Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating

• Veröffentlicht in: Вопросы атомной науки и техники
• Datum: 2016
• Hauptverfasser: Goncharov, A.A., Maslov, V.I., Naiko, L.V.
• Format: Artikel
• Sprache: Englisch
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
• Schlagworte: Plasma dynamics and plasma-wall interaction
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115423
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating / A.A. Goncharov, V.I. Maslov, L.V. Naiko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 121-124. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

The additional pumping of energy into arc plasma flow by the self-consistently formed radially directed beam of
 high-energy electrons for evaporation of micro-droplets is considered. The radial beam appears near the inner
 cylindrical surface by secondary ion - electron emission at this surface bombardment by peripheral arc plasma flow
 ions. The beam is accelerated by electric potential jump, appeared in a cylindrical channel of the plasma-optical
 system in crossed radial electrical and longitudinal magnetic fields. The high-energy electrons pump, during the time
 of micro-droplet movement through the system, the energy, which is sufficient for evaporation of micro-droplets. Рассматривается дополнительная накачка энергии в поток дуговой плазмы с помощью
 самосогласованно образуемого радиального пучка электронов для испарения капель. Пучок появляется
 вблизи внутренней цилиндрической поверхности за счёт вторичной ионно-электронной эмиссии при её
 бомбардировке периферийными ионами потока. Пучок ускоряется скачком электрического потенциала,
 который появляется в цилиндрическом канале плазмо-оптической системы в скрещенных полях.
 Высокоэнергетичные электроны накачивают за время движения микрокапель через систему энергию,
 которая достаточна для испарения микрокапель. Розглядається додаткове накачування енергії в потік дугової плазми за допомогою самоузгоджене
 утвореного радіального пучка електронів для випаровування крапель. Пучок з'являється поблизу
 внутрішньої циліндричної поверхні за рахунок вторинної іонно-електронної емісії при її бомбардуванні
 периферійними іонами потоку. Пучок прискорюється стрибком електричного потенціалу, який
 з'являється в циліндричному каналі плазмооптичної системи в схрещених полях. Високоенергетичні
 електрони накачують за час руху крапель через систему енергію, яка достатня для випаровування
 крапель.