Focusing by wakefield and plasma focusing of relativistic electrons in dependence on parameters of experiments
The ratio of self-focusing due to the compensation of the space charge of bunches in plasma and of focusing by excited plasma wakefield is studied by numerical simulation. It is shown that this ratio is strongly depends on the parameters of the experiments. Численным моделированием исследуется соо...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2016 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115360 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Focusing by wakefield and plasma focusing of relativistic electrons in dependence on parameters of experiments / I.P. Levchuk, V.I. Maslov, I.N. Onishchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 3. — С. 62-65. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Summary: | The ratio of self-focusing due to the compensation of the space charge of bunches in plasma and of focusing by
excited plasma wakefield is studied by numerical simulation. It is shown that this ratio is strongly depends on the
parameters of the experiments.
Численным моделированием исследуется соотношение самофокусировки за счет компенсации объёмного
заряда сгустков в плазме и фокусировки кильватерным полем, возбуждаемым в плазме. Показано, что это
соотношение сильно зависит от параметров экспериментов.
Числовим моделюванням досліджується співвідношення самофокусування за рахунок компенсації об'ємного заряду згустків у плазмі і фокусування кільватерним полем, збуджуваним у плазмі. Показано, що це
співвідношення дуже залежить від параметрів експериментів.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |