Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit

Analysis is made for the possibility of redistribution of mobile point defects in a semiconductor after its exposure to the electric field till the stationary conditions in the crystal are reached. Two different ways of applying the voltage are considered: (i) directly to the sample, (ii) to a capac...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Datum:1998
Hauptverfasser: Kashirina, N.I., Kislyuk, V.V., Sheinkman, M.K.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 1998
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/114667
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit / N.I. Kashirina, V.V. Kislyuk, M.K. Sheinkman // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 1998. — Т. 1, № 1. — С. 41-44. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-114667
record_format dspace
spelling Kashirina, N.I.
Kislyuk, V.V.
Sheinkman, M.K.
2017-03-11T16:06:00Z
2017-03-11T16:06:00Z
1998
Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit / N.I. Kashirina, V.V. Kislyuk, M.K. Sheinkman // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 1998. — Т. 1, № 1. — С. 41-44. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.
1560-8034
PACS 61.72; 71.55.
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/114667
539.219.3
Analysis is made for the possibility of redistribution of mobile point defects in a semiconductor after its exposure to the electric field till the stationary conditions in the crystal are reached. Two different ways of applying the voltage are considered: (i) directly to the sample, (ii) to a capacitor, with the sample located between the plates. This model is applicable also to the electric field of any nature, whether external or internal, e.g. that arisning at the metal-semiconductor interface.
Дається аналіз можливості розподілу рухомих точкових дефектів в напівпровіднику після дії на нього електричного поля до встановлення стаціонарних умов. Розглядаються два способи прикладання напруги: а) безпосередньо до зразка, б) до обкладинок конденсатора, між якими поміщається зразок. Модель також можна застосовувати для електричних полів будь-якої природи . як зовнішніх так і внутрішніх, що виникають, наприклад, на контакті метал-напівпровідник.
Приводится анализ возможности распределения точечных дефектов в полупроводнике после воздействия на него электрического поля до установления стационарных условий. Рассматривается два способа приложения напряжения: а) непосредственно к образцу, б) к обкладкам конденсатора, между которыми помещается образец. Модель также применима для электрических полей любой природы как внешних так и внутренних, возникающих, например, на контакте металл-полупроводник.
en
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
Теоретичний підхід до електродифузії мілких донорів в напівпровідниках. I. Стаціонарний випадок
Теоретический подход к електродиффузии мелких доноров в полупроводниках. I. Стационарный случай
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
spellingShingle Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
Kashirina, N.I.
Kislyuk, V.V.
Sheinkman, M.K.
title_short Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_full Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_fullStr Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_full_unstemmed Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_sort theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: i. stationary limit
author Kashirina, N.I.
Kislyuk, V.V.
Sheinkman, M.K.
author_facet Kashirina, N.I.
Kislyuk, V.V.
Sheinkman, M.K.
publishDate 1998
language English
container_title Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Теоретичний підхід до електродифузії мілких донорів в напівпровідниках. I. Стаціонарний випадок
Теоретический подход к електродиффузии мелких доноров в полупроводниках. I. Стационарный случай
description Analysis is made for the possibility of redistribution of mobile point defects in a semiconductor after its exposure to the electric field till the stationary conditions in the crystal are reached. Two different ways of applying the voltage are considered: (i) directly to the sample, (ii) to a capacitor, with the sample located between the plates. This model is applicable also to the electric field of any nature, whether external or internal, e.g. that arisning at the metal-semiconductor interface. Дається аналіз можливості розподілу рухомих точкових дефектів в напівпровіднику після дії на нього електричного поля до встановлення стаціонарних умов. Розглядаються два способи прикладання напруги: а) безпосередньо до зразка, б) до обкладинок конденсатора, між якими поміщається зразок. Модель також можна застосовувати для електричних полів будь-якої природи . як зовнішніх так і внутрішніх, що виникають, наприклад, на контакті метал-напівпровідник. Приводится анализ возможности распределения точечных дефектов в полупроводнике после воздействия на него электрического поля до установления стационарных условий. Рассматривается два способа приложения напряжения: а) непосредственно к образцу, б) к обкладкам конденсатора, между которыми помещается образец. Модель также применима для электрических полей любой природы как внешних так и внутренних, возникающих, например, на контакте металл-полупроводник.
issn 1560-8034
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/114667
citation_txt Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit / N.I. Kashirina, V.V. Kislyuk, M.K. Sheinkman // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 1998. — Т. 1, № 1. — С. 41-44. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT kashirinani theoreticalapproachtoelectrodiffusionofshallowdonorsinsemiconductorsistationarylimit
AT kislyukvv theoreticalapproachtoelectrodiffusionofshallowdonorsinsemiconductorsistationarylimit
AT sheinkmanmk theoreticalapproachtoelectrodiffusionofshallowdonorsinsemiconductorsistationarylimit
AT kashirinani teoretičniipídhíddoelektrodifuzíímílkihdonorívvnapívprovídnikahistacíonarniivipadok
AT kislyukvv teoretičniipídhíddoelektrodifuzíímílkihdonorívvnapívprovídnikahistacíonarniivipadok
AT sheinkmanmk teoretičniipídhíddoelektrodifuzíímílkihdonorívvnapívprovídnikahistacíonarniivipadok
AT kashirinani teoretičeskiipodhodkelektrodiffuziimelkihdonorovvpoluprovodnikahistacionarnyislučai
AT kislyukvv teoretičeskiipodhodkelektrodiffuziimelkihdonorovvpoluprovodnikahistacionarnyislučai
AT sheinkmanmk teoretičeskiipodhodkelektrodiffuziimelkihdonorovvpoluprovodnikahistacionarnyislučai
first_indexed 2025-12-07T19:19:53Z
last_indexed 2025-12-07T19:19:53Z
_version_ 1850878401195278336