Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating
The additional pumping of energy into arc plasma flow by the self-consistently formed radially directed beam of
 high-energy electrons for evaporation of micro-droplets is considered. The radial beam appears near the inner
 cylindrical surface by secondary ion - electron emission at...
Збережено в:
| Опубліковано в: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2016 |
| ISSN: | 1562-6016 |
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115423 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating / A.A. Goncharov, V.I. Maslov, L.V. Naiko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 121-124. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | The additional pumping of energy into arc plasma flow by the self-consistently formed radially directed beam of
high-energy electrons for evaporation of micro-droplets is considered. The radial beam appears near the inner
cylindrical surface by secondary ion - electron emission at this surface bombardment by peripheral arc plasma flow
ions. The beam is accelerated by electric potential jump, appeared in a cylindrical channel of the plasma-optical
system in crossed radial electrical and longitudinal magnetic fields. The high-energy electrons pump, during the time
of micro-droplet movement through the system, the energy, which is sufficient for evaporation of micro-droplets.
Рассматривается дополнительная накачка энергии в поток дуговой плазмы с помощью
самосогласованно образуемого радиального пучка электронов для испарения капель. Пучок появляется
вблизи внутренней цилиндрической поверхности за счёт вторичной ионно-электронной эмиссии при её
бомбардировке периферийными ионами потока. Пучок ускоряется скачком электрического потенциала,
который появляется в цилиндрическом канале плазмо-оптической системы в скрещенных полях.
Высокоэнергетичные электроны накачивают за время движения микрокапель через систему энергию,
которая достаточна для испарения микрокапель.
Розглядається додаткове накачування енергії в потік дугової плазми за допомогою самоузгоджене
утвореного радіального пучка електронів для випаровування крапель. Пучок з'являється поблизу
внутрішньої циліндричної поверхні за рахунок вторинної іонно-електронної емісії при її бомбардуванні
периферійними іонами потоку. Пучок прискорюється стрибком електричного потенціалу, який
з'являється в циліндричному каналі плазмооптичної системи в схрещених полях. Високоенергетичні
електрони накачують за час руху крапель через систему енергію, яка достатня для випаровування
крапель.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |