Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов
Методами фізичного матеріалознавства встановлено, що формування кристалічної скутерудитної фази CoSb₃ в нанорозмірній плівковій композиції (НПК) CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) відбувається при осадженні на підкладку, нагріту вище 200 °С, і вмісті Sb більше 72% (am.), що менше, чим маєм...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Современные проблемы физического материаловедения |
|---|---|
| Дата: | 2010 |
| Автори: | , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України
2010
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/114352 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов / Ю.Н. Макогон, Е.П. Павлова, С.И. Сидоренко, Г. Беддис, М. Даниэль, Т.И. Вербицкая, Р.А. Шкарбань, С.Е. Богданов // Современные проблемы физического материаловедения: Сб. научн . тр. — К.: ІПМ НАН України, 2010. — Вип. 19. — С. 68-75. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-114352 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Макогон, Ю.Н. Павлова, Е.П. Сидоренко, С.И. Беддис, Г. Даниэль, М. Вербицкая, Т.И. Шкарбань, Р.А. Богданов, С.Е. 2017-03-06T19:17:09Z 2017-03-06T19:17:09Z 2010 Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов / Ю.Н. Макогон, Е.П. Павлова, С.И. Сидоренко, Г. Беддис, М. Даниэль, Т.И. Вербицкая, Р.А. Шкарбань, С.Е. Богданов // Современные проблемы физического материаловедения: Сб. научн . тр. — К.: ІПМ НАН України, 2010. — Вип. 19. — С. 68-75. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. XXXX-0073 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/114352 Методами фізичного матеріалознавства встановлено, що формування кристалічної скутерудитної фази CoSb₃ в нанорозмірній плівковій композиції (НПК) CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) відбувається при осадженні на підкладку, нагріту вище 200 °С, і вмісті Sb більше 72% (am.), що менше, чим маємо із діаграми фазової рівноваги для масивного стану системи Co-Sb. Формування антимоніди CoSb₃ в НПК, осаджених на підкладку при кімнатній температурі, відбувається в інтервалі концентрацій Sb від 73,9 до 82,7% (am.) і при відпалах в інтервалі температур 200—500 °С. Методами физического материаловедения установлено, что кристаллическая скуттерудитная фаза CoSb₃ в наноразмерной пленочной композиции (НПК) CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)—Si (001) формируется при осаждении на подложку, нагретую выше 200 °С, и содержании Sb более 72% (am,), что меньше, чем следует из диаграммы фазового равновесия для массивного состояния системы Co—Sb. Образование антимонида CoSb₃ в НПК, осажденных на подложку при комнатной температуре, происходит в интервале концентраций Sb 73,9—82,7% (am.) и при отжигах в интервале температур 200—500 °С, By methods of physical material science it is established that the formation of crystalline skutterud'tte CoSb₃ phase in the nanoscaled film compositions (NFC's) of CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (ЗО nm)—SiO₂ (100 nm)—Si (001) occurs at deposition of ones on a substrate heated above 200 °С and Sb content above 72% (at), which is less than that from phase equilibrium diagram for the bulk Co—Sb system. Formation of CoSb₃ antimonide in NFC's which were deposited on substrate at room temperature occurs in concentration range of Sb from 73,9 to 82,7% (at.) and at annealings in temperature range of 200—500 °С. ru Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України Современные проблемы физического материаловедения Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов Структурно-фазовий склад в нанорозмірних плівкових композиціях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)—Si (001) після осадження і після відпалів The structural-phase composition in CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О nm)—SiO₂ (100 nm)—Si (001) nanoscaled film compositions after deposition and annealings Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов |
| spellingShingle |
Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов Макогон, Ю.Н. Павлова, Е.П. Сидоренко, С.И. Беддис, Г. Даниэль, М. Вербицкая, Т.И. Шкарбань, Р.А. Богданов, С.Е. |
| title_short |
Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов |
| title_full |
Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов |
| title_fullStr |
Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов |
| title_full_unstemmed |
Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов |
| title_sort |
структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях cosb₁,₈₂-₅,₄₅ (3о нм)-sio₂ (100 нм)-si (001) после осаждения и после отжигов |
| author |
Макогон, Ю.Н. Павлова, Е.П. Сидоренко, С.И. Беддис, Г. Даниэль, М. Вербицкая, Т.И. Шкарбань, Р.А. Богданов, С.Е. |
| author_facet |
Макогон, Ю.Н. Павлова, Е.П. Сидоренко, С.И. Беддис, Г. Даниэль, М. Вербицкая, Т.И. Шкарбань, Р.А. Богданов, С.Е. |
| publishDate |
2010 |
| language |
Russian |
| container_title |
Современные проблемы физического материаловедения |
| publisher |
Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Структурно-фазовий склад в нанорозмірних плівкових композиціях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)—Si (001) після осадження і після відпалів The structural-phase composition in CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О nm)—SiO₂ (100 nm)—Si (001) nanoscaled film compositions after deposition and annealings |
| description |
Методами фізичного матеріалознавства встановлено, що формування кристалічної скутерудитної фази CoSb₃ в нанорозмірній плівковій композиції (НПК) CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) відбувається при осадженні на підкладку, нагріту вище 200 °С, і вмісті Sb більше 72% (am.), що менше, чим маємо із діаграми фазової рівноваги для масивного стану системи Co-Sb. Формування антимоніди CoSb₃ в НПК, осаджених на підкладку при кімнатній температурі, відбувається в інтервалі концентрацій Sb від 73,9 до 82,7% (am.) і при відпалах в інтервалі температур 200—500 °С.
