídtermíčnimvplivom
AT kondratenkovv evolûcíâstrukturibagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalsimg2sipídtermíčnimvplivom
AT konotopskiile evolutionofstructureofmultilayersimg2sixraymirrorsatthermalinfluence
AT kopylecia evolutionofstructureofmultilayersimg2sixraymirrorsatthermalinfluence
AT sevrûkovava evolutionofstructureofmultilayersimg2sixraymirrorsatthermalinfluence
AT zubareven evolutionofstructureofmultilayersimg2sixraymirrorsatthermalinfluence
AT kondratenkovv evolutionofstructureofmultilayersimg2sixraymirrorsatthermalinfluence
first_indexed 2025-12-07T17:15:31Z
last_indexed 2025-12-07T17:15:31Z
_version_ 1850870576071049216

Ähnliche Einträge