Методами физического материаловедения установлено, что кристаллическая скуттерудитная фаза CoSb₃ в наноразмерной пленочной композиции (НПК) CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)—Si (001) формируется при осаждении на подложку, нагретую выше 200 °С, и содержании Sb более 72% (am,), что меньше, чем следует из диаграммы фазового равновесия для массивного состояния системы Co—Sb. Образование антимонида CoSb₃ в НПК, осажденных на подложку при комнатной температуре, происходит в интервале концентраций Sb 73,9—82,7% (am.) и при отжигах в интервале температур 200—500 °С,
By methods of physical material science it is established that the formation of crystalline skutterud'tte CoSb₃ phase in the nanoscaled film compositions (NFC's) of CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (ЗО nm)—SiO₂ (100 nm)—Si (001) occurs at deposition of ones on a substrate heated above 200 °С and Sb content above 72% (at), which is less than that from phase equilibrium diagram for the bulk Co—Sb system. Formation of CoSb₃ antimonide in NFC's which were deposited on substrate at room temperature occurs in concentration range of Sb from 73,9 to 82,7% (at.) and at annealings in temperature range of 200—500 °С.
|
| issn |
XXXX-0073 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/114352 |
| citation_txt |
Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb₁,₈₂-₅,₄₅ (3О нм)-SiO₂ (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов / Ю.Н. Макогон, Е.П. Павлова, С.И. Сидоренко, Г. Беддис, М. Даниэль, Т.И. Вербицкая, Р.А. Шкарбань, С.Е. Богданов // Современные проблемы физического материаловедения: Сб. научн . тр. — К.: ІПМ НАН України, 2010. — Вип. 19. — С. 68-75. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT makogonûn strukturnofazovyisostavvnanorazmernyhplenočnyhkompoziciâhcosb1825453onmsio2100nmsi001posleosaždeniâiposleotžigov AT pavlovaep strukturnofazovyisostavvnanorazmernyhplenočnyhkompoziciâhcosb1825453onmsio2100nmsi001posleosaždeniâiposleotžigov AT sidorenkosi strukturnofazovyisostavvnanorazmernyhplenočnyhkompoziciâhcosb1825453onmsio2100nmsi001posleosaždeniâiposleotžigov AT beddisg strukturnofazovyisostavvnanorazmernyhplenočnyhkompoziciâhcosb1825453onmsio2100nmsi001posleosaždeniâiposleotžigov AT daniélʹm strukturnofazovyisostavvnanorazmernyhplenočnyhkompoziciâhcosb1825453onmsio2100nmsi001posleosaždeniâiposleotžigov AT verbickaâti strukturnofazovyisostavvnanorazmernyhplenočnyhkompoziciâhcosb1825453onmsio2100nmsi001posleosaždeniâiposleotžigov AT škarbanʹra strukturnofazovyisostavvnanorazmernyhplenočnyhkompoziciâhcosb1825453onmsio2100nmsi001posleosaždeniâiposleotžigov AT bogdanovse strukturnofazovyisostavvnanorazmernyhplenočnyhkompoziciâhcosb1825453onmsio2100nmsi001posleosaždeniâiposleotžigov AT makogonûn strukturnofazoviiskladvnanorozmírnihplívkovihkompozicíâhcosb1825453onmsio2100nmsi001píslâosadžennâípíslâvídpalív AT pavlovaep strukturnofazoviiskladvnanorozmírnihplívkovihkompozicíâhcosb1825453onmsio2100nmsi001píslâosadžennâípíslâvídpalív AT sidorenkosi strukturnofazoviiskladvnanorozmírnihplívkovihkompozicíâhcosb1825453onmsio2100nmsi001píslâosadžennâípíslâvídpalív AT beddisg strukturnofazoviiskladvnanorozmírnihplívkovihkompozicíâhcosb1825453onmsio2100nmsi001píslâosadžennâípíslâvídpalív AT daniélʹm strukturnofazoviiskladvnanorozmírnihplívkovihkompozicíâhcosb1825453onmsio2100nmsi001píslâosadžennâípíslâvídpalív AT verbickaâti strukturnofazoviiskladvnanorozmírnihplívkovihkompozicíâhcosb1825453onmsio2100nmsi001píslâosadžennâípíslâvídpalív AT škarbanʹra strukturnofazoviiskladvnanorozmírnihplívkovihkompozicíâhcosb1825453onmsio2100nmsi001píslâosadžennâípíslâvídpalív AT bogdanovse strukturnofazoviiskladvnanorozmírnihplívkovihkompozicíâhcosb1825453onmsio2100nmsi001píslâosadžennâípíslâvídpalív AT makogonûn thestructuralphasecompositionincosb1825453onmsio2100nmsi001nanoscaledfilmcompositionsafterdepositionandannealings AT pavlovaep thestructuralphasecompositionincosb1825453onmsio2100nmsi001nanoscaledfilmcompositionsafterdepositionandannealings AT sidorenkosi thestructuralphasecompositionincosb1825453onmsio2100nmsi001nanoscaledfilmcompositionsafterdepositionandannealings AT beddisg thestructuralphasecompositionincosb1825453onmsio2100nmsi001nanoscaledfilmcompositionsafterdepositionandannealings AT daniélʹm thestructuralphasecompositionincosb1825453onmsio2100nmsi001nanoscaledfilmcompositionsafterdepositionandannealings AT verbickaâti thestructuralphasecompositionincosb1825453onmsio2100nmsi001nanoscaledfilmcompositionsafterdepositionandannealings AT škarbanʹra thestructuralphasecompositionincosb1825453onmsio2100nmsi001nanoscaledfilmcompositionsafterdepositionandannealings AT bogdanovse thestructuralphasecompositionincosb1825453onmsio2100nmsi001nanoscaledfilmcompositionsafterdepositionandannealings |
| first_indexed |
2025-12-07T15:25:56Z |
| last_indexed |
2025-12-07T15:25:56Z |
| _version_ |
1850863682163048448 |